溅射装置制造方法及图纸

公开了溅射装置。溅射装置包括移动衬底的衬底传输单元、布置在衬底传输单元上方并且支承靶材的背板以及布置在背板的与背板的面对衬底传输单元的第一表面相对的第二表面上的磁体，其中，背板包括第一部分和从第一部分以第一角度弯折的第二部分。第一角度弯折的第二部分。第一角度弯折的第二部分。

【技术实现步骤摘要】
溅射装置


[0001]本专利技术的实施方式涉及溅射装置。

技术介绍

[0002]随着多媒体技术的发展，显示装置在变得越来越重要。相应地，已使用了诸如液晶显示(“LCD”)装置、有机发光二极管(“OLED”)显示装置和类似物的各种显示装置。
[0003]在显示装置的制造期间可执行用于形成各种薄膜的图案化工艺。当通过薄膜的图案化形成精细图案时，期望形成几乎完好无损的高品质薄膜。取决于薄膜的材料和使用目的，薄膜可通过诸如化学气相沉积(“CVD”)、原子层沉积(“ALD”)或溅射的各种方法来形成。溅射为通过在相对低的压力下生成等离子体、加速诸如氩气的气体以及使气体与靶材碰撞以喷射分子而在附近的衬底上形成薄膜的一种真空沉积。

技术实现思路

[0004]本专利技术的实施方式提供了能够形成具有高沉积密度的薄膜的溅射装置。
[0005]本专利技术的实施方式提供了溅射装置，该溅射装置包括移动衬底的衬底传输单元、布置在衬底传输单元上方并且支承靶材的背板以及布置在背板的与背板的面对衬底传输单元的第一表面相对的第二表面上的磁体，其中，背本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射装置，包括：衬底传输单元，所述衬底传输单元移动衬底；背板，所述背板布置在所述衬底传输单元上方并且支承靶材；以及磁体，所述磁体布置在所述背板的第二表面上，所述第二表面与所述背板的面对所述衬底传输单元的第一表面相对，其中，所述背板包括第一部分和从所述第一部分以第一角度弯折的第二部分。2.如权利要求1所述的溅射装置，其中，从所述第一部分的所述第一表面和所述第二表面中的至少一个朝向所述衬底传输单元绘制的第一线和从所述第二部分的所述第一表面和所述第二表面中的至少一个朝向所述衬底传输单元绘制的第二线彼此相交为形成所述第一角度。3.如权利要求2所述的溅射装置，其中，所述磁体包括布置在所述第一部分上的第一磁体和布置在所述第二部分上的第二磁体，并且所述第一线和所述第二线分别穿过所述第一磁体的中心和所述第二磁体的中心。4.如权利要求2所述的溅射装置，其中，所述第一线和所述第二线在所述衬底上彼此相交。5.如权利要求3所述的溅射装置，其中，所述第一磁体在所述第一部分上往复运动，并且所述第二磁体在所述第二部分上往复运动。6.如权利要求5所述的溅射装置，其中，所述第一磁体和所述第二磁体之间的距离恒定。7.如权利要求2所述的溅射装置，其中，所述背板还包括第三部分，所述第三部分从所述第一部分以第二角度弯折，并且在所述第二部分和所述第三部分弯折之前，所述第三部分在与所述第二部分延伸的方向相反的方向上延伸。8.如权利要求7所述的溅射装置，其中，从所述第三部分的所述第一表面和所述第二表面中的至少一个朝向所述衬底传输单元绘制的第三线与所述第一线相交为形成所述第二角度。9.如权利要求8所述的溅射装置，其中，所述第一线、所述第二线和所述第三线在沉积焦点处彼此相交。10.如权利要求9所述的溅射装置，其中，所述沉积焦点形成在所述衬底上。11.如权利要求1所述的溅射装置，其中，所述衬底传输单元包括在一个方向上延伸的框架和沿所述框架为可移动的支承件，并且所述支承件支承所述衬底的侧表面。12.如权利要求1所述的溅射装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：深沢孝之，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：