基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置对被处理基板进行清洗以及干燥，其中，该基板处理装置向被处理基板上供给清洗液而形成清洗液层，向被处理基板上供给气体来局部地去除清洗液层而在被处理基板上生成第一干燥区域，一边使清洗液层与第一干燥区域的边界的移动速度在规定速度以下，一边将第一干燥区域扩大而生成第二干燥区域，并将第二干燥区域进一步扩大而生成第三干燥区域。第二干燥区域进一步扩大而生成第三干燥区域。第二干燥区域进一步扩大而生成第三干燥区域。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置以及基板处理方法
[0001]相关申请的引用
[0002]本申请以2021年09月22日申请的在先的日本专利申请第2021
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154588号的优先权的利益为基础，并且要求其利益，其内容整体通过引用而包含于此。


[0003]实施方式涉及基板处理装置以及基板处理方法。

技术介绍

[0004]已知有对被处理基板进行清洗以及干燥的基板处理装置以及基板处理方法。

技术实现思路

[0005]一个实施方式为，在对被处理基板进行清洗以及干燥时减少液滴残留。
[0006]实施方式的基板处理装置是一种对被处理基板进行清洗以及干燥的基板处理装置，其中，该基板处理装置具备向被处理基板上供给清洗液的清洗液喷嘴、向被处理基板上供给气体的气体喷嘴和对清洗液从清洗液喷嘴的供给状态以及气体从气体喷嘴的供给状态进行控制的控制部。控制部从清洗液喷嘴向被处理基板上供给清洗液而形成清洗液层，从气体喷嘴向被处理基板上供给气体来局部地去除清洗液层而在被处理基板上生成第一干燥区域，一边使清洗液层与第一干燥区域的边界的移动速本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，该基板处理装置对被处理基板进行清洗以及干燥，其特征在于，该基板处理装置具备：液体喷嘴，通过向所述被处理基板上供给液体而形成液层；气体喷嘴，通过向所述被处理基板上供给气体而形成干燥区域；控制部，对所述液体喷嘴以及所述气体喷嘴进行控制；以及监视机构，对作为所述液层与所述干燥区域的边界的干燥区域界面进行监视，所述控制部基于所述监视机构的监视结果，在从所述液体喷嘴供给所述液体的同时从所述气体喷嘴供给所述气体，并一边使所述干燥区域界面的移动速度为规定速度以下，一边形成所述干燥区域。2.一种基板处理装置，该基板处理装置对被处理基板进行清洗以及干燥，其特征在于，该基板处理装置具备：液体喷嘴，通过向所述被处理基板上供给液体而形成液层；气体喷嘴，通过向所述被处理基板上供给气体而形成干燥区域；控制部，对所述液体喷嘴以及所述气体喷嘴进行控制；以及监视机构，对作为所述液层与所述干燥区域的边界的干燥区域界面进行监视，所述控制部基于所述监视机构的监视结果，从所述液体喷嘴向所述被处理基板上供给清洗液而形成清洗液层，在从所述液体喷嘴供给所述液体的同时从所述气体喷嘴供给所述气体，在所述被处理基板上生成干燥区域，并将所述干燥区域缩小然后扩大。3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：犬饲美成子，寺山正敏，
申请(专利权)人：铠侠股份有限公司，
类型：发明
国别省市：