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本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置对被处理基板进行清洗以及干燥，其中，该基板处理装置向被处理基板上供给清洗液而形成清洗液层，向被处理基板上供给气体来局部地去除清洗液层而在被处理基板上生成第一干燥区域，一边使清洗液层与第...
该专利属于铠侠股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。

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