一种AlNd合金靶材的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种AlNd合金靶材的制备方法，涉及合金靶材制备领域，旨在解决目前的AlNd合金靶材制备时存在气孔的问题，其技术方案要点是：一种AlNd合金靶材的制备方法，包括以下步骤：S1、选用纯度为99.999％A1锭和纯度为99.99％Nd锭作为原料，按照原子质量份数，将＜2.5at％的Nd锭和剩余原子份数的A1锭加入气雾化设备中制备AlNd合金粉末；S2、将所述A1Nd合金粉末进行压制成型获得合金毛坯；S3、将所述合金毛坯进行热等静压成型；S4、将成型后的毛坯靶材进行退火；S5、将退火后的毛坯靶材根据图纸进行机械加工后与背板涂铟绑定并加工得到纯度＞99.99at％的AlNd合金靶材。本发明专利技术的一种A1Nd合金靶材的制备方法制备后无气孔，产品质量高。产品质量高。

【技术实现步骤摘要】
一种AlNd合金靶材的制备方法


[0001]本专利技术涉及合金靶材制备领域，更具体地说，它涉及一种AlNd合金靶材的制备方法。

技术介绍

[0002]高纯铝靶材在磁控溅射镀膜行业应用广泛，稀土元素Nd的存在，使得AlNd合金靶材的具有低电阻率、高耐热性和高溅射的特性。根据AlNd合金二元相图，在AlNd合金体系中，分别在635℃和640℃下，从Nd侧和Al侧的共晶体结晶出，Al一侧的共晶体的Nd含量为2.5％(at)。二元相图中，Nd含量＜2.5％(at)时，Nd在Al基体中的溶解度极低，据文献记录，在共晶温度640℃时，Nd在Al中的最大溶解度为＜0.037％(at)Nd、0.04％(at)Nd和＜0.04％(at)Nd。
[0003]目前市面上所使用的AlNd合金靶材均通过熔铸及热加工热处理制备而成，而因为Nd在Al中的溶解度极低，所以熔铸过程的反应不均匀、Nd的分布不均匀使得浇铸存在微小气孔存在，通过后续热加工只能改善无法彻底解决气孔问题，使得成品靶材晶粒分布不均匀且粗大，最终导致磁控溅射镀膜时电源压力偏高、镀膜效率较低、有电弧和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种AlNd合金靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、选用纯度为99.999％Al锭和纯度为99.99％Nd锭作为原料，按照原子质量份数，将＜2.5at％的Nd锭和剩余原子份数的Al锭加入气雾化设备中制备AlNd合金粉末；S2、将所述AlNd合金粉末进行压制成型获得合金毛坯；S3、将所述合金毛坯进行热等静压成型；S4、将成型后的毛坯靶材进行退火；S5、将退火后的毛坯靶材根据图纸进行机械加工后与背板涂铟绑定并加工得到纯度＞99.99at％的AlNd合金靶材。2.根据权利要求1所述的一种AlNd合金靶材的制备方法，其特征在于：在S1步骤中，气雾化设备的保护气氛为氩气、氮气或真空。3.根据权利要求2所述的一种AlNd合金靶材的制备方法，其特征在于：所述气雾化设备的温度为1100～1300℃，压力...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉玲，
申请(专利权)人：基迈克材料科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：