层叠体制造技术

层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。所述层叠体的通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的前述防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的重心位置为以下。以下。以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠体


[0001]本专利技术涉及层叠体，详细而言，涉及具备防污层的层叠体。

技术介绍

[0002]以往，从防止手垢、指纹等污物附着于薄膜基材的表面、光学薄膜等光学部件的表面的观点出发，已知的是形成防污层。
[0003]作为具备这种防污层的光学薄膜，提出了例如依次具备薄膜基材、防反射层和防污层的防反射薄膜(例如参照专利文献1)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2020
‑
52221号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]另一方面，若拭去附着于防污层的污物，则存在防污层的防污性降低的不良情况。
[0009]本专利技术提供即便在拭去附着于防污层的污物后，也能够抑制防污层的防污性降低的层叠体。
[0010]用于解决问题的方案
[0011]本专利技术[1]是一种层叠体，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层，前述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，所述层叠体的通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的前述防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的重心位置为以下。
[0012]本专利技术[2]包括上述[1]所述的层叠体，其中，在前述防污层的厚度方向的另一面具备底漆层。
[0013]本专利技术[3]包括上述[2]所述的层叠体，其中，前述底漆层为包含二氧化硅的层。
[0014]本专利技术[4]包括上述[3]所述的层叠体，其中，前述防污层通过具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物借助硅氧烷键而形成于前述底漆层。
[0015]本专利技术[5]包括上述[1]所述的层叠体，其中，在前述基材层与前述防污层之间还具备密合层和防反射层。
[0016]本专利技术[6]包括上述[5]所述的层叠体，其中，前述防反射层由具有互不相同的折射率的两个以上的层形成。
[0017]本专利技术[7]包括上述[6]所述的层叠体，其中，前述防反射层包含选自由金属、金属氧化物、金属氮化物组成的组中的1种。
[0018]本专利技术[8]包括上述[6]或[7]所述的层叠体，其中，前述防反射层的厚度方向的一个面为包含二氧化硅的层。
[0019]专利技术的效果
[0020]本专利技术的层叠体中的防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。另外，在防污层中，通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的重心位置为以下。因此，即便在拭去附着于防污层的污物后，也能够抑制防污层的防污性降低。
附图说明
[0021]图1表示本专利技术的层叠体的第一实施方式的剖视图。
[0022]图2中，图2的A～图2的C表示本专利技术的层叠体的第一实施方式的制造方法的一个实施方式。图2的A表示在第一工序中准备基材的工序。图2的B表示在第一工序中在基材上配置硬涂层(功能层)的工序。图2的C表示在基材层上配置防污层的第二工序。
[0023]图3中，图3的A和图3的B表示堆积于基材层的具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物的说明图。图3的A表示堆积于基材层的单个具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物的说明图。图3的B表示堆积于基材层的多个具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物的说明图。
[0024]图4表示本专利技术的层叠体的第二实施方式的剖视图。
[0025]图5中，图5的A～图5的D表示本专利技术的层叠体的第二实施方式的制造方法的一个实施方式。图5的A表示在第三工序中准备基材的工序。图5的B表示在第三工序中在基材上配置硬涂层(功能层)的工序。图5的C表示在基材层上依次配置密合层和光学功能层(防反射层)的第四工序。图5的D表示在光学功能层(防反射层)上配置防污层的第五工序。
[0026]图6表示本专利技术的层叠体的第一实施方式的变形例(在基材层与防污层之间还具备底漆层的层叠体)的剖视图。
[0027]图7表示实施例2的面内衍射(in
‑
plane)测定的结果。
[0028]图8表示实施例2的面内衍射(in
‑
plane)测定中的拟合结果。
具体实施方式
[0029]1.第一实施方式
[0030]参照图1，说明本专利技术的层叠体的第一实施方式。
[0031]在图1中，纸面的上下方向为上下方向(厚度方向)，纸面的上侧为上侧(厚度方向的一面侧)、纸面的下侧为下侧(厚度方向的另一面侧)。另外，纸面的左右方向和纵深方向为与上下方向正交的面方向。具体而言，基于各图的方向箭头。
[0032]<层叠体>
[0033]层叠体1呈现具有规定厚度的薄膜形状(包括片状)。层叠体1在与厚度方向正交的面方向上延伸。层叠体1具有平坦的上表面和平坦的下表面。
[0034]如图1所示那样，层叠体1朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层2和防污层3。更具体而言，层叠体1具备基材层2、以及直接配置在基材层2的上表面(厚度方向的一个面)上的防污层3。
[0035]层叠体1的总透光率(JIS K 7375
‑
2008)例如为80％以上、优选为85％以上。
[0036]层叠体1的厚度例如为300μm以下、优选为200μm以下，另外，例如为10μm以上、优选为30μm以上。
[0037]<基材层>
[0038]基材层2为用于确保层叠体1的机械强度的基材。
[0039]基材层2具有薄膜形状。基材层2以接触防污层3的下表面的方式配置于防污层3的整个下表面。
[0040]基材层2具备基材4和功能层5。具体而言，基材层2朝着厚度方向的一面侧依次具备基材4和功能层5。
[0041]基材层2的总透光率(JIS K 7375
‑
2008)例如为80％以上、优选为85％以上。
[0042]<基材>
[0043]基材4是借助防污层3而被赋予防污性的被处理体。
[0044]基材4具有薄膜形状。基材4优选具有挠性。基材4以接触功能层5的下表面的方式配置于功能层5的整个下表面。
[0045]作为基材4，可列举出例如高分子薄膜。作为高分子薄膜的材料，可列举出例如聚酯树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、烯烃树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚砜树脂、聚芳酯树脂、三聚氰胺树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、纤维素树脂和聚苯乙烯树脂。作为聚酯树脂，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯。作为(甲基)丙烯酸类树脂，可列举出例如聚甲基丙烯酸酯。作为烯烃树脂，可列举出例如聚乙烯、聚丙烯和环烯烃聚合物。作为纤维素树脂，可列举出例如三乙酸纤维素。作为高分子薄膜的材料，可优选列举出纤维素树脂，可更优选列举出三乙酸纤维素。
[0046]基材4的厚度例如为1μm以上、优选为5μm以上、更优选为10μm以上，另外，例如为200本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种层叠体，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层，所述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，所述层叠体的通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的所述防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的重心位置为以下。2.根据权利要求1所述的层叠体，其中，在所述防污层的厚度方向的另一面具备底漆层。3.根据权利要求2所述的层叠体，其中，所述底漆层为包含二氧化硅的层。4.根据权利要求3所述的层叠体，其中，所述防污层通过具有全氟...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫本幸大，梨木智刚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：