卧立反应室用稳固底座制造技术

本实用新型专利技术公开了卧立反应室用稳固底座，解决了现有立卧一体式加工设备的底座支撑范围不可调节，从而使得底座适应性差的问题，包括：底座框架，用于卧立反应室的防护；所述底座框架包括：至少一组反应室承托部，所述反应室承托部用于承托并保护所述卧立反应室；所述反应室承托部包括：至少一组主承托座；辅助承托座，以及用于连接所述主承托座以及辅助承托座的承托调节组件；本申请中设置有承托调节组件，承托调节组件可以适应不同规格型号卧立反应室，且反应室承托部的支撑范围灵活可调，满足了不同环境下的使用需求。足了不同环境下的使用需求。足了不同环境下的使用需求。

【技术实现步骤摘要】
卧立反应室用稳固底座


[0001]本技术具体涉及卧立反应室用稳固底座。

技术介绍

[0002]在聚酯材料生产过程中，需要使用各式各样的反应设备，反应室是保证原材料充分反应的场所，其中，卧立反应室是常见的反应室，卧立反应室在进行工作时，需要安装底座进行支撑，确保卧立反应室的工作位置。
[0003]中国专利CN111069668A公开了立卧一体式加工设备，所述立卧一体式加工设备包括：取力壳体、第一输出齿轴、第二输出齿轴、输入齿轴，第一输出齿轴、第二输出齿轴、输入齿轴安装在取力壳体内，第一输出齿轴、第二输出齿轴相啮合，第二输出齿轴、输入齿轴相啮合，但是现有立卧一体式加工设备的底座支撑范围不可调节，从而使得底座适应性差，因此，我们提出了卧立反应室用稳固底座。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于针对现有技术的不足之处，提供卧立反应室用稳固底座，解决了现有立卧一体式加工设备的底座支撑范围不可调节，从而使得底座适应性差的问题。
[0005]本技术是这样实现的，卧立反应室用稳固底座，所述卧立反应室用稳固底座包括：
[0006]底座框架，用于卧立反应室的防护；
[0007]其中，所述底座框架包括：
[0008]至少一组反应室承托部，所述反应室承托部用于承托并保护所述卧立反应室；
[0009]所述反应室承托部包括：
[0010]至少一组主承托座；
[0011]辅助承托座，以及
[0012]用于连接所述主承托座以及辅助承托座的承托调节组件，所述承托调节组件分别与主承托座以及辅助承托座连接，用于调节所述反应室承托部的承托范围。
[0013]优选地，还包括用于连接所述反应室承托部的承托支撑部，所述承托支撑部包括：
[0014]至少一组支撑立座，所述支撑立座的两端分别与承托调节组件连接，支撑立座用于支撑并连接所述反应室承托部；
[0015]第一辅助座，用于连接所述辅助承托座，且第一辅助座的两端分别与辅助承托座可拆卸连接；
[0016]与所述第一辅助座固定连接的辅助强化杆，辅助强化杆还与所述支撑立座固定连接。
[0017]优选地，所述承托支撑部还包括：
[0018]第二辅助座，用于连接所述主承托座，且第二辅助座的两端分别与主承托座可拆
卸连接。
[0019]优选地，所述承托调节组件包括：
[0020]承托连接座，所述承托连接座固定安装在主承托座内，且主承托座内开设有用于对所述承托连接座的水平限位槽。
[0021]优选地，所述承托调节组件还包括：
[0022]承托调节部，所述承托调节部分别与所述主承托座以及辅助承托座连接，且用于调节所述主承托座以及辅助承托座的间距。
[0023]优选地，所述承托调节部包括：
[0024]调节连接座，所述调节连接座与辅助承托座之间滑动连接；
[0025]与调节连接座滑动连接的调节限位座，所述调节限位座固定安装在主承托座上。
[0026]优选地，所述调节限位座以及调节连接座上分别开设有调节限位槽，所述调节限位槽内设置有调节固定件，所述调节固定件用于固定所述调节连接座。
[0027]优选地，所述辅助承托座包括：
[0028]至少一组连接座止动槽，所述连接座止动槽内设置有连接座止动杆，连接座止动杆用于固定所述调节连接座；
[0029]至少一组降噪消音部，所述降噪消音部可拆卸安装在辅助承托座上。
[0030]优选地，还包括设置在所述第一辅助座上的设备夹持机构，所述设备夹持机构用于夹持固定不同规格的卧立反应室，所述设备夹持机构包括：
[0031]设备夹持座，所述设备夹持座用于夹持并承托不同规格的卧立反应室。
[0032]优选地，所述设备夹持机构还包括：
[0033]夹持调节螺母；
[0034]与夹持调节螺母固定连接的调节螺纹杆，所述调节螺纹杆转动安装在所述第一辅助座上；
[0035]套设在所述调节螺纹杆上的调节升降件，调节升降件与调节螺纹杆之间通过螺纹连接，且调节升降件的一侧与设备夹持座之间固定连接。
[0036]与现有技术相比，本申请实施例主要有以下有益效果：
[0037]本申请中设置有承托调节组件，承托调节组件可以适应不同规格型号卧立反应室，且反应室承托部的支撑范围灵活可调，满足了不同环境下的使用需求。
附图说明
[0038]图1是本技术提供的卧立反应室用稳固底座的结构示意图。
[0039]图2是本技术的轴测图。
[0040]图3是本技术的主视图。
[0041]图4是本技术的侧视图。
[0042]图5是本技术的俯视图。
[0043]图中：1
‑
底座框架、11
‑
反应室承托部、111
‑
主承托座、1111
‑
水平限位槽、112
‑
辅助承托座、1121
‑
连接座止动槽、1122
‑
降噪消音部、12
‑
承托支撑部、121
‑
支撑立座、122
‑
第一辅助座、123
‑
第二辅助座、124
‑
辅助强化杆、2
‑
承托调节组件、21
‑
承托连接座、22
‑
承托调节部、221
‑
调节连接座、222
‑
调节限位座、223
‑
调节限位槽、224
‑
调节固定件、3
‑
设备夹持机
构、31
‑
夹持调节螺母、32
‑
调节螺纹杆、33
‑
调节升降件、34
‑
设备夹持座。
具体实施方式
[0044]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请
的技术人员通常理解的含义相同；本文中在申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。
[0045]在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
[0046]现有立卧一体式加工设备的底座支撑范围不可调节，从而使得底座适应性差，因此，我们提出了卧立反应室用稳固底座，所述卧立反应室用稳固底座包括本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.卧立反应室用稳固底座，其特征在于，所述卧立反应室用稳固底座包括：底座框架，用于卧立反应室的防护；其中，所述底座框架包括：至少一组反应室承托部，所述反应室承托部用于承托并保护所述卧立反应室；所述反应室承托部包括：至少一组主承托座；辅助承托座，以及用于连接所述主承托座以及辅助承托座的承托调节组件，所述承托调节组件分别与主承托座以及辅助承托座连接，用于调节所述反应室承托部的承托范围。2.如权利要求1所述的卧立反应室用稳固底座，其特征在于：还包括用于连接所述反应室承托部的承托支撑部，所述承托支撑部包括：至少一组支撑立座，所述支撑立座的两端分别与承托调节组件连接，支撑立座用于支撑并连接所述反应室承托部；第一辅助座，用于连接所述辅助承托座，且第一辅助座的两端分别与辅助承托座可拆卸连接；与所述第一辅助座固定连接的辅助强化杆，辅助强化杆还与所述支撑立座固定连接。3.如权利要求2所述的卧立反应室用稳固底座，其特征在于：所述承托支撑部还包括：第二辅助座，用于连接所述主承托座，且第二辅助座的两端分别与主承托座可拆卸连接。4.如权利要求1
‑
3任一所述的卧立反应室用稳固底座，其特征在于：所述承托调节组件包括：承托连接座，所述承托连接座固定安装在主承托座内，且主承托座内开设有用于对所述承托连接座的水平限位槽。5.如权利要求4所述的卧立反应室用稳固底座，其特征在于：所述承托调节组件还包括：承托调节部，所述承托调节部分别与...

【专利技术属性】
技术研发人员：林双全，
申请(专利权)人：骏全厦门新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：