卧立反应室用稳固底座制造技术

本实用新型专利技术公开了卧立反应室用稳固底座，解决了现有立卧一体式加工设备的底座支撑范围不可调节，从而使得底座适应性差的问题，包括：底座框架，用于卧立反应室的防护；所述底座框架包括：至少一组反应室承托部，所述反应室承托部用于承托并保护所述卧立反应室；所述反应室承托部包括：至少一组主承托座；辅助承托座，以及用于连接所述主承托座以及辅助承托座的承托调节组件；本申请中设置有承托调节组件，承托调节组件可以适应不同规格型号卧立反应室，且反应室承托部的支撑范围灵活可调，满足了不同环境下的使用需求。足了不同环境下的使用需求。足了不同环境下的使用需求。

【技术实现步骤摘要】
卧立反应室用稳固底座


[0001]本技术具体涉及卧立反应室用稳固底座。

技术介绍

[0002]在聚酯材料生产过程中，需要使用各式各样的反应设备，反应室是保证原材料充分反应的场所，其中，卧立反应室是常见的反应室，卧立反应室在进行工作时，需要安装底座进行支撑，确保卧立反应室的工作位置。
[0003]中国专利CN111069668A公开了立卧一体式加工设备，所述立卧一体式加工设备包括：取力壳体、第一输出齿轴、第二输出齿轴、输入齿轴，第一输出齿轴、第二输出齿轴、输入齿轴安装在取力壳体内，第一输出齿轴、第二输出齿轴相啮合，第二输出齿轴、输入齿轴相啮合，但是现有立卧一体式加工设备的底座支撑范围不可调节，从而使得底座适应性差，因此，我们提出了卧立反应室用稳固底座。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于针对现有技术的不足之处，提供卧立反应室用稳固底座，解决了现有立卧一体式加工设备的底座支撑范围不可调节，从而使得底座适应性差的问题。
[0005]本技术是这样实现的，卧立反应室用稳固底座，所述卧立反应室用稳固底座包括：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.卧立反应室用稳固底座，其特征在于，所述卧立反应室用稳固底座包括：底座框架，用于卧立反应室的防护；其中，所述底座框架包括：至少一组反应室承托部，所述反应室承托部用于承托并保护所述卧立反应室；所述反应室承托部包括：至少一组主承托座；辅助承托座，以及用于连接所述主承托座以及辅助承托座的承托调节组件，所述承托调节组件分别与主承托座以及辅助承托座连接，用于调节所述反应室承托部的承托范围。2.如权利要求1所述的卧立反应室用稳固底座，其特征在于：还包括用于连接所述反应室承托部的承托支撑部，所述承托支撑部包括：至少一组支撑立座，所述支撑立座的两端分别与承托调节组件连接，支撑立座用于支撑并连接所述反应室承托部；第一辅助座，用于连接所述辅助承托座，且第一辅助座的两端分别与辅助承托座可拆卸连接；与所述第一辅助座固定连接的辅助强化杆，辅助强化杆还与所述支撑立座固定连接。3.如权利要求2所述的卧立反应室用稳固底座，其特征在于：所述承托支撑部还包括：第二辅助座，用于连接所述主承托座，且第二辅助座的两端分别与主承托座可拆卸连接。4.如权利要求1
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3任一所述的卧立反应室用稳固底座，其特征在于：所述承托调节组件包括：承托连接座，所述承托连接座固定安装在主承托座内，且主承托座内开设有用于对所述承托连接座的水平限位槽。5.如权利要求4所述的卧立反应室用稳固底座，其特征在于：所述承托调节组件还包括：承托调节部，所述承托调节部分别与...

【专利技术属性】
技术研发人员：林双全，
申请(专利权)人：骏全厦门新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：