本发明专利技术有关于一种能产生变色图案的电致变色装置。该电致变色装置由上而下依序包含图案形成层、光学镀膜层、电致变色元件、白色不透光层；其中，图案形成层设有图案造形镂空孔，以使光学镀膜层在对应图案造形镂空孔处显露；光学镀膜层由高折射率材料与低折射率材料交互堆叠形成；电致变色元件在变色穿透度低于50％时，穿透光波长于500nm、600nm、700nm穿透度的强度相差不会大于10％；而白色不透光层系用以增加光线反射所显示颜色的对比性；据此，使该电致变色装置在电致变色元件去色态与着色态时，由图案造形镂空孔处显露的光学镀膜层反射出不同颜色光线。出不同颜色光线。出不同颜色光线。
【技术实现步骤摘要】
能产生变色图案的电致变色装置
[0001]本专利技术有关于一种能产生变色图案的电致变色装置，尤其是指一种通过光学镀膜层显露于图案造形镂空孔处的设置，能在电致变色元件的着色与去色状态下，反射出不同颜色的光线，而能将该装置应用于展示图案变色的场域中。
技术介绍
[0002]变色材料是指一种受到外在因素影响而改变颜色的材料，一般外在因素导致变色的机制可为光、温度或电场，这种透过外在因素的刺激而产生颜色变化的变色材料常被应用于镜片、玻璃、后视镜、电子纸等类产品中。
[0003]其中，透过电场的施加产生颜色的可逆变化即为电致变色材料，而用该电致变色材料制成的器件被称为电致变色元件。电致变色元件在外加电压的施加变化下产生着色态或去色态，改变物品的外观颜色，例如变色镜片、智能变色玻璃等。然而，就变色镜片、智能变色玻璃的颜色呈现取决于电致变色元件中所使用的变色材料，其颜色在电致变色元件出厂之后便被固定，无法改变。
[0004]今，本专利技术人即是鉴于电致变色元件产生的着色态与去色态的颜色只能由使用的变色材料来改变，实际的使用上与应用的场合遭受极大的限制，无法因应瞬息万变的市场潮流，因而开发出本专利技术。
技术实现思路
[0005]本专利技术的主要目的，是提供一种能产生变色图案的电致变色装置，当电致变色元件呈现着色态或去色态时，光线会因为光学镀膜层的膜层设计，而反射出不同颜色，增加电致变色装置应用场合的广泛性。
[0006]本专利技术的目的及功效，是由以下技术实现：
[0007]一种能产生变色图案的电致变色装置，其由上而下依序包含：
[0008]一图案形成层，所述图案形成层设有至少一图案造形镂空孔，所述图案造形镂空孔的区域为光线反射作用区；
[0009]一光学镀膜层，由高折射率材料与低折射率材料交互堆叠形成总层数至少二层的层状结构体，所述光学镀膜层在对应所述图案形成层的图案造形镂空孔处的区域形成显露状态以反射光线；
[0010]一电致变色元件，包括由上而下依序叠设的第一基材层、第一透明导电层、第一电致变色层、电解质层、第二电致变色层、第二透明导电层、第二基材层；所述电致变色元件在变色穿透度低于50％时，穿透光波长于500nm、600nm、700nm穿透度的强度相差不会大于10％；以及
[0011]一白色不透光层，用于增加光线反射所显示颜色的对比性。
[0012]如上所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述第一电致变色层选用氧化钨膜层，所述第二电致变色层选用氧化镍膜层。
[0013]如上所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述氧化钨膜层的厚度为300nm
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1200nm，所述氧化镍膜层的厚度为300nm
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1200nm。
[0014]如上所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述电解质厚度为80μm
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350μm。
[0015]如上所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述高折射率材料选自二氧化钛(TiO2)、五氧化三钛(Ti3O5)、五氧化二铌(Nb2O5)其中之一。
[0016]如上所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述低折射率材料选自二氧化硅(SiO2)。
[0017]如上所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述光学镀膜层以所述高折射率材料与所述低折射率材料由下往上依序交互堆叠。
[0018]如上所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述光学镀膜层包含第一光学镀膜层与第二光学镀膜层，所述第一光学镀膜层与所述第二光学镀膜层皆是以所述高折射率材料与所述低折射率材料由下往上依序交互堆叠，所述第一光学镀膜层与所述第二光学镀膜层由所述高折射率材料与所述低折射率材料交互堆叠后的总层数不同，所述第一光学镀膜层与所述第二光学镀膜层共同对应到至少一所述图案造形镂空孔，或是所述第一光学镀膜层与所述第二光学镀膜层分别各自对应到至少一所述图案造形镂空孔。
[0019]如上所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述光学镀膜层包含第一光学镀膜层与第二光学镀膜层，所述第一光学镀膜层与所述第二光学镀膜层皆是以所述高折射率材料与所述低折射率材料由下往上依序交互堆叠，所述第一光学镀膜层与所述第二光学镀膜层中的所述高折射率材料与所述低折射率材料的堆叠厚度不同，所述第一光学镀膜层与所述第二光学镀膜层共同对应到至少一所述图案造形镂空孔，或是所述第一光学镀膜层与所述第二光学镀膜层分别各自对应到至少一所述图案造形镂空孔。
附图说明
[0020]图1为本专利技术的能产生变色图案的电致变色装置的结构示意图。
[0021]图2为当电致变色元件变色时，所呈现不同透光度强度的曲线图。
[0022]图3为本专利技术的能产生变色图案的电致变色装置再一实施例的结构示意图。
[0023]图4为本专利技术的能产生变色图案的电致变色装置另一实施例的结构示意图。
[0024]图5为穿透实施例1中的光学镀膜层在电致变色元件着色状态下的光谱图。
[0025]图6为穿透实施例1中的光学镀膜层在电致变色元件去色状态下的光谱图。
[0026]图7为穿透实施例2的光学镀膜层在电致变色元件着色状态下的光谱图。
[0027]图8为穿透实施例2的光学镀膜层在电致变色元件去色状态下的光谱图。
[0028]图9为图5对应的光学镀膜层和图案造形镂空孔的照片。
[0029]图10为图6对应的光学镀膜层和图案造形镂空孔的照片。
[0030]图11为图7对应的光学镀膜层和图案造形镂空孔的照片。
[0031]图12为图8对应的光学镀膜层和图案造形镂空孔的照片。
[0032]符号说明
[0033]1：图案形成层
[0034]11：图案造形镂空孔
[0035]2：光学镀膜层
[0036]2a：第一光学镀膜层
[0037]2b：第二光学镀膜层
[0038]3：电致变色元件
[0039]31：第一基材层
[0040]32：第一透明导电层
[0041]33：第一电致变色层
[0042]34：电解质层
[0043]35：第二电致变色层
[0044]36：第二透明导电层
[0045]37：第二基材层
[0046]4：白色不透光层
具体实施方式
[0047]为了对本专利技术的技术特征、目的和有益效果有更加清楚的理解，现对本专利技术的技术方案进行以下详细说明，但不能理解为对本专利技术的可实施范围的限定。
[0048]为令本专利技术所运用的
技术实现思路
、专利技术目的及其达成的功效有更完整且清楚的说明，兹于下详细说明之，并请一并参阅所提供的图式及图号：
[0049]请参图1所示，为本专利技术的能产生变色图案的电致变色装置的一较佳实施例的结构示意图。
[0050]本专利技术的电致变色装置由上而下依序设置图案形成层1、光学镀膜层2、电致变色元件3以及白色不本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种能产生变色图案的电致变色装置，其由上而下依序包含：一图案形成层，所述图案形成层设有至少一图案造形镂空孔，所述图案造形镂空孔的区域为光线反射作用区；一光学镀膜层，由高折射率材料与低折射率材料交互堆叠形成总层数至少二层的层状结构体，所述光学镀膜层在对应所述图案形成层的图案造形镂空孔处的区域形成显露状态以反射光线；一电致变色元件，包括由上而下依序叠设的第一基材层、第一透明导电层、第一电致变色层、电解质层、第二电致变色层、第二透明导电层、第二基材层；所述电致变色元件在变色穿透度低于50％时，穿透光波长于500nm、600nm、700nm穿透度的强度相差不会大于10％；以及一白色不透光层，用于增加光线反射所显示颜色的对比性。2.如权利要求1所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述第一电致变色层选用氧化钨膜层，所述第二电致变色层选用氧化镍膜层。3.如权利要求2所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述氧化钨膜层的厚度为300nm
‑
1200nm，所述氧化镍膜层的厚度为300nm
‑
1200nm。4.如权利要求1、2或3任一项所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述电解质厚度为80μm
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350μm。5.如权利要求4所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述高折射率材料选自二氧化钛、五氧化三钛、五氧化二铌其中之一。6.如权利要求5所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述低折射率材料选自二氧化硅。7.如权利要求6所述的能产生变色图案的电致变色装置，其中，所述光学镀膜层包括第一光学镀膜层、第二光学镀膜层，所述第一光学镀膜层以所述高折射率材料与所述低折射率材料由下而上依序交互堆叠；所述第二光学镀膜层以所述高折射率材料与所述低折射率材料由下而上依序交互堆叠；所述第一光学镀膜层、所述第二光学镀膜层经所述高折射率材料与所述低折射率材料堆叠后的总层数不同；所述第一光学镀膜层、所述第二光学镀膜层共同对应到至少一所述图案造形镂...
【专利技术属性】
技术研发人员：钟仪文，
申请(专利权)人：裕达科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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