【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种高频及中频感应加热温度控制装置。
技术介绍
目前在晶体生长及冶金等行业中高频及中频感应加热是非常普遍应用的加热方法，通常采用拾波线圈获取与加热功率正向相关的信号对加热功率进行控制，在晶体生长行业中温度控制的精度要求很高，通常控制的方法有热电偶控温、光信号控温以及功率信号控温多种。热电偶控温通常比较准确，但是通常使用的是双铂铑热电偶，对于高熔点晶体生长来说，控温的温度还是很低的。其他现有的高温热电偶由于具有氢化、易断、单次使用成本高等缺点。应用受限。光信号控制温度比较高，理论上可以达到坩埚使用温度的上限，但是这种方法也具有一定的弊病，即在600℃以下由于材料的辐射很弱，无法进行温度控制，这使得在晶体生长的降温阶段不得不采用手动降温，很容易炸裂。另外，有时由于气流扰动和熔体内对流以及保温材料落下等原因也会造成温度控制的不稳定。如图1所示。功率信号控温优越性比较多，比如控温范围比较宽和受炉内流体扰动比较小等。但是这种方法控温信号受拾波线圈所处环境影响较大，当外界干扰电磁信号产生瞬时变化时，会影响导流板上的加热电流。如图2所示。综上所述，以上各种控温方式均...
【技术保护点】
一种高频及中频感应加热温度控制装置，其特征在于它由拾波线圈（１）、滤波电阻电容（２）、真空热偶管（３）和杜瓦瓶（５）组成，拾波线圈（１）的两端并联滤波电阻电容（２）后接真空热偶管（３）的灯丝（３１）相连，而真空热偶管（３）的热电偶（３２）的两端延伸一控温信号端（３３），真空热偶管（３）放在盛满变压器油（４）的杜瓦瓶（５）中。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵志伟，徐军，邓佩珍，徐晓东，宋平新，周圣明，周国清，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]
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