一种新型磁控溅射镀膜载具制造技术

本实用新型专利技术公开一种新型磁控溅射镀膜载具，真空舱、舱门，所述舱门对真空舱进行密封，其特征在于：所述舱门上安装有上底座与下底座，所述舱门处设有设有分别穿入上底座与下底座内部的靶材，所述下底座端部安装有靶材驱动旋转的驱动机构。本申请将舱门与真空舱的底部转动连接，让开启后的舱门呈水平放置状态展开，舱门上安装的上底座与下底座，分别开设第一通孔与第二通孔，靶材通过插拔的方式穿过第一通孔并穿入第二通孔内部，在第一通孔上填上密封塞对靶材以挤压的方式进行固定，并对靶材内部进行密封，可实现对靶材进行注射冷却以及转动控制，与靶材直接接触的固定部件具备旋转特性，让靶材具备稳定可旋转效果的同时拆卸更加方便。加方便。加方便。

【技术实现步骤摘要】
一种新型磁控溅射镀膜载具


[0001]本技术涉及磁控溅射镀膜
，尤其涉及一种新型磁控溅射镀膜载具。

技术介绍

[0002]磁控溅射镀膜时，是将基板与靶材放置于溅射镀膜舱中，在将溅射镀膜舱内的空气利用真空泵抽走，在不断的向腔体中引入氩气，产生一种低压氩气环境，高电压施加到靶材中，产生等离子体，等离子体中由氩原子和带正电荷的氩离子和自由电子组成，电子不断撞击氩原子从而不断产生带正电荷的氩离子，让溅射靶材带负电荷，氩离子被吸引飞向靶材表面，氩离子撞击靶材，从靶材表面弹出靶体原子，弹射处的靶体原子沉积到基板上。溅射镀膜通过控制好电流，可实现多次重复镀膜，且每次镀膜厚度均匀不会变化，镀膜的后端具有良好的可控性与重复性。
[0003]溅射系统根据基板需要有不同的尺寸，镀膜材料来自旋转的溅射靶材，靶材在使用时需要对靶材进行固定同时具备旋转效果，因此每次靶材的更换步骤就变的很繁琐，更换效率难以提高。

技术实现思路

[0004]本技术针对现有技术中的不足，提供一种新型磁控溅射镀膜载具，采用插拔安装的方式装卸靶材，并挤压的方式对靶材进行固本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型磁控溅射镀膜载具，真空舱（100）、舱门（200），所述舱门（200）对真空舱（100）进行密封，其特征在于：所述舱门（200）上安装有上底座（300）与下底座（400），所述舱门（200）处设有设有分别穿入上底座（300）与下底座（400）内部的靶材（500），所述下底座（400）端部安装有靶材（500）驱动旋转的驱动机构（600）。2.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜载具，其特征在于：所述上底座（300）上贯穿开设有第一通孔（301），所述第一通孔（301）侧壁开安装有导电片（302），所述靶材（500）呈管状设置可穿过第一通孔（301）。3.根据权利要求2所述的一种新型磁控溅射镀膜载具，其特征在于：所述第一通孔（301）上安装有密封塞（303），所述密封塞（303）端部转动连接有与导电片（302）连通的金属件（304），所述金属件（304）对靶材（500）进行固定。4.根据权利要求3所述的一种新型磁控溅射镀膜载具，其特征在于：所述金属件（304）端部固定有磁铁柱（305）。5.根据权利要求4所述的一种新型磁控溅射镀膜载具，其特征在于：所述磁铁柱（305）穿过靶材（500）进入下底座（40...

【专利技术属性】
技术研发人员：励佩燕，
申请(专利权)人：宁波新鑫玻璃科技有限公司，
类型：新型
国别省市：