【技术实现步骤摘要】
一种掩模对准交接装置
[0001]本专利技术涉及掩模传输
,具体而言,涉及一种掩模对准交接装置。
技术介绍
[0002]掩模版是曝光工艺不可缺少的物料,掩模版上承载有设计图形,光线透过图形,把设计图形投射在晶圆上。掩模传输是将掩模版从版库加载到掩模台,并且保证一定的上版精度,依靠一种掩模定位装置完成掩模版的对准,从而保证上版精度。现有技术的缺点:
[0003]现有设备掩模版的对准方式,通常在传输系统中安装掩模版位置测量系统,将读取到的掩模版位置偏差传输给上位机,上位机下发位置补偿指令,机械手通过移动补偿掩模版位置偏差,达到掩模版对准的目的,现有技术需要设计位置测量系统、掩模版对准标记和机械手补偿运动轴,对准流程繁琐,结构复杂。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种掩模对准交接装置,其能够完成掩模版的对准、固定和交接,并且对准操作简单,整体结构简单。
[0005]本专利技术的技术方案是这样实现的:
[0006]一种掩模对准交接装置,包括固定架,所述固定架的底部设置 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩模对准交接装置,其特征在于,包括固定架(4),所述固定架(4)的底部设置用于吸附固定掩模版(1)的吸盘(2),所述固定架(4)的四侧分别对应设置有前侧板(801)、后侧板(802)、左侧板(803)和右侧板(804),所述固定架(4)朝向所述前侧板(801)、所述后侧板(802)、所述左侧板(803)和所述右侧板(804)的方向分别为前向、后向、左向和右向;所述固定架(4)上设置驱动机构(6),所述驱动机构(6)与所述前侧板(801)、所述后侧板(802)、所述左侧板(803)和所述右侧板(804)连接,能够同时驱动所述前侧板(801)和所述后侧板(802)相向移动、以及所述左侧板(803)和所述右侧板(804)相向移动;所述前侧板(801)、所述后侧板(802)、所述左侧板(803)和所述右侧板(804)上均固定设置有定位柱(7),所述前侧板(801)、所述后侧板(802)、所述左侧板(803)和所述右侧板(804)上的所述定位柱(7)能够共同抵接所述掩模版的四侧以对掩模版水平方向进行定位。2.根据权利要求1所述的掩模对准交接装置,其特征在于,所述驱动机构(6)包括第一气缸(601)、第二气缸(602)、第三气缸(603)和第四气缸(604),所述第一气缸(601)与所述前侧板(801)连接,所述第二气缸(602)与所述后侧板(802)连接,所述第三气缸(603)与所述左侧板(803)连接,所述第四气缸(604)与所述后侧板(802)连接。3.根据权利要求2所述的掩模对准交接装置,其特征在于,还包括真空吸附机构(3),所述真空吸附机构(3)包括第一真空管路(301)和第二真空管路(302),所述第一真空管路(301)与所述第一气缸(601)、所述第二气缸(602)连通,所述第二真空管路(302)与所述第三气缸(603)、所述第四气缸(604)连通。4.根据权利要求3所述的掩模对准交接装置,其特征在于,所述真空吸附机构(3)还包括第三真空管路(303),所述吸盘(2)设置有真空吸附腔,所述真空吸附腔包...
【专利技术属性】
技术研发人员:王浩楠,赵晨阳,刘嘉玮,
申请(专利权)人:北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所,
类型:发明
国别省市:
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