一种硅烷类物质的处理系统技术方案

本实用新型专利技术提供了硅烷类物质的处理系统，包括硅烷类物质存储装置以及若干连接管路，硅烷类物质存储装置用于盛放硅烷类物质，硅烷类物质存储装置上设置有进气口和出气口，硅烷类物质存储装置连接有压缩空气装置；进气口设置有第一惰性气体装置；第一惰性气体装置与进气口连接；出气口设置有第二惰性气体装置和燃烧室，第二惰性气体装置和燃烧室分别与所述出气口连接；第一惰性气体装置和所述第二惰性气体装置内存储有惰性气体。通过采用在惰性气体保护下，利用惰性气体产生的压力将其压至燃烧室进行焚烧处置，在高温之下六氯乙硅烷得以彻底分解，达到无害化处置。达到无害化处置。达到无害化处置。

【技术实现步骤摘要】
一种硅烷类物质的处理系统


[0001]本技术涉及半导体
，特别涉及一种硅烷类物质的处理系统。

技术介绍

[0002]硅烷类物质广泛应用于半导体行业，但是硅烷类物质多数对水敏感，如六氯乙硅烷和三(二甲氨基)硅烷遇水放出易燃气体的物质或混合物，因此在处理时应避免酸性物质、氧化性物质(氧化剂)、水、水分、以及空气中的湿气，传统的此类物质一般采用水解进行处理，但由于此类物质在常温下与水接触会发生水解反应，形成易燃性物质，导致讯在很大的安全风险，中国专利CN 102791360 A(申请日2011.03.09，公开日2012.11.21)提出了一种新的六氯乙硅烷的处理方式，将六氯乙硅烷引入脲和醇的混合物中，实现对于六氯乙硅烷处置。但该方法需要额外加入其他有机化合物，增加了处置成本。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本技术提供一种硅烷类物质的处理系统，用以解决现有技术中采用水解处理工艺产生易燃物质的问题，具体方案为：
[0004]一种硅烷类物质的处理系统，包括硅烷类物质存储装置以及若干连接管路，
[0005]所述硅烷类物质存储装置用于盛放所述硅烷类物质，所述硅烷类物质存储装置上设置有进气口和出气口，所述硅烷类物质存储装置的进气口和出气口处分别设置有气动阀门，所述气动阀门通过管路连接有压缩空气装置；
[0006]所述进气口设置有第一惰性气体装置；
[0007]所述第一惰性气体装置与进气口通过管路连接；
[0008]所述出气口设置有第二惰性气体装置和燃烧室，所述第二惰性气体装置和燃烧室分别与所述出气口通过管路连接；
[0009]所述第一惰性气体装置和所述第二惰性气体装置内存储有惰性气体。
[0010]优选的，所述进气口与第一惰性气体装置之间的管路上设置有第一阀门，
[0011]所述出气口与燃烧室之间的管路上依次间隔设置有第二阀门、第三阀门以及第四阀门；
[0012]所述第二惰性气体装置通过输出管路连接在所述第二阀门和第三阀门之间的管路上，所述第二惰性气体装置的输出管路上设置有第五阀门。
[0013]优选的，所述第一惰性气体装置和第二惰性气体装置上分别设置有压力调节阀。
[0014]优选的，所述惰性气体为N2。
[0015]优选的，所述硅烷类物质包括六氯已硅烷和三(二甲氨基)硅烷中的任意一种。
[0016]与现有技术相比，本申请的有益效果在于：
[0017]本申请通过在硅烷类物质存储装置的进气口和出气口分别连接有第一惰性气体装置和第二惰性气体装置，使六氯乙硅烷在惰性气体(N2)保护下，利用惰性气体产生的压力将其压至燃烧室进行焚烧处置，在高温之下HCDS得以彻底分解，达到无害化处置。
[0018]下面通过附图和实施例，对本技术的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
[0019]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0020]图1为本技术实施例中一种硅烷类物质的处理系统的结构示意图，
[0021]其中，1
‑
第一阀门，2
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第五阀门，3
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第二阀门，4
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第三阀门，5
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第四阀门，6
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压力调节阀，7
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第一惰性气体装置，8
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第二惰性气体装置，9
‑
硅烷类物质存储装置，10
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燃烧室。
具体实施方式
[0022]以下结合附图对本技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本技术，并不用于限定本技术。
[0023]根据附图1所示的一种硅烷类物质的处理系统，包括硅烷类物质存储装置9以及若干连接管路，
[0024]所述硅烷类物质存储装置9用于盛放所述硅烷类物质，所述硅烷类物质存储装置9上设置有进气口和出气口，所述硅烷类物质存储装置9的进气口和出气口处分别设置有气动阀门，所述气动阀门通过管路连接有压缩空气装置；
[0025]所述进气口设置有第一惰性气体装置7；
[0026]所述第一惰性气体装置7与进气口通过管路连接；
[0027]所述出气口设置有第二惰性气体装置8和燃烧室10，所述第二惰性气体装置8和燃烧室10分别与所述出气口通过管路连接；
[0028]所述第一惰性气体装置7和所述第二惰性气体装置8内存储有惰性气体。
[0029]进一步的，所述进气口与第一惰性气体装置7之间的管路上设置有第一阀门1，
[0030]所述出气口与燃烧室10之间的管路上依次间隔设置有第二阀门3、第三阀门4以及第四阀门5；
[0031]所述第二惰性气体装置8通过输出管路连接在所述第二阀门3和第三阀门4之间的管路上，所述第二惰性气体装置8的输出管路上设置有第五阀门2。
[0032]进一步的，所述第一惰性气体装置7和第二惰性气体装置8上分别设置有压力调节阀6。
[0033]进一步的，所述惰性气体为N2。
[0034]进一步的，所述硅烷类物质包括六氯已硅烷和三(二甲氨基)硅烷中的任意一种。
[0035]需要说明的是，本申请主要用于处理遇水易反应的硅烷类物质，在本申请中此类物质是指六氯已硅烷和三(二甲氨基)硅烷；
[0036]本申请中的各装置之间的连接均通过管路连接，本申请中的所有阀门的安装均采用常规的安装方式安装在各连接管路上；
[0037]本申请中的第一惰性气体装置7和第二惰性气体装置8均为存放惰性气体的容器，在本实施例中第一惰性气体装置7和第二惰性气体装置8均为N2储罐；
[0038]为具体说明本系统的工作过程，先通过两个实施例进行具体说明实施例一，
[0039]在本申请中的硅烷类物质存储装置是指存放六氯乙硅烷存或三(二甲氨基)硅烷
的容器，在本实施例一中为六氯乙硅烷储罐。
[0040]本装置的使用步骤为：
[0041]鉴于HCDS遇水、潮湿空气可能被点燃，与水发生剧烈反应，遇水产生可燃性气体等特点，本申请采用在惰性气体(N2)保护下，利用惰性气体产生的压力将其压至燃烧室进行焚烧处置，在高温之下HCDS得以彻底分解，达到无害化处置。
[0042]经过燃烧室燃烧产生的烟气经过脱硝、脱酸、布袋除尘等高标准尾气处理净化设施处置，达到GB18484
‑
2020《危险废物焚烧污染控制标准》要求，安全排放；具体处置流程如下：
[0043]第一步，进行HCDS罐处置
[0044](1)接通HCDS进、出口处置管路；
[0045](2)开启第一惰性气体装置7和第二惰性气体装置8中的压力调节阀门6，将第一惰性气体装置7的进口压力调节至0.35MPa，第二惰性气体装置8出口压力调本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅烷类物质的处理系统，其特征在于，包括硅烷类物质存储装置(9)以及若干连接管路，所述硅烷类物质存储装置(9)用于盛放所述硅烷类物质，所述硅烷类物质存储装置(9)上设置有进气口和出气口，所述硅烷类物质存储装置(9)的进气口和出气口处分别设置有气动阀门，所述气动阀门通过管路连接有压缩空气装置；所述进气口设置有第一惰性气体装置(7)；所述第一惰性气体装置(7)与进气口通过管路连接；所述出气口设置有第二惰性气体装置(8)和燃烧室(10)，所述第二惰性气体装置(8)和燃烧室(10)分别与所述出气口通过管路连接；所述第一惰性气体装置(7)和所述第二惰性气体装置(8)内存储有惰性气体。2.根据权利要求1所述的一种硅烷类物质的处理系统，其特征在于，所述进气口与第一惰...

【专利技术属性】
技术研发人员：范增华，赵卫强，唐金月，何礼龙，章建博，吕晓武，訾严，
申请(专利权)人：陕西新天地固体废物综合处置有限公司，
类型：新型
国别省市：