有机电激发光元件的制造方法薄膜移除设备及擦拭装置制造方法及图纸

一种薄膜移除设备，其是适于移除一基板上的一薄膜，而薄膜移除设备例如包括一底座、一擦试装置传动机构、一擦试装置与一定位平台。其中，擦试装置传动机构是配设于底座上。此外，擦试装置是配设于擦试装置传动机构上。另外，定位平台是配设于底座上，以承载基板，其中擦试装置传动机构是带动擦试装置，以将基板上的薄膜移除。基于上述，薄膜移除设备使用擦试方式去除薄膜，以降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种发光元件的制造方法及薄膜移除设备，且特别是有关于一种有机电激发光元件(Organic Electro-Luminescent Device，OELD)的制造方法薄膜移除设备及其擦拭装置。
技术介绍
有机电激发光元件是一种利用有机功能性材料(organic functionalmaterial)的自发光特性来达到显示效果的元件，其中依照有机功能性材料的分子量分为小分子有机电激发光元件(Small Molecule OELD，SM-OELD)与高分子电激发光元件(Polymer Electro-Luminescent Device，PELD)两大类。两者的发光结构皆是由一对电极以及有机功能性材料层所构成。当施加直流电压时，电洞从阳极(anode)注入有机功能性材料层，而电子从阴极(cathode)注入有机功能性材料层，因为外加电场所造成的电位差，使得电洞与电子两种载子(carrier)在有机功能性材料层中移动并产生辐射性结合(Radiative Recombination)。部分由电子电洞再结合所放出的能量会将有机功能性材料分子激发形成单一激态分子。当单一激态分子释放能量回到基态时，其中一定比例的能量会以光子的方式放出而发光，此即为有机电激发光元件的发光原理。目前有机电激发光元件量产的方式通常会在一片未经过切割且尺寸相当大的基板上规划出多个区块，接着再于各个区块上制作有机电激发光元件。之后，再透过切割的方式将各个有机电激发光元件单体化(singulation)。以下将针对已知有机电激发光元件的制造流程作详细的说明。图1A至图1D，其绘示已知有机电激发光元件的制造流程示意图。请参照图1A，首先提供一基板110，并形成一阳极层120于基板110上。然后，使用一旋转涂布制程(spin on coating process)，形成一有机材料层130于阳极层120上。请参照图1B，对于有机材料层130进行图案化制程(patterningprocess)，以定义出发光区域100a。请参照图1C，形成一阴极层140于有机材料层130上。请参照图1D，进行一封胶制程(MoldingProcess)，形成一封装胶体(molding compound)150，以包覆部分阳极层120、有机材料层130与部分阴极层140。随后，对于基板110进行一切割制程(cutting process)，以切割出有机电激发光元件晶粒100。承上所述，对于有机材料层130进行图案化制程的方法例如是激光剥离制程(laser ablation process)或干蚀刻制程(dry etchingprocess)。其中，激光剥离制程采用适当波长的激光光，以燃烧或光反应(photoreaction)方式去除基板110上的有机材料层130，而达到将有机材料层130图案化的目的。然而，激光剥离制程虽然能够有效去除有机材料层130，但是设备昂贵。此外，由于激光光束(laserbeam)尺寸限制，故激光光束无法一次去除大面积的有机材料层130。另外，部分有机材料层130经过激光照射后可能产生污染物。上述的干蚀刻制程则是在真空环境下使用电浆(plasma)与反应性气体(reactive gas)，并配合覆盖于基板110上的遮罩(mask)，以移除暴露的有机材料层130。相较于激光剥离制程，干蚀刻制程具有去除速率快且产能高等优点，但需要复杂的遮罩与昂贵的真空设备的配合。此外，部分有机材料不允许接受电浆制程，也就无法适用于干蚀刻制程。值得注意的是，无论是激光剥离制程或干蚀刻制程均受限于有机材料的种类。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的就是在提供一种薄膜移除设备，其是能够在非真空环境下移除薄膜。此外，本专利技术的再一目的就是提供一种擦拭装置，其是适于移除各种有机材料薄膜。另外，本专利技术的又一目的就是提供一种有机电激发光元件的制造方法，其是适于移除各种有机材料薄膜。基于上述目的或其他目的，本专利技术提出一种薄膜移除设备，其是适于移除一基板上的一薄膜，而薄膜移除设备例如包括一底座、一擦拭装置传动机构(transmission mechanism of the erasing device)、一第一擦拭装置与一定位平台(positioning platform)。其中，擦拭装置传动机构是配设于底座上。此外，第一擦拭装置是配设于擦拭装置传动机构上。另外，定位平台是配设于底座上，以承载基板，其中擦拭装置传动机构是带动第一擦拭装置，以将基板上的薄膜移除。依照本专利技术的较佳实施例所述的薄膜移除设备，第一擦拭装置例如包括一供带模组、一收带模组与一擦拭头模组。其中，擦拭头模组配置于供带模组与收带模组之间，而供带模组适于提供一擦拭带至擦拭头模组中，且收带模组适于回收擦拭头模组所使用过的擦拭带。依照本专利技术的较佳实施例所述的薄膜移除设备，供带模组例如包括一供带机构与一第一惰轮组。其中，供带机构适于提供擦拭带，而第一惰轮组是配置于擦拭头模组与供带机构之间。此外，收带模组例如包括一收带机构与一第二惰轮组。其中，收带机构适于接收擦拭带，而第二惰轮组是配置于擦拭头模组与收带机构之间。依照本专利技术的较佳实施例所述的薄膜移除设备，第一擦拭装置例如还包括一擦拭头传动机构，而擦拭头模组是配设于擦拭头传动机构上。依照本专利技术的较佳实施例所述的薄膜移除设备，第一擦拭装置例如还包括一擦拭液供应模组，连接至擦拭头模组，以提供一擦拭液至擦拭头模组。此外，擦拭头模组例如具有一擦拭液供应通孔，而擦拭液供应模组是与擦拭液供应通孔连接，以将擦拭液提供至擦拭带。依照本专利技术的较佳实施例所述的薄膜移除设备，第一擦拭装置例如还包括至少一光学感测器，配设于擦拭带的传输路径上。依照本专利技术的较佳实施例所述的薄膜移除设备，擦拭带例如包括一无尘布。依照本专利技术的较佳实施例所述的薄膜移除设备，定位平台例如包括一定位机构，以定位基板于定位平台上。依照本专利技术的较佳实施例所述，薄膜移除设备例如还包括一定位平台传动机构，与定位平台连接，以控制定位平台的移动。依照本专利技术的较佳实施例所述，薄膜移除设备例如还包括一第二擦拭装置，配置于擦拭装置传动机构上。基于上述目的或其他目的，本专利技术提出一种擦拭装置，其是例如包括一供带模组、一收带模组与一擦拭头模组。其中，擦拭头模组是配置于供带模组与收带模组之间，而供带模组适于提供一擦拭带至擦拭头模组中，且收带模组适于回收擦拭头模组所使用过的擦拭带。依照本专利技术的较佳实施例所述的擦拭装置，供带模组例如包括一供带机构与一第一惰轮组。其中，供带机构适于提供擦拭带，而第一惰轮组是配置于擦拭头模组与供带机构之间。此外，收带模组例如包括一收带机构与一第二惰轮组。其中，收带机构适于接收擦拭带，而第二惰轮组是配置于擦拭头模组与收带机构之间。依照本专利技术的较佳实施例所述，擦拭装置例如还包括一擦拭头传动机构，而擦拭头模组是配设于擦拭头传动机构上。依照本专利技术的较佳实施例所述，擦拭装置例如还包括一擦拭液供应模组，连接至擦拭头模组，以提供一擦拭液至擦拭头模组。此外，擦拭头模组例如具有一擦拭液供应通孔，而擦拭液供应模组是与擦拭液供应通孔连接，以将该擦拭液提供至擦拭带。依照本专利技术的较佳实施例所述，擦拭装置例如还包括至少一光学感测器，配设于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜移除设备，适于移除一基板上的一薄膜，其特征在于，该薄膜移除设备包括：一底座；一擦试装置传动机构，配设于该底座上；一第一擦试装置，配设于该擦试装置传动机构上；以及一定位平台，配设于该底座上，以承载该基板 ，其中该擦试装置传动机构是带动该第一擦试装置，以将该基板上的该薄膜移除。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈纯鑑，廖麒贵，黄志强，陈来成，
申请(专利权)人：翰立光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]