双银镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术提供一种双银镀膜玻璃，包括玻璃基板以及设置于所述玻璃基板一侧的镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基板向外依次层叠结合的第一电介质膜层、第二电介质膜层、第一银膜层、第一阻挡膜层、第二银膜层、第二阻挡膜层、第三阻挡膜层及第三电介质膜层，且所述第一阻挡膜层为非氧化物膜层。本实用新型专利技术的双银镀膜玻璃的物理性能和化学性能优异。镀膜玻璃的物理性能和化学性能优异。镀膜玻璃的物理性能和化学性能优异。

【技术实现步骤摘要】
双银镀膜玻璃


[0001]本技术涉及玻璃
，尤其涉及一种双银镀膜玻璃。

技术介绍

[0002]玻璃的种类多种多样，例如防弹玻璃、不反光玻璃、防盗玻璃、隔音玻璃、空调玻璃、镀膜玻璃、智能玻璃、真空玻璃、调温玻璃、生物玻璃、天线玻璃、薄纸玻璃、信息玻璃、全息玻璃、污染变色玻璃、电解雾化玻璃、泡沫玻璃、排二氧化碳玻璃、自洁玻璃。其中，镀膜玻璃也称反射玻璃。镀膜玻璃是通过在玻璃基板一表面向外涂制一层或多层金属，合金或金属化合物薄膜，以达到改变玻璃的光学性能，满足特定要求的一种玻璃。
[0003]随着经济和镀膜技术的发展，市场对产品的要求越来越高，不仅要求镀膜玻璃要有好的性能，例如结构稳定、附着力强、机械性能好、不易氧化等，还要求镀膜玻璃对周围环境不造成影响，例如镀膜玻璃需要有极低的反射率，防止干扰视线产生光污染等。

技术实现思路

[0004]针对上述技术问题，本技术提供一种双银镀膜玻璃，以解决现有技术中的问题。
[0005]为达上述目的，本技术提供一种双银镀膜玻璃，包括玻璃基板以及设置于所述玻璃基板一侧的镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基板向外依次层叠结合的第一电介质膜层、第二电介质膜层、第一银膜层、第一阻挡膜层、第二银膜层、第二阻挡膜层、第三阻挡膜层及第三电介质膜层，且所述第一阻挡膜层为非氧化物膜层。
[0006]作为可选的技术方案，所述第一电介质膜层为第一硅基化合物膜层；及/或，所述第一电介质膜层的厚度为18~20nm。
[0007]作为可选的技术方案，所述第二电介质膜层为氧化锌膜层；及/或，所述第二电介质膜层的厚度为13~15nm。
[0008]作为可选的技术方案，所述第一银膜层的厚度为5.1~5.6nm。
[0009]作为可选的技术方案，所述第一阻挡膜层为第一铬化镍膜层；及/或，所述第一阻挡膜层的厚度为1.2~1.7nm。
[0010]作为可选的技术方案，所述第二银膜层的厚度为8.6~9.0nm。
[0011]作为可选的技术方案，所述第二阻挡膜层为第二铬化镍膜层；及/或，所述第二阻挡膜层的厚度为4.3~4.7nm。
[0012]作为可选的技术方案，所述第三阻挡膜层为镍铬氧膜层；及/或，所述第三阻挡膜层的厚度为4.3~4.7nm。
[0013]作为可选的技术方案，所述第三电介质膜层为第二硅基化合物膜层；及/或，所述第三电介质膜层的厚度为45.1~46nm。
[0014]作为可选的技术方案，所述第一电介质膜层的厚度为19nm，所述第二电介质膜层的厚度为14nm，所述第一银膜层的厚度为5.4nm，所述第一阻挡膜层的厚度为1.5nm，所述第
二银膜层的厚度为8.8nm，所述第二阻挡膜层的厚度为4.5nm，所述第三阻挡膜层的厚度为4.5nm，所述第三电介质膜层的厚度为45.7nm。
[0015]与现有技术相比，本技术的双银镀膜玻璃通过特定的膜层设置顺序以调节膜层的关系，使得得到的镀膜玻璃的物理性能和化学性能优异，例如膜层结构稳定，附着力强，机械性能好，不易氧化等。而且，得到的镀膜玻璃反射率低，辐射率低，能够广泛使用。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本技术一实施例的双银镀膜玻璃的结构示意图。
具体实施方式
[0018]为使对本技术的目的、构造、特征、及其功能有进一步的了解，兹配合实施例详细说明如下。
[0019]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0020]请参见图1，图1为本技术一实施例的双银镀膜玻璃的结构示意图。如图1所示，本技术提供一种双银镀膜玻璃1，包括玻璃基板2以及设置于所述玻璃基板一侧的镀膜层3，所述镀膜层3包括自所述玻璃基板向外依次层叠结合的：第一电介质膜层31、第二电介质膜层32、第一银膜层33、第一阻挡膜层34、第二银膜层35、第二阻挡膜层36、第三阻挡膜层37及第三电介质膜层38，且所述第一阻挡膜层34为非氧化物膜层。
[0021]其中，本技术优选实施例中，上述玻璃基板例如选自普通白色玻璃，如此可以确保不会影响后续各功能层的设置。且上述玻璃基板例如选自采用浮法生产的玻璃基板、采用溢流下拉法生产的玻璃基板、采用狭缝下拉法生产的玻璃基板的任意一种。
[0022]具体的，本实施例中，第一电介质膜层31与玻璃基板2结合，起到打底的作用。且优选地，所述第一电介质膜层31为第一硅基化合物膜层；而且，所述第一电介质膜层31的厚度为18~20nm，较佳地，第一电介质膜层31的厚度为19nm。具体的，第一电介质膜层31例如选自含有Si的氧化膜层或氮化膜层，第一电介质膜层31与玻璃基板2的有效结合，能够较好地起到阻止玻璃基板2中的Na+等碱性离子迁移或扩散的作用，保证镀膜层3中各膜层材料不被玻璃基板2的杂质影响，进而保证镀膜层3的性能。
[0023]另外，第二电介质膜层32设置于第一电介质膜31层与第一银膜层33之间，且第二电介质膜层32例如为选自含有Ti、Si、Zn、Sn的氧化物或氮化物的膜层，此膜层可作为第一银膜层33的种子层，使得第一银膜层33的结合更具均匀性，保证第一银膜层33的结合效果更优异，从而提高第一银膜层的性能，同时也保证附着力较强，使第一银膜层33结合牢固不易脱落，协同调节玻璃的反射率和辐射率。其中较佳地，上述第二电介质膜层32例如为氧化
锌膜层。而且，所述第二电介质膜层32的厚度例如为13~15nm，优选地，第二电介质膜层32的厚度为14nm。
[0024]第一银膜层33设置于第二电介质膜层32与第一阻挡膜层34之间，其中，第一银膜层33具有选择性提高可见光波段透过率，且能够降低红外线波段透过率，进而保证制备得到的镀膜玻璃具有低反射率的特性。其中，所述第一银膜层33的厚度例如为5.1~5.6nm，且优选地，所述第一银膜层的厚度为5.4nm。
[0025]上述第一阻挡膜层34设置于第一银膜层33第二银膜层35之间，其中，第一阻挡膜层34例如为第一铬化镍膜层。且所述第一阻挡膜层34的厚度例如为1.2~1.7nm，较佳地，所述第一阻挡膜层34的厚度为1.5nm。第一阻挡膜层34的设置，能够在形成镀膜层3的过程中保护第一银膜层33防止其被破坏或被氧化或被其他污染物影响，同时能够增强第一银膜层33与其他膜层的附着力，提高第一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双银镀膜玻璃，包括玻璃基板以及设置于所述玻璃基板一侧的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层包括自所述玻璃基板向外依次层叠结合的第一电介质膜层、第二电介质膜层、第一银膜层、第一阻挡膜层、第二银膜层、第二阻挡膜层、第三阻挡膜层及第三电介质膜层，且所述第一阻挡膜层为非氧化物膜层。2.如权利要求1所述的双银镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质膜层为第一硅基化合物膜层；及/或，所述第一电介质膜层的厚度为18~20nm。3.如权利要求1所述的双银镀膜玻璃，其特征在于，所述第二电介质膜层为氧化锌膜层；及/或，所述第二电介质膜层的厚度为13~15nm。4.如权利要求1所述的双银镀膜玻璃，其特征在于，所述第一银膜层的厚度为5.1~5.6nm。5.如权利要求1所述的双银镀膜玻璃，其特征在于，所述第一阻挡膜层为第一铬化镍膜层；及/或，所述第一阻挡膜层的厚度为1.2~1.7nm。6.如权利要求1所述的双银镀膜玻璃，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：张根方，张福明，唐华明，
申请(专利权)人：苏州华东镀膜技术有限公司，
类型：新型
国别省市：