内窥镜摄像头的外壳、内窥镜摄像头及内窥镜摄像系统技术方案

技术编号:36893603 阅读:55 留言:0更新日期:2023-03-15 22:11
本发明专利技术公开了一种内窥镜摄像头的外壳、内窥镜摄像头及内窥镜摄像系统,外壳包括铝基基材;以及在所述铝基基材上依序形成的锌层、镍层、铬层及物理气相沉积层,铝基基材、锌层、镍层、铬层及所述物理气相沉积层的硬度递增;其中,镍层通过化学镀镍工艺形成,镍层的厚度为1um至20um;物理气相沉积层为含有TiSi化合物和/或TiSiCO化合物的涂层,通过化学镀镍工艺形成的厚度为1um至20um的镍层,能提高镍层的硬度,从而使得外壳各层的硬度可以梯度过渡,梯度过渡能增大后续镀铬层和物理气相沉积层的结合力,以保证涂层质量;并且含有TiSi化合物、TiSiCO化合物的涂层,对于低温等离子灭菌具有优异的耐受性,在经过200次的灭菌后涂层仍不褪色失效。仍不褪色失效。仍不褪色失效。

【技术实现步骤摘要】
内窥镜摄像头的外壳、内窥镜摄像头及内窥镜摄像系统


[0001]本专利技术涉及医疗器械
,尤其是涉及一种内窥镜摄像头的外壳、内窥镜摄像头及内窥镜摄像系统。

技术介绍

[0002]内窥镜摄像系统目前广泛用于对人身体内的某一器官部位进行检查,医生做手术时需握持内窥镜摄像头的外壳,因此,每次使用前后均需要对内窥镜摄像头进行灭菌处理,医院常用低温等离子过氧化氢灭菌设备对摄像头进行灭菌处理。具体而言,低温等离子过氧化氢灭菌流程为:采用少量的高浓度H2O2溶液经过进一步提纯到90%的浓度后注射进密闭低真空空间,在H2O2的扩散过程中,对暴露在该气氛下的内窥镜摄像头进行消毒灭菌,最后再通电使得H2O2等离子化进一步对内窥镜摄像头消毒灭菌。然而,内窥镜摄像头的外壳在经过200次以上的低温等离子灭菌后会出现褪色现象,影响外观。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本专利技术提出一种经过200次低温等离子灭菌后不会出现褪色现象的内窥镜摄像头的外壳。
[0004]另一方面,本专利技术还提出一种包含上述内窥镜摄像头的外壳的内窥镜摄像头以及内窥镜摄像系统。
[0005]根据本专利技术第一方面实施例的内窥镜摄像头的外壳,其包括铝基基材;以及在所述铝基基材上依序形成的锌层、镍层、铬层及物理气相沉积层,所述铝基基材、所述锌层、所述镍层、所述铬层及所述物理气相沉积层的硬度递增;其中,所述镍层通过化学镀镍工艺形成,所述镍层的厚度为1um至20um;所述物理气相沉积层为含有TiSi化合物和/或TiSiCO化合物的涂层。
[0006]根据本专利技术实施例的内窥镜摄像头的外壳,至少具有如下有益效果:通过化学镀镍工艺形成的厚度为1um至20um的镍层,能提高镍层的硬度,从而使得外壳各层的硬度可以梯度过渡,梯度过渡能增大后续镀铬层和物理气相沉积层的结合力,以保证涂层质量;并且含有TiSi化合物、TiSiCO化合物的涂层,对于低温等离子灭菌具有优异的耐受性,在经过200次的灭菌后,涂层仍不褪色失效。
[0007]根据本专利技术的一些实施例,所述镍层的厚度为4um至10um。
[0008]根据本专利技术的一些实施例,所述镍层的硬度为HV 300至HV 500。
[0009]根据本专利技术的一些实施例,所述化学镀镍工艺中采用的化学镍的含磷量为5wt%至15wt%。
[0010]根据本专利技术的一些实施例,所述铝基基材经喷砂工艺处理。
[0011]根据本专利技术的一些实施例,所述铬层的厚度为0.1um至1um。
[0012]根据本专利技术的一些实施例,所述铬层的硬度为HV 400至HV 800。
[0013]根据本专利技术的一些实施例,所述物理气相沉积层的厚度为0.2um至10um。
[0014]根据本专利技术的一些实施例,所述物理气相沉积层的硬度为HV 500至HV 1000。
[0015]根据本专利技术的一些实施例,所述物理气相沉积层为含有TiSi化合物以及TiSiCO化合物的梯度涂层。
[0016]根据本专利技术第二方面实施例的内窥镜摄像头,其包括本专利技术第一方面实施例的内窥镜摄像头的外壳。
[0017]根据本专利技术实施例的内窥镜摄像头,至少具有如下有益效果:通过采用本专利技术第一方面实施例的内窥镜摄像头的外壳,能够提升外壳对于低温等离子灭菌具有优异的耐受性,在经过200次的灭菌后涂层仍不褪色失效,提升内窥镜摄像头的整体品质。
[0018]根据本专利技术第三方面实施例的内窥镜摄像系统,其包括内窥镜插入部、本专利技术第二方面实施例的内窥镜摄像头、光源、主机和显示屏;所述内窥镜插入部,用于插入患者的待观察部位;所述内窥镜摄像头与所述内窥镜插入部连接;所述光源通过导光束线与所述内窥镜插入部连接并用于提供照明光;所述主机通过数据传输线与所述内窥镜摄像头连接,用于接收所述内窥镜摄像头处理生成的图像和/或视频,并进行保存;所述显示屏通过视频连接线与所述主机连接以用于接收所述主机发送的图像和/或视频,并进行显示。
[0019]根据本专利技术实施例的内窥镜摄像系统,其具有本专利技术第二方面实施例的内窥镜摄像头的全部有益效果。
[0020]本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0021]下面结合附图和实施例对本专利技术做进一步的说明,其中:
[0022]图1为本专利技术一些实施例中内窥镜摄像头的外壳的剖面示意图。
[0023]附图标记:
[0024]铝基基材101、锌层102、镍层103、铬层104、物理气相沉积层105。
具体实施方式
[0025]下面详细描述本专利技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本专利技术,而不能理解为对本专利技术的限制。
[0026]在本专利技术的描述中,需要理解的是,涉及到方位描述,例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0027]在本专利技术的描述中,若干的含义是一个以上,多个的含义是两个以上,大于、小于、超过等理解为不包括本数,以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
[0028]本专利技术的描述中,除非另有明确的限定,设置、安装、连接等词语应做广义理解,所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本专利技术中的具体
含义。
[0029]本专利技术的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本专利技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
[0030]内窥镜摄像系统目前广泛用于对人身体内的某一器官部位进行检查,医生做手术时需握持内窥镜摄像头的外壳,内窥镜摄像头的外壳通常具有多种颜色以提升外观效果。常用于制备内窥镜摄像头的外壳的方法有如下两种:
[0031]技术路线一:
[0032]内窥镜摄像头外壳的基材为铝及铝合金材质,经抛光、喷砂处理后,先采用普通硫酸阳极氧化,在表面形成一层多孔状的铝本色阳极氧化膜,然后采用以镍盐、钴盐为主的无机染料对阳极氧化膜进行电解着色,使铝本色阳极氧化膜被染成黑色,最后通过热纯水或添加镍封闭剂进行封孔处理,以得到内窥镜摄像头的外壳。<本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种内窥镜摄像头的外壳,其特征在于,所述外壳包括:铝基基材;以及在所述铝基基材上依序形成的锌层、镍层、铬层及物理气相沉积层,所述铝基基材、所述锌层、所述镍层、所述铬层及所述物理气相沉积层的硬度递增;其中,所述镍层通过化学镀镍工艺形成,所述镍层的厚度为1um至20um;所述物理气相沉积层为含有TiSi化合物和/或TiSiCO化合物的涂层。2.根据权利要求1所述的内窥镜摄像头的外壳,其特征在于,所述镍层的厚度为4um至10um。3.根据权利要求1所述的内窥镜摄像头的外壳,其特征在于,所述镍层的硬度为HV 300至HV 500。4.根据权利要求1所述的内窥镜摄像头的外壳,其特征在于,所述化学镀镍工艺中采用的化学镍的含磷量为5wt%至15wt%。5.根据权利要求1所述的内窥镜摄像头的外壳,其特征在于,所述铝基基材经喷砂工艺处理。6.根据权利要求1所述的内窥镜摄像头的外壳,其特征在于,所述铬层的厚度为0.1um至1um。7.根据权利要求1所述的内窥镜摄像头的外壳,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄鑫曾强石强勇
申请(专利权)人:深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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