一种TOPCon电池制备方法及制备设备技术

本发明专利技术公开了一种TOPCon电池制备方法及制备设备，应用于太阳能电池制备技术领域，包括获取待去除绕镀PLOY层的太阳能电池基板；通过第一混酸溶液清洗太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除绕镀PLOY层；第一混酸溶液为包括醋酸的混酸溶液；对去除了绕镀PLOY层的太阳能电池基板进行钝化并设置电极，制成TOPCon电池。通过添加有硝酸以及氢氟酸的混酸溶液对绕镀至太阳能电池基板正面的PLOY层进行刻蚀，可以实现对绕镀PLOY层的去除；同时在混酸溶液中添加醋酸，由于醋酸本身属于非强氧化性的酸，可以起到稀释作用，从而使得反应速率更易控制。制。制。

【技术实现步骤摘要】
一种TOPCon电池制备方法及制备设备


[0001]本专利技术涉及太阳能电池制备
，特别是涉及一种TOPCon电池制备方法以及一种TOPCon电池制备设备。

技术介绍

[0002]TOPCon电池结构中，电池背面是做一层隧穿氧化层即二氧化硅再加POLY层(多晶硅层)，实现隧穿氧化效应，使多子通过，少子阻挡；但电池制备过程中，因机台和工装夹具的特殊性，会不可避免的在正面“绕镀”一层POLY层，在LPCVD工艺硅片“双插”的情况下，即一个石英槽里插1片，这层“绕镀”的POLY层同背面的POLY层厚度、面积相当；而TOPCon结构的正面是不需要这层POLY层的，所以需要去除。目前去除这层POLY层采用的工艺为碱洗工艺，即使用一定量的碱溶液加添加剂进行去除；但添加剂利用率低，一方面造成了成本上升，一方面工艺稳定性较差。所以如何提供一种方便可控的去除正面绕镀POLY层的技术方案是本领域技术人员急需解决的问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种TOPCon电池制备方法，方便可控价格低廉，适应工厂化；本专利技术的另一目的在于提供一种TOPCon电池制备设备，方便可控价格低廉，适应工厂化。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种TOPCon电池制备方法，包括：
[0005]获取待去除绕镀PLOY层的太阳能电池基板；
[0006]通过第一混酸溶液清洗所述太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除所述绕镀PLOY层；所述第一混酸溶液为包括醋酸的混酸溶液；
>[0007]对去除了所述绕镀PLOY层的太阳能电池基板进行钝化并设置电极，制成所述TOPCon电池。
[0008]可选的，所述第一混酸溶液为包括醋酸、硝酸和氢氟酸的混酸溶液，所述醋酸的浓度不低于20％。
[0009]可选的，所述醋酸浓度的取值范围为20％至70％，所述硝酸浓度的取值范围为10％至25％，所述氢氟酸浓度的取值范围为5％至12％。
[0010]可选的，所述通过第一混酸溶液清洗所述太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除所述绕镀PLOY层包括：
[0011]通过链式机台的第一酸洗槽中的所述第一混酸溶液清洗所述太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除所述绕镀PLOY层；所述第一酸洗槽中工作温度的取值范围为8℃至30℃。
[0012]可选的，在所述通过链式机台的第一酸洗槽中添加的所述第一混酸溶液清洗所述太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层之后，还包括：
[0013]通过链式机台的碱洗槽中的碱洗溶液清洗所述太阳能电池基板，中和所述太阳能电池基板表面残留的混酸溶液。
[0014]可选的，所述碱洗溶液为氢氧化钠溶液。
[0015]可选的，在所述通过链式机台的碱洗槽中的碱洗溶液清洗所述太阳能电池基板之后，还包括：
[0016]通过链式机台的第二酸洗槽中的第二混酸溶液清洗所述太阳能电池基板，去除所述太阳能电池基板表面残留的金属离子；所述第二混酸溶液为盐酸和氢氟酸的混合溶液。
[0017]本专利技术还提供了一种TOPCon电池制备设备，包括链式机台本体和钝化印刷设备，所述链式机台本体内设置有多个工作槽；
[0018]所述链式机台本体用于将待去除绕镀PLOY层的太阳能电池基板依次通过所述工作槽，去除所述太阳能电池基板的绕镀PLOY层；所述工作槽包括第一酸洗槽，所述第一酸洗槽盛有第一混酸溶液，所述第一混酸溶液为包括醋酸的混酸溶液，用于去除所述绕镀PLOY层；
[0019]钝化印刷设备用于对去除了所述绕镀PLOY层的太阳能电池基板进行钝化并设置电极，制成所述TOPCon电池。
[0020]可选的，所述第一混酸溶液为包括醋酸、硝酸和氢氟酸的混酸溶液，所述醋酸的浓度不低于20％。
[0021]可选的，所述工作槽包括沿工序从前到后依次设置的上料水膜槽、所述第一酸洗槽、第一水洗槽、碱洗槽、第二水洗槽、第二酸洗槽、第三水洗槽、烘干槽。
[0022]本专利技术所提供的一种TOPCon电池制备方法，包括：获取待去除绕镀PLOY层的太阳能电池基板；通过第一混酸溶液清洗太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除绕镀PLOY层；第一混酸溶液为包括醋酸的混酸溶液；对去除了绕镀PLOY层的太阳能电池基板进行钝化并设置电极，制成TOPCon电池。
[0023]通过添加有硝酸以及氢氟酸的混酸溶液对绕镀至太阳能电池基板正面的PLOY层进行刻蚀，可以实现对绕镀PLOY层的去除，而使用混酸溶液可以降低刻蚀成本；同时在混酸溶液中添加醋酸，由于醋酸本身属于非强氧化性的酸，在混酸溶液中添加醋酸一方面起到刻蚀作用，一方面起到稀释作用，从而使得刻蚀绕镀PLOY层的反应速率更易控制。
[0024]本专利技术还提供了一种TOPCon电池制备设备，同样具有上述有益效果，在此不再进行赘述。
附图说明
[0025]为了更清楚的说明本专利技术实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1为本专利技术实施例所提供的一种TOPCon电池制备方法的流程图；
[0027]图2为本专利技术实施例所提供的一种具体的TOPCon电池制备方法的流程图；
[0028]图3为本专利技术实施例所提供的一种TOPCon电池制备设备的结构示意图。
[0029]图中：1.链式机台本体、2.工作槽。
具体实施方式
[0030]本专利技术的核心是提供一种TOPCon电池制备方法。在现有技术中，目前去除正面绕镀的POLY层采用的工艺为碱洗工艺，即使用一定量的碱溶液加添加剂进行去除；但添加剂利用率低，一方面造成了成本上升.一方面工艺稳定性较差。
[0031]而本专利技术所提供的一种TOPCon电池制备方法，包括：获取待去除绕镀PLOY层的太阳能电池基板；通过第一混酸溶液清洗太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除绕镀PLOY层；第一混酸溶液为包括醋酸的混酸溶液；对去除了绕镀PLOY层的太阳能电池基板进行钝化并设置电极，制成TOPCon电池。
[0032]通过添加有硝酸以及氢氟酸的混酸溶液对绕镀至太阳能电池基板正面的PLOY层进行刻蚀，可以实现对绕镀PLOY层的去除，而使用混酸溶液可以降低刻蚀成本；同时在混酸溶液中添加醋酸，由于醋酸本身属于非强氧化性的酸，在混酸溶液中添加醋酸一方面起到刻蚀作用，一方面起到稀释作用，从而使得刻蚀绕镀PLOY层的反应速率更易控制。
[0033]为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0034]请参考本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种TOPCon电池制备方法，其特征在于，包括：获取待去除绕镀PLOY层的太阳能电池基板；通过第一混酸溶液清洗所述太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除所述绕镀PLOY层；所述第一混酸溶液为包括醋酸的混酸溶液；对去除了所述绕镀PLOY层的太阳能电池基板进行钝化并设置电极，制成所述TOPCon电池。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一混酸溶液为包括醋酸、硝酸和氢氟酸的混酸溶液，所述醋酸的浓度不低于20％。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述醋酸浓度的取值范围为20％至70％，所述硝酸浓度的取值范围为10％至25％，所述氢氟酸浓度的取值范围为5％至12％。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述通过第一混酸溶液清洗所述太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除所述绕镀PLOY层包括：通过链式机台的第一酸洗槽中的所述第一混酸溶液清洗所述太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层，去除所述绕镀PLOY层；所述第一酸洗槽中工作温度的取值范围为8℃至30℃。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述通过链式机台的第一酸洗槽中添加的所述第一混酸溶液清洗所述太阳能电池基板正面的绕镀PLOY层之后，还包括：通过链式机台的碱洗槽中的碱洗溶液清洗所述太阳能电池基板，中和所述太阳能电池基板表面残留的混酸溶液。6....

【专利技术属性】
技术研发人员：康忠平，吴孙弟，俞益波，潘红军，卢玉荣，
申请(专利权)人：正泰新能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：