【技术实现步骤摘要】
一种光学件用等离子清洗头和等离子体清洗设备
[0001]本专利技术涉及等离子清洗
,具体涉及一种光学件用等离子清洗头和等离子体清洗设备。
技术介绍
[0002]相关技术中,现有等离子体清洗设备通常包括等离子体喷头,等离子体喷头上的喷流口与光学件呈相对设置,从喷流口喷射出的等离子体适于对光学件进行清洗,但是,等离子体在喷射口外的气流速度易出现急剧下降现象,易阻碍光学件对等离子体进行能量吸收,进而制约等离子体清洗光学件的性能。
[0003]专利技术中容
[0004]本专利技术针对现有技术中适于喷射等离子体的喷射口会对等离子体清洗光学件的性能构成制约的问题,提供一种光学件用等离子清洗头和等离子体清洗设备。
[0005]本专利技术一方面提供一种光学件用等离子清洗头,所述光学件用等离子清洗头包括呈中空的等离子体流通组件和安装在所述等离子体流通组件上的镜框;
[0006]所述等离子体流通组件上设有比适于喷射出等离子体的喷射口大且适于弥散出等离子体的出流口;
[0007]所述镜框与所述出流口连通且围绕在所述出流口外,以及,所述镜框适于镶嵌光学镜体,以使所述光学镜体与所述出流口呈相对设置。
[0008]上述技术方案的有益效果是:一方面,相比于在喷头上设置适于喷射出等离子体的喷射口,出流口兼备为等离子体扩大出流面积和分散化出流等离子体的性能,促使等离子体在等离子体流通组件内外均匀化气流速度,有助于缓解等离子体在等离子体流通组件外的气流速度出现急剧下降现象,另一方面,镜框兼备对等离子 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学件用等离子清洗头,其特征在于,所述光学件用等离子清洗头包括呈中空的等离子体流通组件(11)和安装在所述等离子体流通组件(11)上的镜框(12);所述等离子体流通组件(11)上设有比适于喷射出等离子体的喷射口大且适于弥散出等离子体的出流口(1111);所述镜框(12)与所述出流口(1111)连通且围绕在所述出流口(1111)外,以及,所述镜框(12)适于镶嵌光学镜体(2),以使所述光学镜体(2)与所述出流口(1111)呈相对设置。2.如权利要求1所述的光学件用等离子清洗头,其特征在于,所述等离子体流通组件(11)包括第一固定框(111)和镶嵌在所述第一固定框(111)中的无介质阻挡电极子组件(112);所述第一固定框(111)上开设有所述出流口(1111),所述出流口(1111)位于所述无介质阻挡电极子组件(112)的一侧;所述镜框(12)与所述第一固定框(111)可拆卸式对接,所述光学镜体(2)上设有待清洗镜面,所述待清洗镜面与所述出流口(1111)所在的平面平行且相对设置。3.如权利要求2所述的光学件用等离子清洗头,其特征在于,所述第一固定框(111)上还设有第一凹槽,所述第一凹槽的槽口设为与所述出流口(1111)连通的第一槽口,所述第一槽口分布在所述第一固定框(111)内侧,所述无介质阻挡电极子组件(112)可拆卸式安装在所述第一凹槽中。4.如权利要求3所述的光学件用等离子清洗头,其特征在于,多组所述无介质阻挡电极子组件(112)均匀排列在所述第一凹槽中。5.如权利要求3所述的光学件用等离子清洗头,其特征在于,所述第一凹槽的底部设为第一槽底部,所述无介质阻挡电极子组件(112)包括绝缘槽体(1121)、让位螺钉(1122)、导电卡座(1123)、第一电极板(1124)、导电连接筒(1125)、第二电极板(1126)和绝缘钉(1127);所述绝缘槽体(1121)上设有第二凹槽,所述第二凹槽的槽口设为第二槽口,所述第二凹槽的底部设为第二槽底部;所述绝缘槽体(1121)镶嵌在所述第一凹槽中,所述第二槽口所在的平面与所述第一槽口所在的平面重合;所述让位螺钉(1122)穿插在所述绝缘槽体(1121)中,所述让位螺钉(1122)的钉尾与所述第一槽底部螺纹连接;所述导电卡座(1123)、所述第一电极板(1124)、所述导电连接筒(1125)、所述第二电极板(1126)和所述绝缘钉(1127)均设置在所述第二凹槽中;所述导电卡座(1123)镶嵌在所述第二槽底部和所述第一电极板(1124)中,所述第一电极板(1124)与所述第二电极板(1126)呈相对设置且形成有电极空间;所述导电连接筒(1125)设置在所述电极空间中,所述导电连接筒(1125)的两端分别与所述第一电极板(1124)和所述第二电极板(1126)抵触;所述绝缘钉(1127)依次穿插在所述第一电极板(1124)、所述导电连接筒(1125)和所述第二电极板(1126)中,所述绝缘钉(1127)的钉尾嵌入所述第二槽底部。6.如权利要求5所述的光学件用等离子清洗头,其特征在于,多个所述导电连接筒(1125)均匀排...
【专利技术属性】
技术研发人员:张鹏,卢礼华,高强,关宇珩,赵航,曹永智,陈家轩,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:
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