【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于选择参数以近似结构颜色的期望性质的方法和系统
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年3月3日提交的题为“用于选择参数以近似结构颜色的期望性质的方法和系统(Methods and Systems for Selecting Parameters to Approximate Desired Properties of Structural Color)”的美国临时专利申请第62/984,582号的优先权,所述美国临时专利申请的公开内容通过引用整体并入本文,并且要求于2020年7月13日提交的题为“用于选择参数以近似结构颜色的期望性质的方法和系统(Methods and Systems for Selecting Parameters to Approximate Desired Properties of Structural Color)”的美国临时申请第63/050,946号的优先权,所述美国临时申请的公开内容通过引用整体并入本文。
技术介绍
[0003]结构颜色依赖于材料用于产生颜色的物理性质。这些物理性质会引起散射光波之间的干扰,从而使散射光具有特定的颜色。这使得结构颜色与依赖于材料的化学性质的其它类型的颜色不同。
[0004]虽然结构颜色在自然界中很常见,但很难通过常规技术再现。除其它原因外,有大量的物理性质配置可以影响光从表面散射的方式。此外,当光从表面散射时,由于光与材料和与其自身相互作用的方式很复杂,因此很难预测干涉效应。这些问题使得难以识别将产生特定期望结构颜色的特定性质 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法,其包括:向模拟系统的处理器提供一个或多个输入性质,其中所述一个或多个输入性质中的每个输入性质指示一个或多个纳米颗粒阵列的性质,并且其中所述纳米颗粒阵列中的每个纳米颗粒阵列包含在多个微球中的一个微球内,并且其中所述多个微球包含在基体材料内;向所述处理器提供用于光学模拟的一个或多个输入参数;由所述处理器根据所述输入参数通过应用所述纳米颗粒阵列的随机模型来执行所述光学模拟,其中所述光学模拟解释了施加到所述基体材料和其微球的光的性质;以及由所述处理器并且根据所述光学模拟来确定指示结构颜色的输出光学参数。2.根据权利要求1所述的方法,其中所述一个或多个输入性质包括所述一个或多个纳米颗粒阵列的结构性质和所述一个或多个纳米颗粒阵列的光学性质中的一者或多者。3.根据权利要求2所述的方法,其中所述一个或多个纳米颗粒阵列的所述结构性质包括以下中的一者或多者:纳米颗粒粒径、纳米颗粒形状、纳米颗粒材料、纳米颗粒孔隙率、纳米颗粒的表面特征、多个纳米颗粒的晶格常数、介质中纳米颗粒的浓度、纳米颗粒的空隙大小、正向结构的性质、逆向结构的性质、有序结构的性质、无序结构的性质、所述纳米颗粒阵列的微球的大小、由至少一个纳米颗粒阵列构成的微粒的形状、纳米颗粒多分散性、壳厚度、壳材料、所述基体材料中微球的浓度以及所述基体材料的厚度。4.根据权利要求2所述的方法,其中所述一个或多个纳米颗粒阵列的所述光学参数包括以下中的一者或多者:实折射率、复折射率、吸收值、色散值、双折射率、偏振度、非线性系数。5.根据权利要求1所述的方法,其中一个或多个输出光学参数包括以下中的一者或多者:波长、波长范围、反射曲线、透射曲线、吸收曲线、散斑量、散射参数、角度依赖性以及角度独立性。6.根据权利要求1所述的方法,其中所述随机模型包括蒙特卡罗模型。7.根据权利要求1所述的方法,其中所述随机模型包括两层随机模型。8.根据权利要求1所述的方法,其中所述一个或多个输入性质包括一个或多个介质参数。9.根据权利要求7所述的方法,其中所述一个或多个介质参数包括以下中的一者或多者:材料、介质的复折射率、微球浓度、微球混合物、吸收剂的量、吸收剂浓度、所述纳米颗粒阵列的厚度或所述纳米颗粒阵列的有序程度。10.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括产生所述基体材料,其中所述基体材料包含包括所述一个或多个纳米颗粒阵列的染料、油漆或涂料中的至少一者。11.一种用于确定结构颜色的模拟系统,所述系统包括被配置成执行机器可读指令的处理器,所述机器可读指令使所述处理器:接收一个或多个输入性质,其中所述一个或多个输入性质中的每个输入性质指示纳米颗粒阵列的性质,所述纳米颗粒阵列是基体材料的一部分,所述基体材料包含至少一个微球,所述至少一个微球含有所述纳米颗粒阵列;接收用于光学模拟的一个或多个输入参数;根据所述输入参数通过应用所述纳米颗粒阵列的随机模型来执行所述光学模拟,其中所述光学模拟解释了施加到所述基体材料的光的性质;并且
根据所述光学模拟来确定指示结构颜色的输出光学参数。12.根据权利要求11所述的系统,其中所述一个或多个输入性质包括所述纳米颗粒阵列的结构性质和所述纳米颗粒阵列的光学性质中的一者或多者。13.根据权利要求12所述的系统,其中所述纳米颗粒阵列的所述结构性质包括以下中的一者或多者:纳米颗粒粒径、纳米颗粒形状、纳米颗粒材料、纳米颗粒孔隙率、纳米颗粒的表面特征、纳米颗粒阵列的晶格常数、介质中纳米颗粒的浓度、纳米颗粒的空隙大小、正向结构的性质、逆向结构的性质、有序结构的性质、无序结构的性质、纳米颗粒多分散性、壳厚度、壳材料、所述基体材料中微球的浓度以及所述基体材料的厚度。14.根据权利要求12所述的系统,其中所述纳米颗粒阵列的所述光学参数包括以下中的一者或多者:实折射率、复折射率、吸收值、色散值、双折射率、偏振度以及非线性系数。15.根据权利要求11所述的系统,其中一个或多个输出光学参数包括以下中的一者或多者:波长、波长范围、反射曲线、透射曲线、吸收曲线、散斑量、散射参数、角度依赖性以及角度独立性。16.根据权利要求11所述的系统,其中所述随机模型包括蒙特卡罗模型。17.根据权利要求11所述的系统,其中所述一个或多个输入性质包括一个或多个介质参数。18.根据权利要求17所述的系统,其中所述一个或多个介质参数包括以下中的一者或多者:材料、介质的复折射率、微球浓度、微球混合物、吸收剂的量、吸收剂浓度、所述纳米颗粒阵列的厚度或所述纳米颗粒阵列的有序程度。19.根据权利要求11所述的系统,其进一步包括制造装置,所述制造装置被配置成产生所述基体材料,其中所述基体材料包含包括所述纳米颗粒阵列的染料、油漆或涂料中的至少一者。20.一种方法,其包括:向处理器提供一个或多个目标性质,其中所述一个或多个目标性质中的每个目标性质指示纳米颗粒阵列的期望光学性质,所述纳米颗粒阵列是基体材料的一部分,其中所述基体材料包含至少一个微粒,所述至少一个微粒含有所述纳米颗粒阵列;向所述处理器提供用于光学模拟的一个或多个输入参数;由所述处理器根据输入性质和输入参数执行进化算法,其中所述进化算法采用所述纳米颗粒阵列的光学模拟,并且其中所述光学模拟解释了施加到所述基体材料的光的性质;以及由所述处理器并且根据所述进化算法来确定指示所述纳米颗粒阵列的...
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