一种异物的成分和形成条件的确认方法和装置制造方法及图纸

本申请涉及化学或物理分析技术领域，尤其涉及一种异物的成分和形成条件的确认方法和装置。所述方法包括：获取被检测异物的异物化学成分；基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质；模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件。通过本申请提供的方法，可以确定异物的具体成分，以及异物的形成条件，从而为技术人员采取有效手段防止异物的形成提供依据，保证镜头模组的成像质量。质量。质量。

【技术实现步骤摘要】
一种异物的成分和形成条件的确认方法和装置


[0001]本申请涉及化学或物理分析
，尤其涉及一种异物的成分和形成条件的确认方法和装置。

技术介绍

[0002]感光芯片(sensor)是镜头模组的核心组成部分，用于捕获透过镜头的光线并将光线转换为电子信号。在一定条件下，感光芯片表面会生长出片状异物，使拍摄出的照片出现黑点，影响成像质量。
[0003]由于构成镜头模组的材料有多种，现有技术只能检测出感光芯片上存在异物，却无法确定异物的具体成分，以及异物的形成条件。

技术实现思路

[0004]本申请通过提供一种异物的成分和形成条件的确认方法，解决了无法确定感光芯片表面异物的具体成分，以及异物形成条件的技术问题，实现了确定异物的具体成分，以及异物的形成条件，从而为技术人员采取有效手段防止异物的形成提供依据，随之带来保证镜头模组成像质量的技术效果。
[0005]第一方面，本申请提供了一种异物的成分和形成条件的确认方法，所述方法包括：
[0006]获取被检测异物的异物化学成分；
[0007]基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质；
[0008]模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件。
[0009]进一步，所述获取被检测异物的异物化学成分包括：
[0010]采用能谱仪确定所述被检测异物的化学元素，以及所述化学元素的元素含量。
[0011]进一步，所述基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质包括：
[0012]获取构成所述镜头模组的化合物的多种组件化学成分；
[0013]确定与所述异物化学成分最接近的所述组件化学成分；
[0014]将所述组件化学成分对应的所述化合物确定为目标物质。
[0015]进一步，所述模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件包括：
[0016]设置多组条件变量模拟所述物态变化过程，将形成所述被检测异物对应的条件变量确定为被检测异物的形成条件。
[0017]进一步，所述条件变量包括：反应温度、反应湿度、反应亮度、所述镜头模组中感光芯片的材质。
[0018]进一步，基于所述镜头模组的使用环境设置所述条件变量。
[0019]进一步，所述方法还包括，所述确定所述被检测异物的形成条件后，基于所述形成条件，采取对应措施以避免所述被检测异物形成。
[0020]第二方面，本申请提供了一种异物的成分和形成条件的确认装置，所述装置包括：
[0021]检测模块，用于获取被检测异物的异物化学成分；
[0022]第一分析模块，用于基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质；
[0023]第二分析模块，用于模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件。
[0024]第三方面，本申请提供一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现如第一方面任一所述的方法步骤。
[0025]第四方面，本申请提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现如第一方面中任一所述的方法步骤。
[0026]本专利技术实施例中的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
[0027]在本专利技术实施例中，本专利技术通过获取被检测异物的异物化学成分；接着基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质；最后模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件，实现对异物成分和异物生成条件的确认，为技术人员采取有效手段防止异物的形成提供依据，随之带来保证镜头模组成像质量的技术效果。
附图说明
[0028]通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中，用相同的参考图形表示相同的部件。
[0029]在附图中：
[0030]图1示出了本专利技术实施例中的被检测异物示意图；
[0031]图2示出了本专利技术实施例中的步骤流程示意图；
[0032]图3示出了本专利技术实施例中被检测异物的能谱分析示意图；
[0033]图4示出了本专利技术实施例中目标物质的能谱分析示意图；
[0034]图5示出了本专利技术实施例中的电子结构设备示意图。
具体实施方式
[0035]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0036]实施例一
[0037]如附图1所示，镜头模组在使用一段时间后，镜头模组内部的感光芯片表面产生片状异物，影响镜头模组的成像质量。而异物的产生通常发生在冬天。
[0038]本申请实施例一通过提供一种异物的成分和形成条件的确认方法，解决无法确定感光芯片表面异物的具体成分，以及异物形成条件的技术问题。
[0039]为解决上述技术问题，本申请实施例的技术方案总体思路如下：
[0040]获取被检测异物的异物化学成分；基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质；模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件。
[0041]为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
[0042]首先说明，本文中出现的术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
[0043]本实施例提供了如图2所示的一种异物的成分和形成条件的确认方法，方法包括步骤S101—步骤S103。
[0044]步骤S101,获取被检测异物的异物化学成分；
[0045]步骤S102,基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质；
[0046]步骤S103,模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件。
[0047]首先，执行步骤S101,获取被检测异物的异物化学成分。
[0048]当电子射入物质后，从物质表面会发射出各种电子、光子及X射线等电磁波。由于入射电子的作用，内层电子处于激发态，外层电子向内跃迁填补有空位的轨道时，会产生等同于能量差的X射线，这就是特征X射线。由于不同化学元素具有各自对应的X射线特征波长，特征波长的大小则取决于能级跃迁过程中释放出的特征能量
△
E，通过对X射线的检测，能够进行元素分析。物质K层的电子被激发释放出的特征X射线被称为K线系；K线系对应轻元素，即原子量较小的元素,如氦、氢等。L层、M层被分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种异物的成分和形成条件的确认方法，其特征在于，所述方法包括：获取被检测异物的异物化学成分；基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质；模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件。2.如权利要求1所述的一种异物的成分和形成条件的确认方法，其特征在于，所述获取被检测异物的异物化学成分包括：采用能谱仪确定所述被检测异物的化学元素，以及所述化学元素的元素含量。3.如权利要求1所述的一种异物的成分和形成条件的确认方法，其特征在于，所述基于所述异物化学成分，确定镜头模组中的目标物质包括：获取构成所述镜头模组的化合物的多种组件化学成分；确定与所述异物化学成分最接近的所述组件化学成分；将所述组件化学成分与所述异物化学成分对应的所述化合物确定为目标物质。4.如权利要求1所述的一种异物的成分和形成条件的确认方法，其特征在于，所述模拟所述目标物质的物态变化过程，确定所述被检测异物的形成条件包括：设置多组条件变量模拟所述物态变化过程，将形成所述被检测异物对应的条件变量确定为被检测异物的形成条件。5.如权利要求4所述的一种异物的成分和形成条件的确认方法，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：王中华，树林，
申请(专利权)人：昆山丘钛光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：