【技术实现步骤摘要】
带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导
[0001]本专利技术涉及光波导器件领域,具体涉及一种带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导。
技术介绍
[0002]在高功率激光驱动的惯性约束聚变(ICF)系统中,需要对激光驱动器的靶面光束进行匀滑处理,因此需要实现光场模式的偏转及光束扫摆。目前,利用机械控制技术、电控液晶技术、声光效应、热光光束偏转技术、光谱色散扫摆技术以及大孔径电光晶体偏转器等技术或器件,均可实现光场模式的偏转及光束扫摆。然而,上述技术或器件存在着驱动电压高,器件体积大、光场偏转依赖光源波长以及扫摆频率低等缺陷。
[0003]为了改善上述缺陷,如图1所示,现有技术提供了一种带有锯齿阵列共面电极的芯层波导,其最大的特点是锯齿形阵列共面电极由一个个三角形电极构成,通过外加驱动电压到锯齿阵列共面电极,在光束传播方向上,波导芯层会形成折射率棱镜阵列,从而使得输出光的光场模式会发生横向偏转。现有技术在一定程度上解决了驱动电压高的问题,但其采用锯齿阵列共面电极形成的折射率棱镜阵列面积低,偏转效率较低;同时锯齿阵列共面电极的尖端部 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导,其特征在于,包括:衬底层;第一掩膜板以及第二掩膜板;所述第一掩膜板与所述第二掩膜板间隔设置在所述衬底层上,并于间隔处形成波导槽;波导芯层,设置在所述波导槽的底部;第一偏转电极,设置在波导槽内,并位于所述波导芯层上;所述第一偏转电极具有多个弯曲部;第二偏转电极,设置在所述第一掩膜板的靠近所述波导槽的边缘处;第三偏转电极,设置在所述第二掩膜板的靠近所述波导槽的边缘处;馈电组件,分别电连接第一偏转电极、第二偏转电极以及第三偏转电极的两端,以向第一偏转电极、第二偏转电极以及第三偏转电极提供电压。2.根据权利要求1所述的带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导,其特征在于,还包括:缓冲层,设置在所述波导芯层与所述第一偏转电极之间;所述缓冲层由二氧化硅制成,厚度介于0至600nm之间。3.根据权利要求1所述的带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导,其特征在于,所述衬底层为铌酸锂晶片,所述波导芯层为基于退火质子交换技术形成的铌酸锂波导芯层,其横截面呈半圆形。4.根据权利要求1所述的带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导,其特征在于,所述波导槽以及所述波导芯层均成喇叭状。5.根据权利要求4所述的带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导,其特征在于,所述波导芯层包括光输入端以及光输出端,且在光输入端与光输出端之间依次形成光束输入区、光束过渡区和光束调制区;其中,所述光束过渡区的横截面积随光传输方向逐渐增大;所述光束输入区的宽度等于所述光束过渡区的起始段的宽度,所述光束调制区的宽度等于所述光束过渡区的末尾段的宽度;所述第一偏转电极设置在所述光束调制区处;所述第二偏转电极以及第三偏转电极设置在光束调制区的两侧。6.根据权利要求5所述的带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导,其特征在于,光束输入区的长度为5mm,宽度为8μm;光束调制区的长度为10.5mm,宽度为80μm;光束过渡区的长度为5mm。7.根据权利要求4所述的带有弯曲形阵列共面电极的芯层波导,其特征在于,所述波导芯层包括光输入端以及光输出端,且在光输入端与光输出端之间依次形成光束输入区、光束过渡区、光束模式选择区、光束调制区和延长区;其中...
【专利技术属性】
技术研发人员:钟永春,成泓道,陈哲,朱文国,余健辉,郑华丹,
申请(专利权)人:暨南大学,
类型:发明
国别省市:
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