【技术实现步骤摘要】
一种回收光刻胶匀胶装置
[0001]本技术涉及光刻胶回收利用
,具体涉及一种回收光刻胶匀胶装置。
技术介绍
[0002]光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,通常运用于显示面板线路刻蚀保护,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。对于应用于某些特定工艺的光刻胶,部分厂商为降低成本,会采取回收再利用的方式,设备在涂胶的过程中会收集多余旋转外溢的废光刻胶,人工重新测试粘度,加入一定比例的稀释剂,通过人工晃动或者静态放置使其粘度达到新胶的品质,此种方式回收的光阻均匀性和品质较差。因此需要一种方案,提高回收光刻胶的匀胶品质。
技术实现思路
[0003]本技术提供一种回收光刻胶匀胶装置,以提高解决回收光刻胶的匀胶品质。
[0004]本技术提供一种回收光刻胶匀胶装置,包括:匀胶桶;所述匀胶桶的顶面一端设置有注胶口;所述匀胶桶内部设置有滤芯,以吸收过滤回收光刻胶中的异物和杂质;所述匀胶桶的底部 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种回收光刻胶匀胶装置,其特征在于,包括:匀胶桶;所述匀胶桶的顶面一端设置有注胶口;所述匀胶桶内部设置有滤芯,以吸收过滤回收光刻胶中的异物和杂质;所述匀胶桶的底部设置有出胶管,适于匀胶后的回收光刻胶从所述匀胶桶中排出;搅拌组件,所述搅拌组件包括电机和搅拌件;所述搅拌件包括旋转轴和搅拌叶片,所述旋转轴设置于所述匀胶桶中,且顶端贯穿所述匀胶桶的顶面而出;所述电机设置于所述匀胶桶顶部,所述电机的转轴对接所述旋转轴,适于带动所述旋转轴自转;所述叶片安装于所述旋转轴,位于所述匀胶桶内部,适于随所述旋转轴转动进行圆周运动。2.根据权利要求1所述的回收光刻胶匀胶装置,其特征在于,所述搅拌叶片自所述匀胶桶的顶部向底部方向上设置有至少三组,各组所述搅拌叶片的水平延伸方向之间存在夹角;所述至少三组所述搅拌叶片在自所述匀胶桶的顶部向底部方向上均匀分布。3.根据权利要求1所述的回收光刻胶匀胶装置,其特征在于,所述电机为变速电机,由低速至高速包含至少三个转速档位。...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈兵,郝力强,王勇波,穆欣炬,吴磊,
申请(专利权)人:苏州清越光电科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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