一种显示器阵列基板缺陷检测系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种显示器阵列基板缺陷检测系统，包括依次布置在待检测显示器阵列基板上的同轴照明系统以及成像系统，同轴照明系统形成的照明光路和成像系统形成的成像光路同轴设计。本实用新型专利技术能够快速无损检测显示器阵列基板缺陷，且结构简单，易实施。易实施。易实施。

【技术实现步骤摘要】
一种显示器阵列基板缺陷检测系统


[0001]本技术涉及光学检测
，特别涉及一种利用光学模块实现光场调制的显示器阵列基板缺陷检测系统。

技术介绍

[0002]目前，光学检测已被应用于薄膜晶体管(TFT)背板缺陷检出。与电学方法不同，光学方法是一种无损的显示器阵列基板缺陷的检出方法。然而，在传统的光学方法中，高分辨率的光学图像需要先被相机采集为电信号，再经过计算单元的算法处理才能分离出缺陷信息。因此，传统的光学方法难以适用于需要快速在线检测的产线中，能够快速无损检测显示器阵列基板缺陷的光学方法已经成为新的研究热点和未来发展的趋势。

技术实现思路

[0003]为解决现有技术存在的不足，本技术提出一种利用光学模块实现光场调制的显示器阵列基板缺陷检测系统。
[0004]本技术可通过以下技术方案予以实现：
[0005]一种显示器阵列基板缺陷检测系统，包括依次布置在待测显示器阵列基板上的同轴照明系统以及成像系统，所述同轴照明系统形成的照明光路和所述成像系统形成的成像光路同轴设计。
[0006]进一步地，所述同轴照明系统包括准直光源以及分光片，所述准直光源水平布置于待测显示器阵列基板的斜上方，所述分光片倾斜设置于所述待测显示器阵列基板的正上方，且指定波长光束从所述准直光源水平发出后经所述分光片后将光束垂直向下射至所述待测显示器阵列基板。
[0007]进一步地，所述同轴照明系统包括准直光源，所述准直光源置于所述待测显示器阵列基板的正下方。
[0008]进一步地，所述成像系统包含：镜头，光学滤波模块以及相机，所述镜头布置于所述分光片正上方，所述光学滤波模块放置于所述镜头的后焦平面上，所述相机放置于所述待测显示器阵列基板的共轭面位置处。
[0009]进一步地，所述光学滤波模块中使用光学全息模块作为空间滤波器。
[0010]进一步地，所述准直光源的光源发射端位于分光片正左方，且应处于反射成像光路范围以外。
[0011]进一步地，所述分光片跟地面呈45
°
放置。
[0012]有益效果
[0013]通过本技术实现的方法将传统光学方法中对采集完图像的缺陷检出算法处理部分转译为实体光学模块对物理上光场的调制，从而实现高分辨率图像采集与缺陷检出同时进行，是一种所见即所得的新型方法，且结构简单，易实施。
附图说明
[0014]图1为本技术的反射式结构示意图
[0015]图2为本技术的透射式结构示意图
[0016]图中1：相机，2：光学滤波模块，3：镜头，4：待测显示器阵列基板，5：准直光源，6：分光片。
具体实施方式
[0017]以下通过特定的具体实施例说明本技术的实施方式，本领域的技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本技术的其他优点及功效。
[0018]实施例1
[0019]如图1所示，本实施例的一种显示器阵列基板缺陷检测系统，包括依次布置在待检测显示器阵列基板上的同轴照明系统以及成像系统，同轴照明系统形成的照明光路和成像系统形成的成像光路同轴设计。
[0020]其中，同轴照明系统包括准直光源5以及分光片6，准直光源5水平布置于待测显示器阵列基板4的斜上方，准直光源5的光源发射端位于分光片正左方，且应处于反射成像光路范围以外。分光片6与地面呈45
°
倾斜设置于待测显示器阵列基板4的正上方，且指定波长光束从准直光源5水平发出后经分光片6后将光束垂直向下射至待测显示器阵列基板4。
[0021]其中，成像系统包含：镜头3，光学滤波模块2以及相机1，镜头3布置于分光片6正上方，光学滤波模块2放置于镜头3的后焦平面上，相机1放置于待测显示器阵列基板4的共轭面位置处。
[0022]指定波长光束从准直光源5水平发出，向右水平经过分光片6改变传播方向为垂直向下直至接触待测显示器阵列基板4；由待测显示器阵列基板4反射的光通过分光片6后被镜头3所收集并偏折；随后传播至镜头3的后焦平面处(即傅里叶域)并被光学滤波模块2所调制；最后在相机1的感光元件上成像，并由光信号转为电信号记录滤波后得到的缺陷图像以及位置。
[0023]本技术中相机1采用大画幅相机，保证大范围的视野；光学滤波模块2使用光学全息模块作为空间滤波器，将传统的算法转译为全光的全息部件，可以实现大于百万赫兹的超快速缺陷检测；镜头3采用大出瞳，较高数值孔径以及合适放大倍率的镜头，保证大视野，高光学质量的成像；准直光源5采用均匀准直光源，作为同轴照明的组成部分，使用合适的波长的单色光源，消除色差，并满足需求的光学分辨率；分光片6为片状分光器，作为同轴照明的组成部分，将照明光路(虚线)与成像光路(实线)共轴。
[0024]实施例2
[0025]如图2所示，本实施例中的一种显示器阵列基板缺陷检测系统，包括依次布置在待检测显示器阵列基板上的同轴照明系统以及成像系统，同轴照明系统形成的照明光路和成像系统形成的成像光路同轴设计。其中，同轴照明系统包括准直光源5，准直光源5置于待测显示器阵列基板4的正下方。成像系统包含：镜头3，光学滤波模块2以及相机1，镜头3布置于分光片6正上方，光学滤波模块2放置于镜头3的后焦平面上，相机1放置于待测显示器阵列基板4的共轭面位置处。
[0026]以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本
技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示器阵列基板缺陷检测系统，其特征在于，包括依次布置在待测显示器阵列基板上的同轴照明系统以及成像系统，所述同轴照明系统形成的照明光路和所述成像系统形成的成像光路同轴设计。2.根据权利要求1所述的显示器阵列基板缺陷检测系统，其特征在于，所述同轴照明系统包括准直光源(5)以及分光片(6)，所述准直光源(5)水平布置于待测显示器阵列基板(4)的斜上方，所述分光片(6)倾斜设置于所述待测显示器阵列基板(4)的正上方，且指定波长光束从所述准直光源(5)水平发出后经所述分光片(6)后将光束垂直向下射至所述待测显示器阵列基板(4)。3.根据权利要求1所述的显示器阵列基板缺陷检测系统，其特征在于，所述同轴照明系统包括准直光源(5)，所述准直光源(5)置于所述待测显示器阵列基板(4)的正下方。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚海，王楚天，杨彦琳，魏新和，顾海鹏，安亚通，陈俊秀，
申请(专利权)人：浙江大学湖州研究院，
类型：新型
国别省市：