一种LPCVD设备用双层管结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种LPCVD设备用双层管结构，包括内管及套设在内管外的外管，所述内管两端延伸至外管外，并均套设有内管法兰，所述外管两端均套设有外管法兰，所述内管法兰及外管法兰一一对应的密封连接，以使内管、内管法兰、外管法兰与外管之间形成密封腔室，所述密封腔室内设有压力检测器，所述内管法兰及外管法兰均设于LPCVD设备上。本实用新型专利技术具有结构简单、能及时了解内管损坏的优点。能及时了解内管损坏的优点。能及时了解内管损坏的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种LPCVD设备用双层管结构


[0001]本技术涉及LPCVD工艺
，具体涉及一种LPCVD设备用双层管结构。

技术介绍

[0002]LPCVD设备用单层管结构，在实际应用过程中容易发生损坏，产生微裂纹就会影响设备密封，无法继续进行生产，需要经常进行维护。LPCVD设备用双层管结构，在实际应用过程中，有外管进行密封，具体反应在内管完成。当内管损坏产生裂纹时，不影响外管密封，设备可以继续进行生产使用，但是无法了解内管裂纹的产生时间及内管的损坏程度，无法及时对内管进行更换，可能会导致内管继续损坏，甚至脱落砸坏管内其它配件，增加损失。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、能及时了解内管损坏的LPCVD设备用双层管结构。
[0004]为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：
[0005]一种LPCVD设备用双层管结构，包括内管及套设在内管外的外管，所述内管两端延伸至外管外，并均套设有内管法兰，所述外管两端均套设有外管法兰，所述内管法兰及外管法兰一一对应的密封连接，以使内管、内管法兰、外管法兰与外管之间形成密封腔室，所述密封腔室内设有压力检测器，所述内管法兰及外管法兰均设于LPCVD设备上。
[0006]作为上述技术方案的进一步改进：
[0007]所述内管法兰与外管法兰之间通过第一密封圈密封连接。
[0008]所述第一密封圈抵紧在外管周侧。
[0009]所述内管法兰及外管法兰上均设有第一密封槽，所述第一密封圈抵紧于内管法兰及外管法兰的第一密封槽内。
[0010]所述内管两端还套设有密封法兰，所述内管法兰位于外管法兰与密封法兰之间，所述密封法兰设于LPCVD设备上，所述密封法兰与对应的内管法兰之间设有第二密封圈，所述第二密封圈抵紧在内管周侧。
[0011]所述内管法兰及密封法兰上均设有第二密封槽，所述第二密封圈抵紧于内管法兰及密封法兰的第二密封槽内。
[0012]所述内管与外管同轴布置。
[0013]所述外管底部与LPCVD设备之间设有第一支撑件。
[0014]所述内管底部与外管之间设有第二支撑件。
[0015]所述压力检测器上设有报警灯。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果在于：本技术公开的LPCVD设备用双层管结构，内管法兰与外管法兰一一对应的密封连接，以使内管、内管法兰、外管法兰及外管之间形成密封腔室，密封腔室内设置压力检测器，LPCVD工艺在内管内进行反应，正常工艺情况下，压力检测器维持在常压状态，若在反应过程中内管破裂，则会导致密封腔室内的
压力发生波动，压力检测器检测到压力波动，能够知晓内管破裂，并能够根据压力波动值预估内管破裂程度，便于及时停止正在进行的LPCVD工艺，及时更换内管，维护LPCVD设备，避免内管脱落砸坏管内其它配件，减少损失。
附图说明
[0017]图1为本技术LPCVD设备用双层管结构的剖视结构示意图。
[0018]图中各标号表示：1、内管；2、外管；3、内管法兰；4、外管法兰；5、密封腔室；6、压力检测器；61、报警灯；7、LPCVD设备；8、第一密封圈；9、密封法兰；10、第二密封圈；11、第一密封槽；12、第二密封槽；13、第一支撑件；14、第二支撑件。
具体实施方式
[0019]以下结合说明书附图和具体实施例对本技术作进一步详细说明。
[0020]如本公开和权利要求书中所示，除非上下文明确提示例外情形，“一”、“一个”、“一种”和/或“该”等词并非特指单数，也可包括复数。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。
[0021]图1示出了本技术的一种实施例，本实施例的LPCVD设备用双层管结构，包括内管1及套设在内管1外的外管2，内管1两端延伸至外管2外，并均套设有内管法兰3，外管2两端均套设有外管法兰4，内管法兰3与外管法兰4一一对应的密封连接，以使内管1、内管法兰3、外管法兰4及外管2之间形成密封腔室5，密封腔室5内设有压力检测器6，内管法兰3及外管法兰4均设于LPCVD设备7上。
[0022]该LPCVD设备用双层管结构，内管法兰3与外管法兰4一一对应的密封连接，以使内管1、内管法兰3、外管法兰4及外管2之间形成密封腔室5，密封腔室5内设置压力检测器6，LPCVD工艺在内管1内进行反应，正常工艺情况下，压力检测器6维持在常压状态，若在反应过程中内管1破裂，则会导致密封腔室5内的压力发生波动，压力检测器6检测到压力波动，能够知晓内管1破裂，并能够根据压力波动值预估内管1破裂程度，便于及时停止正在进行的LPCVD工艺，及时更换内管1，维护LPCVD设备7，避免内管1脱落砸坏管内其它配件，减少损失。优选地，内管1为石英管，耐高温、耐腐蚀，热稳定性好，外管2为金属管或碳化硅管，强度高。内管1与外管2同轴布置，结构美观。
[0023]本实施例中，内管法兰3与外管法兰4之间通过第一密封圈8密封连接。避免外部气体通过内管法兰3与外管法兰4之间的间隙进入密封腔室5内，保证密封腔室5内的密封性。
[0024]本实施例中，第一密封圈8抵紧在外管2周侧。避免外部气体通过内管法兰3与外管2之间的间隙、外管法兰4与外管2之间的间隙进入密封腔室5内，进一步保证密封腔室5内的密封性，保证压力检测器6的测量准确性。
[0025]本实施例中，内管法兰3及外管法兰4上均设有第一密封槽11，第一密封圈8抵紧于内管法兰3及外管法兰4的第一密封槽11内。结构紧凑，便于安装第一密封圈8。
[0026]本实施例中，内管1两端还套设有密封法兰9，内管法兰3位于外管法兰4与密封法
兰9之间，密封法兰9设于LPCVD设备7上，密封法兰9与对应的内管法兰3之间设有第二密封圈10，第二密封圈10抵紧在内管1周侧。避免外部空气通过外管法兰4与外管2之间的间隙进入密封腔室5内，更进一步保证密封腔室5内的密封性及压力检测器6的测量准确性。
[0027]本实施例中，内管法兰3及密封法兰9上均设有第二密封槽12，第二密封圈10抵紧于内管法兰3及密封法兰9的第二密封槽12内。结构紧凑，便于安装第二密封圈10。
[0028]本实施例中，外管2底部与LPCVD设备7之间设有第一支撑件13。第一支撑件13对外管2中部起支撑作用，避免外管2因跨距长承载重而断裂。
[0029]本实施例中，内管1底部与外管2之间设有第二支撑件14。第二支撑件14对内管1中部起支撑作用，避免内管1因跨距长承载重而断裂。
[0030]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种LPCVD设备用双层管结构，包括内管(1)及套设在内管(1)外的外管(2)，其特征在于：所述内管(1)两端延伸至外管(2)外，并均套设有内管法兰(3)，所述外管(2)两端均套设有外管法兰(4)，所述内管法兰(3)与外管法兰(4)一一对应的密封连接，以使内管(1)、内管法兰(3)、外管法兰(4)及外管(2)之间形成密封腔室(5)，所述密封腔室(5)内设有压力检测器(6)，所述内管法兰(3)及外管法兰(4)均设于LPCVD设备(7)上。2.根据权利要求1所述的LPCVD设备用双层管结构，其特征在于：所述内管法兰(3)与外管法兰(4)之间通过第一密封圈(8)密封连接。3.根据权利要求2所述的LPCVD设备用双层管结构，其特征在于：所述第一密封圈(8)抵紧在外管(2)周侧。4.根据权利要求2所述的LPCVD设备用双层管结构，其特征在于：所述内管法兰(3)及外管法兰(4)上均设有第一密封槽(11)，所述第一密封圈(8)抵紧于内管法兰(3)及外管法兰(4)的第一密封槽(11)内。5.根据权利要求1至4中任一项所述的LPCVD设备用双层管结构，其特征在于：所述内管(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴志明，左佳旺，
申请(专利权)人：湖南红太阳光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：