发光元件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种发光元件的制造方法，其能够以不使第一发光层产生损伤的方式制造具备第一发光层及形成在第一发光层上的隔堤的发光元件。本发明专利技术的发光元件的制造方法包括：基底元件准备工序，其中，准备在基材上配置有单色的第一发光层的基底元件；含氟树脂图案膜形成工序，其中，将光敏性树脂组合物以划分出所述基底元件的至少一部分区域的方式配置在所述基底元件上而形成含氟树脂图案膜，所述光敏性树脂组合物至少包含含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂，所述含氟树脂包含由具有氟原子的烃组成的重复单元且具有交联部位；及烘烤工序，其中，通过以200℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行烘烤而使其固化。案膜进行烘烤而使其固化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】发光元件的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种发光元件的制造方法。

技术介绍

[0002]在制造有机EL显示器、微型LED显示器、量子点显示器等的显示元件时，作为具有发光等功能的有机层的形成方法，已知有喷墨法。喷墨法有几种方法，具体而言，可列举出通过喷嘴向形成在基板上的具有凹凸的图案膜的凹部滴加油墨并使其固化的方法，或者以亲液部和拒液部的形式预先在基板上形成图案膜，并向该图案膜上滴加油墨的液滴而仅使亲液部附着油墨的方法，所述亲液部为被油墨浸润的部位、所述拒液部为排斥油墨的部位。
[0003]特别是在上文中列举的通过喷嘴向图案膜的凹部滴加油墨并使其固化的方法中，为了制作这种具有凹凸的图案膜，主要能够采用两种方法。一种是通过以图案状对涂布在基板上的光敏性抗蚀膜的表面进行曝光而形成曝光部和未曝光部，用显影液溶解去除任一部位的光刻法；另一种是使用印刷技术的压印法。通常在形成具有凹凸的图案膜后，对基板的整个面进行UV臭氧处理或氧等离子体处理。通过该UV臭氧处理或氧等离子体处理，尤其能够去除图案膜的凹部的残留有机物，减少所滴加的油墨的润湿不均，由此能够预先防止显示元件的缺陷。
[0004]所形成的具有凹凸的图案膜的凸部被称为隔堤(bank)(间隔壁)，在向图案膜的凹部滴加油墨时，隔堤作为不使油墨相互混合的屏障而发挥作用。为了提高这一作为屏障的效果，要求图案膜凹部的基板表面露出，其基板表面对油墨为亲液性，且隔堤的上表面对油墨为拒液性。
[0005]专利文献1公开了一种含有乙烯基聚合物的光敏性树脂组合物，所述乙烯基聚合物含有具有环氧基的侧链。现有技术文献专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2016
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142753号公报

技术实现思路

本专利技术要解决的技术问题
[0007]例如，量子点显示器的发光元件通过将第一发光层与第二发光层层叠而成，所述第二发光层将来自第一发光层的光作为激发光而发光。在制造这种具备第一发光层与第二发光层的发光元件时，形成第一发光层，利用隔堤将第一发光层上的区域划分，并在该经划分的区域形成第二发光层。为了形成这种隔堤，使用专利文献1的光敏性树脂组合物。
[0008]在使用专利文献1所记载的光敏性树脂组合物形成隔堤时，为了使光敏性树脂组合物固化，进行被称为烘烤(bake)的加热。该烘烤在将光敏性树脂组合物配置于第一发光层上后进行，因此第一发光层也会
因烘烤而受热。存在第一发光层因该烘烤所产生的热而受到损伤，从而变得不会充分地发光的问题。
[0009]本专利技术的技术问题在于，提供一种发光元件的制造方法，其能够以不使第一发光层产生损伤的方式制造具备第一发光层及形成在第一发光层上的隔堤的发光元件。解决技术问题的技术手段
[0010]本申请的专利技术人鉴于上述问题点进行了深入的研究。结果发现，通过使用至少包含具有交联部位的含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂且上述含氟树脂包含由具有氟原子的烃组成的重复单元的光敏性树脂组合物，并于200℃以下进行烘烤，能够解决上述技术问题，从而完成了本专利技术。
[0011]本专利技术的发光元件的制造方法使用可在低温下固化的光敏性树脂组合物，因此能够在不对第一发光层造成较大热损伤的情况下形成隔堤。因此，能够制造发光性能足够高的发光元件。
[0012]即，本专利技术如下所述。
[0013][专利技术1]一种发光元件的制造方法，其包括：基底元件(base element)准备工序，其中，准备在基材上配置有单色的第一发光层的基底元件；含氟树脂图案膜形成工序，其中，将光敏性树脂组合物以划分出所述基底元件的至少一部分区域的方式配置在所述基底元件上，形成含氟树脂图案膜，该光敏性树脂组合物至少包含含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂，该含氟树脂包含由具有氟原子的烃组成的重复单元且具有交联部位；及烘烤工序，其中，通过以200℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行烘烤而使其固化。
[0014][专利技术2]根据专利技术1所述的发光元件的制造方法，其进一步包括第二发光层形成工序，其中，在由所述含氟树脂图案膜划分的区域形成将来自所述第一发光层的光作为激发光而发光的第二发光层。
[0015][专利技术3]根据专利技术1或2所述的发光元件的制造方法，其中，所述第一发光层为单色层。
[0016][专利技术4]根据专利技术1～3中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，所述由具有氟原子的烃组成的重复单元具有下述式(1)所表示的结构。[化学式1]‑
CR2＝CRf2ꢀꢀ
(1)式(1)中，Rf各自独立地表示碳原子数为1～6的直链状全氟烷基、碳原子数为3～6的支链状全氟烷基或碳原子数为3～6的环状全氟烷基、或者氟原子；R2表示氢原子、碳原子数为1～6的直链状烷基、碳原子数为3～6的支链状烷基或碳原子数为3～6的环状烷基。
[0017][专利技术5]根据专利技术1～4中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，所述由具有氟原子的烃组成的重复单元具有下述式(2)所表示的结构。[化学式2]式(2)中，Rf各自独立地表示碳原子数为1～6的直链状全氟烷基、碳原子数为3～6的支链状全氟烷基或碳原子数为3～6的环状全氟烷基、或者氟原子；R1表示氢原子、氟原子或甲基；R2表示氢原子、碳原子数为1～6的直链状烷基、碳原子数为3～6的支链状烷基或碳原子数为3～6的环状烷基。
[0018][专利技术6]根据专利技术4或5所述的发光元件的制造方法，其中，所述式(1)或所述式(2)中的Rf为氟原子、三氟甲基、二氟甲基、五氟乙基、2,2,2
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三氟乙基、七氟正丙基、2,2,3,3,3
‑
五氟丙基、3,3,3
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三氟丙基、六氟异丙基、七氟异丙基、九氟正丁基、九氟异丁基或九氟叔丁基。
[0019][专利技术7]根据专利技术1～6中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，所述含氟树脂的含氟率为20～50质量％。
[0020][专利技术8]根据专利技术1～7中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，所述光敏性树脂组合物进一步包含交联剂。
[0021][专利技术9]根据专利技术1～8中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，所述光敏性树脂组合物进一步包含碱溶性树脂。
[0022][专利技术10]根据专利技术1～9中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，所述光敏性树脂组合物进一步包含着色剂。
[0023][专利技术11]根据专利技术1～10中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，在所述烘烤工序中，以140℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行固化。
[0024][专利技术12]根据专利技术1～11中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，在所述含氟树脂图案膜形成工序之后，包括以高能量射线对所述含氟树脂图案膜进行曝光的曝光工序。
[0025][专利技术13]根据专利技术12所述的发光元件的制造方法，其中，所述高能量射线为选自由紫外线、伽马射线、X射线及α射线组成的组中的至少一种。
[0026][专利技术14]根据专利技术1～13中任一项所述的发光元件的制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种发光元件的制造方法，其包括：基底元件准备工序，其中，准备在基材上配置有单色的第一发光层的基底元件；含氟树脂图案膜形成工序，其中，将光敏性树脂组合物以划分出所述基底元件的至少一部分区域的方式配置在所述基底元件上，形成含氟树脂图案膜，所述光敏性树脂组合物至少包含含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂，所述含氟树脂包含由具有氟原子的烃组成的重复单元且具有交联部位；及烘烤工序，其中，通过以200℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行烘烤而使其固化。2.根据权利要求1所述的发光元件的制造方法，其进一步包括第二发光层形成工序，其中，在由所述含氟树脂图案膜划分的区域形成将来自所述第一发光层的光作为激发光而发光的第二发光层。3.根据权利要求1或2所述的发光元件的制造方法，其中，所述第一发光层为单色层。4.根据权利要求1～3中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，所述由具有氟原子的烃组成的重复单元具有下述式(1)所表示的结构：[化学式1]
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CR2＝CRf2ꢀꢀꢀ
(1)式(1)中，Rf各自独立地表示碳原子数为1～6的直链状全氟烷基、碳原子数为3～6的支链状全氟烷基或碳原子数为3～6的环状全氟烷基、或者氟原子；R2表示氢原子、碳原子数为1～6的直链状烷基、碳原子数为3～6的支链状烷基或碳原子数为3～6的环状烷基。5.根据权利要求1～4中任一项所述的发光元件的制造方法，其中，所述由具有氟原子的烃组成的重复单元具有下述式(2)所表示的结构：[化学式2]式(2)中，Rf各自独立地表示碳原子数为1～6的直链状全氟烷基、碳原子数为3～6的支链状全氟烷基或碳原子数为3～6的环状全氟烷基、或者氟原子；R1表示氢原...

【专利技术属性】
技术研发人员：兼子让，坂井田悠太，佐佐木佳子，佐野明日香，
申请(专利权)人：中央硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：