一种提高真空度稳定性的真空管道系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种提高真空度稳定性的真空管道系统；在半导体晶圆、液晶面板等电子生产企业的生产过程，对于工艺真空的使用场景中，在厂房洁净室内按照长边设置2个工艺真空管道环网，分别为工艺真空管道环网A（1）和工艺真空管道环网B（2），在2个工艺真空管道环网中间的两端位置分别设置旁通电动阀A（3）及旁通电动阀B（4），当工艺真空管道环网远端上的真空表实时侦测到其中一个工艺真空管道环网真空度不够时，自动打开旁通电动阀A（3）及旁通电动阀B（4），从而通过互补和主管缓冲的方式稳定工艺使用点真空度。该设计方法是在厂房洁净室内设置2个工艺真空管道环网，通过2个环网中间的旁通电动阀作为备用缓冲。的旁通电动阀作为备用缓冲。的旁通电动阀作为备用缓冲。

【技术实现步骤摘要】
一种提高真空度稳定性的真空管道系统


[0001]本技术适用于电子半导体晶圆厂和液晶面板厂的工艺真空系统洁净室环网管道可以实现始终稳定真空度的
，具体来讲涉及的是一种提高真空度稳定性的晶圆、面板厂工艺真空管道系统；当电子行业厂房洁净室真空管路环网出现真空度降低时，通过工艺真空管道环网远端上的真空表控制环网之间电动阀门旁路的开启，从而能够满足生产工艺的要求，稳定工艺设备针对工艺真空系统真空度不发生过多波动和明显降低需求的控制。

技术介绍

[0002]工艺真空系统广泛应用于电子半导体、光电背光模组、机械加工等行业，特别是在电子半导体、光电背光模组领域工艺真空需要有极高的运行稳定性和可靠性。随着电子半导体、光电背光模组工艺的不断升级叠代，12英寸晶圆厂和8.5代面板厂所需的洁净室面积越来越大（工艺真空管道也越来越远），出现靠近真空泵一侧真空度比较高，真空管道末端的真空度比较低，而且末端真空度经常出现上下频繁波动。随着半导体晶圆、面板等电子企业生产工艺的不断进步，特别是一些高精度工艺设备的使用；工艺工程师们越来越重视工艺真空系统的真空度稳定性，以便本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高真空度稳定性的真空管道系统，其特征在于：在厂房洁净室内按照长边设置2个工艺真空管道环网，在2个工艺真空管道环网中间设有2个电动阀阀门旁通连接。2.根据权利要求1所述一种提高真空度稳定性的真空管道系统，其特征在于：2个工艺真空管道...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘阳，姜华，叶芳，时亮，徐康，周忠昀，
申请(专利权)人：信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司，
类型：新型
国别省市：