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本实用新型公开了一种提高真空度稳定性的真空管道系统；在半导体晶圆、液晶面板等电子生产企业的生产过程，对于工艺真空的使用场景中，在厂房洁净室内按照长边设置2个工艺真空管道环网，分别为工艺真空管道环网A（1）和工艺真空管道环网B（2），在2个工...该专利属于信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司授权不得商用。