转化结构及线阵列光源制造技术

技术编号:36566309 阅读:11 留言:0更新日期:2023-02-04 17:22
本发明专利技术提供的一种转化结构及线阵列光源,涉及光学结构技术领域,以在一定程度上解决现阶段缩小发光面积需要通过缩小光源本身面积,使得制造难度较大,且成本较高的问题。本发明专利技术提供的转化结构,包括支撑构件、反射组件以及导光构件;支撑构件和反射组件围设成反射空间,光源设置于反射空间内,反射组件包括第一反射组件和第二反射组件,导光构件位于第一反射组件和第二反射组件之间;导光构件包括进光部、传导部和出光部,进光部位于反射空间内,且与光源对应设置,出光部位于反射空间外,且出光部的面积小于进光部的面积,传导部位于进光部和出光部之间。部和出光部之间。部和出光部之间。

【技术实现步骤摘要】
转化结构及线阵列光源


[0001]本专利技术涉及光学结构
,尤其是涉及一种转化结构及线阵列光源。

技术介绍

[0002]常规的LED阵列一半一般使用单个LED器件或芯片紧密排列而成,受器件和芯片的尺度影响,很难形成更小的阵列。而LED线阵特别是紫外LED线阵在激光打印、光固化、光检测、光处理等方面有重要的用途。如激光打印机光源为长波长激光器,光生静电元件的点阵分辨率有一定限制,使用紫外微LED器件等短波长器件可以减小技术极限。
[0003]但现阶段大多采用减小LED芯片的面积的方式实现,而由于LED芯片本身的尺寸较小,进一步缩小LED芯片的尺寸不仅技术难度较大,而且会极大的增加成本。
[0004]因此,急需提供一种转化结构及线阵列光源,以在一定程度上解决现有技术中存在的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种转化结构及线阵列光源,以在一定程度上解决现阶段缩小发光面积需要通过缩小光源本身面积,使得制造难度较大,且成本较高的问题。
[0006]本专利技术提供的一种转化结构,包括支撑构件、反射组件以及导光构件;所述支撑构件和所述反射组件围设成反射空间,光源设置于所述反射空间内,所述反射组件包括第一反射构件和第二反射构件,所述导光构件位于所述第一反射构件和所述第二反射构件之间;所述导光构件包括进光部、传导部和出光部,所述进光部位于所述反射空间内,且与所述光源对应设置,所述出光部位于所述反射空间外,且所述出光部的面积小于所述进光部的面积,所述传导部位于所述进光部和所述出光部之间。
[0007]其中,所述支撑构件包括第一支撑部和第二支撑部,所述第二支撑部的水平高度小于所述第一支撑部的水平高度,所述第一反射构件的一端盖设于所述第一支撑部上,且所述第一反射构件与所述第一支撑部和所述第二支撑部围设成敞口部,所述导光构件的传导部由所述敞口部伸出;所述第二反射构件的一端与所述第二支撑部相连接,且所述第二反射构件与所述第一反射构件平行设置。
[0008]具体地,所述第二反射构件上形成有第一承载槽,所述第一承载槽的形状与导光构件的所述传导部和所述出光部相适配,且所述第一承载槽的面积不小于所述传导部和所述出光部的面积总和,以使所述传导部和所述出光部能够设置于所述第一承载槽内。
[0009]进一步地,所述第一反射构件上形成有第二承载槽,所述第二承载槽的形状与所述导光构件相适配,所述第二承载槽的面积不小于所述导光构件的面积,且所述第二承载槽与所述第一承载槽相对应形成承载空间,将所述导光构件围设于所述承载空间内;所述第一反射构件对应所述出光部的位置形成有镂空部,以将所述出光部露出。
[0010]更进一步地,所述第一承载槽和所述第二承载槽内均覆有第一反射层,以使光线在所述导光构件内传导。
[0011]其中,所述支撑构件朝向所述反射空间内的壁面上覆有第二反射层,以将所述光源发出的光线反射至所述进光部。
[0012]具体地,所述传导部与所述进光部对接的一侧的尺寸大于所述传导部与所述出光部对接的一侧的尺寸,以使所述传导部呈渐收式结构。
[0013]相对于现有技术,本专利技术提供的转化结构具有以下优势:
[0014]本专利技术提供的转化结构,包括支撑构件、反射组件以及导光构件;支撑构件和反射组件围设成反射空间,光源设置于反射空间内,反射组件包括第一反射构件和第二反射构件,导光构件位于第一反射构件和第二反射构件之间;导光构件包括进光部、传导部和出光部,进光部位于反射空间内,且与光源对应设置,出光部位于反射空间外,且出光部的面积小于进光部的面积,传导部位于进光部和出光部之间。
[0015]由此分析可知,通过支撑构件能够为第一反射构件和第二反射构件提供稳定的安装位置,相应地,通过第一反射构件和第二反射构件与支撑构件的连接,能够围设成反射空间,通过将光源设置于反射空间内,从而能够使光源发出的光线在反射空间内进行不断反射。
[0016]而由于本申请中第一反射构件和第二反射构件之间设有导光构件,且导光构件包括进光部、传导部以及出光部,且进光部位于反射空间内,因此,在反射空间内的光线能够经过进光部进入导光构件,并经过传导部射向出光部,经由出光部射出。
[0017]由于本申请中的出光部的面积小于进光部的面积,且进光部对应光源设置,因此,通过本申请提供的转化结构,无需缩小大尺寸光源的面积便可实现缩小发光面积的目的,从而能够在一定程度上降低整体装置的制造难度和制造成本。
[0018]此外,本专利技术还提供一种线阵列光源,包括多个光源以及上述的转化结构;多个所述光源呈线性阵列式分布,所述转化结构与所述光源一一对应设置。
[0019]其中,位于同一行的两个相邻的所述光源对应所述转化结构呈中心对称设置,且呈中心对称的两个所述转化结构的出光部位于同一直线上。
[0020]具体地,本专利技术提供的线阵列光源,还包括基板,所述光源和所述转化结构均设置于所述基板上。
[0021]采用本申请提供的转化结构形成的线阵列光源,无需改变原有大尺寸光源的尺寸,并且,由于导光构件能够将光源发出的光进行传导,因此,在发光效率以及光源尺寸不改变的情况下,缩小了发光面积,从而能够极大的降低制造成本和制造难度。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为本专利技术实施例提供的转化结构第一视角的结构示意图;
[0024]图2为本专利技术实施例提供的转化结构第二视角的结构示意图;
[0025]图3为本专利技术实施例提供的转化结构中支撑构件在基板上的结构示意图;
[0026]图4为本专利技术实施例提供的转化结构中反射组件和导光构件第一视角的分解结构
示意图;
[0027]图5为本专利技术实施例提供的转化结构中反射组件和导光构件第二视角的分解结构示意图;
[0028]图6为本专利技术实施例提供的线阵列光源的布局示意图。
[0029]图中:1

支撑构件;101

第一支撑部;102

第二支撑部;103

缺口;104

反射空间;2

第一反射构件;201

第二承载槽;2011

镂空部;3

第二反射构件;301

第一承载槽;4

导光构件;401

进光部;402

传导部;403

出光部;5

光源;6

基板。
具体实施方式
[0030]为使本申请实施例的目的、技术本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种转化结构,其特征在于,包括支撑构件、反射组件以及导光构件;所述支撑构件和所述反射组件围设成反射空间,光源设置于所述反射空间内,所述反射组件包括第一反射构件和第二反射构件,所述导光构件位于所述第一反射构件和所述第二反射构件之间;所述导光构件包括进光部、传导部和出光部,所述进光部位于所述反射空间内,且与所述光源对应设置,所述出光部位于所述反射空间外,且所述出光部的面积小于所述进光部的面积,所述传导部位于所述进光部和所述出光部之间。2.根据权利要求1所述的转化结构,其特征在于,所述支撑构件包括第一支撑部和第二支撑部,所述第二支撑部的水平高度小于所述第一支撑部的水平高度,所述第一反射构件的一端盖设于所述第一支撑部上,且所述第一反射构件与所述第一支撑部和所述第二支撑部围设成敞口部,所述导光构件的传导部由所述敞口部伸出;所述第二反射构件的一端与所述第二支撑部相连接,且所述第二反射构件与所述第一反射构件平行设置。3.根据权利要求1所述的转化结构,其特征在于,所述第二反射构件上形成有第一承载槽,所述第一承载槽的形状与导光构件的所述传导部和所述出光部相适配,且所述第一承载槽的面积不小于所述传导部和所述出光部的面积总和,以使所述传导部和所述出光部能够设置于所述第一承载槽内。4.根据权利要求3所述的转化结构,其特征在于,所述第一反射构件上形成...

【专利技术属性】
技术研发人员:余湛曹峻松阮军逄悦
申请(专利权)人:北京智创华科半导体研究院有限公司
类型:发明
国别省市:

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