风格化基底生成方法、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸

本公开提供了风格化基底生成方法、装置、电子设备及存储介质，涉及增强现实、虚拟现实、计算机视觉以及深度学习等人工智能领域，可应用于元宇宙和虚拟数字人等场景。其中的方法可包括：获取预定风格的第一基础基底；针对待生成类型基底，获取对应的所述待生成类型的真实人脸基底，作为参考基底；根据所述参考基底以及所述第一基础基底，生成所述预定风格的所述待生成类型基底。应用本公开所述方案，可节省人力和时间成本，提升处理效率等。提升处理效率等。提升处理效率等。

【技术实现步骤摘要】
风格化基底生成方法、装置、电子设备及存储介质


[0001]本公开涉及人工智能
，特别涉及增强现实、虚拟现实、计算机视觉以及深度学习等领域的风格化基底生成方法、装置、电子设备及存储介质。

技术介绍

[0002]三维风格化重建主要可通过混合形状(BlendShapes)方式实现。
[0003]该方式的实现需要依赖于风格化的基底(Base)、形状基底和表情基底，即可借助于风格化的基底、形状基底和表情基底等来完成三维风格化重建。其中，为与形状基底和表情基底进行区分，可将基底称为基础基底。

技术实现思路

[0004]本公开提供了风格化基底生成方法、装置、电子设备及存储介质。
[0005]一种风格化基底生成方法，包括：
[0006]获取预定风格的第一基础基底；
[0007]针对待生成类型基底，获取对应的所述待生成类型的真实人脸基底，作为参考基底；
[0008]根据所述参考基底以及所述第一基础基底，生成所述预定风格的所述待生成类型基底。
[0009]一种风格化基底生成装置，包括：第一获取模本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种风格化基底生成方法，包括：获取预定风格的第一基础基底；针对待生成类型基底，获取对应的所述待生成类型的真实人脸基底，作为参考基底；根据所述参考基底以及所述第一基础基底，生成所述预定风格的所述待生成类型基底。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一基础基底包括：按照所述预定风格对第二基础基底进行调整后得到的基础基底，所述第二基础基底为真实人脸基底。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述根据所述参考基底以及所述第一基础基底，生成所述预定风格的所述待生成类型基底包括：根据所述第一基础基底以及所述第二基础基底，确定出仿射变换矩阵；根据所述参考基底以及所述仿射变换矩阵，生成所述预定风格的所述待生成类型基底。4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述根据所述参考基底以及所述仿射变换矩阵，生成所述预定风格的所述待生成类型基底包括：根据所述参考基底以及所述仿射变换矩阵，通过形变迁移算法，生成所述预定风格的所述待生成类型基底。5.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，所述参考基底包括：M维参考基底，M为大于一的正整数，所述M维参考基底为主成分分析参考基底；所述生成所述预定风格的所述待生成类型基底包括：生成M维所述预定风格的所述待生成类型基底。6.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，所述待生成类型基底包括：形状基底和/或表情基底。7.一种风格化基底生成装置，包括：第一获取模块、第二获取模块以及生成模块；所述第一获取模块，用于获取预定风格的第一基础基底；所述第二获取模块，用于针对待生成类型基底，获取对应的所述待生成类型的真实人脸基底，作为参考基底；所述生成模块，用于根据所述参考基底以及所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：王迪，
申请(专利权)人：北京百度网讯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：