干洗航空航天用清洁组合物制造技术

公开了可用于清洁飞行器中存在的涂漆和未涂漆的金属表面以及聚合物表面的免冲洗航空航天用清洁组合物，所述组合物包含水包油乳液，所述水包油乳液含有水、有机溶剂、无蜡光泽剂的水性乳液、固体颗粒、聚烷基硅氧烷油、表面活性剂、乳化剂、增稠剂、腐蚀抑制剂和pH调节剂；还提供了制备和使用所述组合物的方法。还提供了制备和使用所述组合物的方法。还提供了制备和使用所述组合物的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】干洗航空航天用清洁组合物


[0001]本公开总体上涉及干洗航空航天用清洁组合物，所述干洗航空航天用清洁组合物可用于清洁和抛光涂漆和未涂漆的航空航天金属和非金属表面，而期望地无需在施加之前或者施加之后冲洗。本公开还涉及制备此类组合物的方法、使用所述组合物清洁和抛光的方法、以及经所述清洁组合物处理的基材。

技术介绍

[0002]本部分提供背景信息，所述背景信息不一定是与本公开相关的专利技术构思的现有技术。
[0003]金属和非金属航空航天表面(例如，飞行器主体)会在其制造、使用和维修期间在其表面上获得不需要的物质，如有机污垢(soil)和无机污垢、污染物、焦油、润滑脂和油类等(“污物”)。此类物质的堆积会是不雅观且有害的(特别是对于活动部件)，并且因此期望定期从该主体和部件去除此类不需要的物质。
[0004]目前，存在可用于航空航天应用的许多水可冲洗的清洁剂和仅少数干洗清洁剂，这两者都具有缺点。水可冲洗的清洁剂的缺点在于：需要用于冲洗的水源以及用于含有污物和残留清洁剂的冲洗水的处理装置两者。另外，需要冲洗的清洁剂会扩散或冲洗到飞行器主体的非预期表面上，这会损坏它们。许多目前可用的组合物含有芳族烃溶剂，所述芳族烃溶剂具有令人不快的气味并且引起对环境影响的担忧(例如，此类溶剂可以被分类为挥发性有机化合物或者需要特殊处理)。该组合物中的一些虽然有效，但由于所使用的低闪点溶剂而带来不可接受的火灾风险。此外，一些组合物在室温下储存时不稳定，并且在施加之前和施加期间需要额外的混合，或者在储存之后不容易再混合，从而导致浪费和不一致的性能。现有的干洗清洁剂具有附加的缺点，例如它们仅在有限数量的表面类型上是安全有效的。干洗清洁剂还会造成一些表面的开裂，易于在清洁期间造成表面划痕，并且在经干洗的航空航天表面上留下残留物(例如，灰尘或砂砾)，这是有害的。因此，存在对于减少或消除上述缺点中的一个或多个的干洗清洁剂的需要。本领域需要提供替代性组合物，所述组合物具有有效的清洁性能，但还：具有低的挥发性有机化合物(VOC)水平；对金属无腐蚀性，并且不使正在被清洁的非金属表面开裂；本身可以为经清洁的表面提供针对腐蚀和污染的防护；并且不需要表面的预冲洗或后冲洗。本专利技术解决了这些缺点中的至少一些，并且满足了对于提供污染和/或腐蚀防护的免冲洗清洁剂的需要。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是提供液体水包油乳液清洁组合物，其可以通过简单地施加该组合物并且将其擦拭掉、无需后冲洗而用于清洁多种不同类型的航空航天表面(包括涂漆和未涂漆的金属表面、丙烯酸类表面、聚碳酸酯及其他聚合物表面、以及具有各种类型的表面的组合的制品)。
[0006]贯穿本公开描述本专利技术的各个方面。根据本专利技术的一个方面(“方面1”)，提供干洗
清洁组合物，所述干洗清洁组合物包含水包油乳液、基本上由水包油乳液组成、或者由水包油乳液组成，基于所述组合物的重量，所述水包油乳液包含：
[0007]A)水，所述水以至少50重量％的量存在；
[0008]B)异链烷烃有机溶剂，所述异链烷烃有机溶剂期望地以至多约30重量％的量存在；
[0009]C)超细固体颗粒，所述超细固体颗粒的DM小于900纳米、优选地小于500nm、最优选地小于300nm；
[0010]D)无蜡光泽剂的水性乳液；
[0011]E)与组分D)中存在的表面活性剂不同的至少一种表面活性剂，期望地至少一种阴离子表面活性剂；
[0012]F)聚二烷基硅氧烷油；以及
[0013]G)水溶性或水混溶性腐蚀和污染抑制剂。
[0014]本专利技术的其他方面可以概述如下：
[0015]方面2：如方面1所述的干洗清洁组合物，其还包含一种或多种选自乳化剂、pH调节剂、增稠剂、抗静电剂和防腐剂的添加剂。
[0016]方面3：如方面2所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述乳化剂以0.8至3重量％的量存在，并且包含至少一种妥尔油脂肪酸。
[0017]方面4：如方面2或3所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述pH调节剂以1
‑
3重量％的量存在，并且包含烷醇胺。
[0018]方面5：如方面2或3或4所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述增稠剂以约0.1
‑
1.0重量％的量存在，并且包含阴离子多糖增稠剂。
[0019]方面6：如方面1
‑
5中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中组分C)所述固体颗粒包含DM小于300nm的粘土。
[0020]方面7：如方面1
‑
6中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，组分C)所述固体颗粒包含以5
‑
15重量％的量存在的硅酸铝。
[0021]方面8：如方面1
‑
7中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中组分E)所述至少一种表面活性剂包含至少一种阴离子表面活性剂。
[0022]方面9：如方面1
‑
8中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中所述至少一种阴离子表面活性剂包含一个或多个疏水烷基链和含硫的带电亲水端基。
[0023]方面10：如方面1
‑
9中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述至少一种阴离子表面活性剂包含以0.1
‑
0.3重量％的量存在的磺基琥珀酸二酯盐。
[0024]方面11：如方面1
‑
10中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述至少一种阴离子表面活性剂包含以至少0.01重量％且至多0.5重量％的量存在的二烷基磺基琥珀酸盐，其中所述二烷基选自二丁基磺基琥珀酸盐、二异丁基磺基琥珀酸盐、二己基磺基琥珀酸盐、二辛基磺基琥珀酸盐。
[0025]方面12：如方面1
‑
11中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中所述水溶性或水混溶性腐蚀和污染抑制剂包含有机膦酸、有机次膦酸或其组合。
[0026]方面13：如方面1
‑
12中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中组分G)水溶性和/或水混溶性腐蚀和污染抑制剂包含含有C6
‑
C18有机部分的有机膦酸，并且基于所述组合物的
重量以至少0.01重量％且至多0.5重量％的量存在。
[0027]方面14：如方面1
‑
13中任一方面所述的干洗清洁组合物，其中各自基于所述组合物的重量
[0028]A)所述水以60
‑
90重量％的量存在；
[0029]B)异链烷烃溶剂经加氢处理，并且以5
‑
25重量％的量存在；
[0030]C)所述超细固体颗粒包含以5
‑
15重量％的量存在的DM小于300nm的硅酸铝粘土；并且
[0031]所述组合物还包含以1
‑
3重量％的量存在的烷醇胺、以0.1
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.干洗清洁组合物，所述干洗清洁组合物包含水包油乳液，基于所述组合物的重量，所述水包油乳液含有以下组分：A)水，所述水以至少50重量％的量存在；B)异链烷烃有机溶剂，所述异链烷烃有机溶剂期望地以至多约30重量％的量存在；C)超细固体颗粒，所述超细固体颗粒的DM小于900纳米、优选地小于500nm、最优选地小于300nm；D)无蜡光泽剂的水性乳液；E)与组分D)中存在的表面活性剂不同的至少一种表面活性剂，期望地至少一种阴离子表面活性剂；F)聚二烷基硅氧烷油；以及G)水溶性或水混溶性腐蚀和污染抑制剂。2.如权利要求1所述的干洗清洁组合物，其还包含一种或多种选自乳化剂、pH调节剂、增稠剂、抗静电剂和防腐剂的添加剂。3.如权利要求2所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述乳化剂以0.8至3重量％的量存在，并且包含至少一种妥尔油脂肪酸。4.如权利要求3所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述pH调节剂以1
‑
3重量％的量存在，并且包含烷醇胺。5.如权利要求4所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述增稠剂以约0.1
‑
1.0重量％的量存在，并且包含阴离子多糖增稠剂。6.如权利要求1
‑
5中任一项所述的干洗清洁组合物，其中组分C)所述固体颗粒包含DM小于300nm的粘土。7.如权利要求1
‑
5中任一项所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，组分C)所述固体颗粒包含以5
‑
15重量％的量存在的硅酸铝。8.如权利要求1
‑
5中任一项所述的干洗清洁组合物，其中组分E)所述与组分D)中存在的表面活性剂不同的至少一种表面活性剂包含至少一种阴离子表面活性剂。9.如权利要求8所述的干洗清洁组合物，其中所述至少一种阴离子表面活性剂包含一个或多个疏水烷基链和含硫的带电亲水端基。10.如权利要求8所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述至少一种阴离子表面活性剂包含以0.1
‑
0.3重量％的量存在的磺基琥珀酸二酯盐。11.如权利要求8所述的干洗清洁组合物，其中基于所述组合物的重量，所述至少一种阴离子表面活性剂包含以至少0.01重量％且至多0.5重量％的量存在的二烷基磺基琥珀酸盐，其中所述二烷基选自二丁基磺基琥珀酸盐、二异丁基...

【专利技术属性】
技术研发人员：T，
申请(专利权)人：汉高股份有限及两合公司，
类型：发明
国别省市：