破真空装置、镀膜设备及电池生产系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及电池生产技术领域，提供一种破真空装置、镀膜设备及电池生产系统，其中，破真空装置包括缓存罐、输送管路和第一控制阀，缓存罐设置为能够储存用于破真空的工作介质，缓存罐与气相沉积设备邻近设置，缓存罐设置有用于与工作介质源相连接的介质进口和供工作介质排出的介质出口；输送管路的首端与介质出口相连接，输送管路的末端设置为能够与气相沉积设备的工作腔室相连接；第一控制阀设置于输送管路，第一控制阀设置为能够控制输送管路的通断。如此设置，解决了现有技术中因对气相沉积设备进行破真空时存在较长的等待时间导致的电池生产工艺过程中的无效时间长、生产效率低的问题。效率低的问题。效率低的问题。

【技术实现步骤摘要】
破真空装置、镀膜设备及电池生产系统


[0001]本技术涉及电池生产
，尤其涉及一种破真空装置、镀膜设备及电池生产系统。

技术介绍

[0002]太阳能电池是一种利用太阳光直接发电的半导体器件，在太阳能电池的生产过程中，一般利用管式PECVD沉积设备或者管式HWCVD沉积设备等气相沉积设备在硅片上沉积薄膜。在气相沉积设备工作过程中，气相沉积设备的工作腔室呈真空状态。当完成沉积过程之后，在将硅片从气相沉积设备的工作腔室内取出之前，需要向气相沉积设备的工作腔室内充入氮气，以将气相沉积设备的工作腔室切换成非真空状态，该过程称为破真空。
[0003]为实现对气相沉积设备的破真空操作，一般会对气相沉积设备配置破真空管路，破真空管路通过气路盘与电池生产现场的氮气源相连接，使气相沉积设备与其他设备共用电池生产现场的氮气源。
[0004]电池生产现场的氮气源通过气路盘进入破真空管路之后，才能进入气相沉积设备，破真空操作才真正开始。由于气路盘的管道直径较小、长度较长，使得电池生产现场的氮气源无法及时地进入气相沉积设备，导致破真空操作真正开始之前的等待时间较长，极大地增加了电池生产工艺过程中的无效时间，生产效率较低。
[0005]因此，如何解决现有技术中因对气相沉积设备进行破真空时存在较长的等待时间导致的电池生产工艺过程中的无效时间长、生产效率低的问题，成为本领域技术人员所要解决的重要技术问题。

技术实现思路

[0006]本技术提供一种破真空装置、气相沉积设备及电池生产系统，用以解决现有技术中因对气相沉积设备进行破真空时存在较长的等待时间导致的电池生产工艺过程中的无效时间长、生产效率低的缺陷。
[0007]本技术提供一种破真空装置，包括：
[0008]缓存罐，设置为能够储存用于破真空的工作介质，所述缓存罐与气相沉积设备邻近设置，所述缓存罐设置有用于与工作介质源相连接的介质进口和供所述工作介质排出的介质出口；
[0009]输送管路，所述输送管路的首端与所述介质出口相连接，所述输送管路的末端设置为能够与所述气相沉积设备的工作腔室相连接；
[0010]第一控制阀，设置于所述输送管路，所述第一控制阀设置为能够控制所述输送管路的通断。
[0011]根据本技术提供的一种破真空装置，还包括：
[0012]单向阀，设置于所述输送管路，所述单向阀设置为仅允许所述输送管路内的所述工作介质向所述输送管路的末端流通。
[0013]根据本技术提供的一种破真空装置，还包括：
[0014]过滤装置，用于滤除所述工作介质中的颗粒杂质和/或水分，所述过滤装置设置于所述输送管路的首端。
[0015]根据本技术提供的一种破真空装置，还包括：
[0016]第二控制阀，所述缓存罐上设置有供水排出的排水口，所述第二控制阀设置于所述缓存罐的所述排水口，所述第二控制阀设置为控制所述排水口的开闭。
[0017]根据本技术提供的一种破真空装置，所述输送管路包括：
[0018]主管路，所述主管路的首端与所述缓存罐的介质出口相连接；
[0019]支管路，设置有至少两个，各个所述支管路的首端均与所述主管路相连接，各个所述支管路均设置有用于与所述气相沉积设备的工作腔室相连接的连接部，所述第一控制阀设置于所述支管路。
[0020]根据本技术提供的一种破真空装置，所述第一控制阀的进口和出口均通过金属面密封接头与所述输送管路相连接。
[0021]根据本技术提供的一种破真空装置，所述第一控制阀为隔膜阀。
[0022]根据本技术提供的一种破真空装置，还包括：
[0023]安装支架，用于对所述缓存罐进行固定，所述安装支架设置于所述缓存罐。
[0024]本技术还提供一种镀膜设备，包括气相沉积设备和用于对所述气相沉积设备的工作腔室进行破真空处理的破真空装置，所述破真空装置为上述的破真空装置。
[0025]本技术还提供一种电池生产系统，包括上述的镀膜设备。
[0026]本技术提供的破真空装置，包括缓存罐、输送管路和第一控制阀，缓存罐用于储存能够用于破真空的工作介质。在缓存罐上设置有介质进口和介质出口，介质进口用于与工作介质源相连接，用于向缓存罐内补充工作介质。输送管路的首端与介质出口相连接，介质出口供缓存罐内的工作介质向输送管路内流通。输送管路的末端用于与气相沉积设备的工作腔室相连接，用于向气相沉积设备的工作腔室输送工作介质。第一控制阀设置于输送管路，用于控制输送管路的通断。将缓存罐与气象沉积设备邻近设置，使缓存罐储存有工作介质。缓存罐内具有一定的压力，在需要对气相沉积设备进行破真空操作时，通过第一控制阀使输送管路处于导通状态，缓存罐内的工作介质在缓存罐内压力的作用下通过输送管路可以流通至气相沉积设备的工作腔室，可以及时地对气相沉积设备的工作腔室进行破真空操作。如此设置，在需要对气相沉积设备的工作腔室进行破真空操作时，缓存罐内的工作介质可以直接进入气相沉积设备的工作腔室，提高了破真空操作的效率，避免了对工作介质从工作介质源向缓存罐输送的等待时间，极大地减少了电池生产工艺过程中的无效时间，提高了生产效率，解决了现有技术中因对气相沉积设备进行破真空时存在较长的等待时间导致的电池生产工艺过程中的无效时间长、生产效率低的问题。
[0027]进一步，在本技术提供的镀膜设备中，由于具备如上所述的破真空装置，因此同样具备如上所述的各种优势。
[0028]进一步，在本技术提供的电池生产系统中，由于具备如上所述的镀膜设备，因此同样具备如上所述的各种优势。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1是本技术提供的破真空装置的原理图；
[0031]图2是本技术提供的破真空装置的结构示意图。
[0032]附图标记：
[0033]1、缓存罐；2、工作腔室；3、介质进口；4、介质出口；5、第一控制阀；6、单向阀；7、过滤装置；8、第二控制阀；9、主管路；10、支管路；11、连接部；12、金属面密封接头；13、安装支架。
具体实施方式
[0034]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术中的附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0035]下面结合图1至图2描述本技术的破真空装置。
[0036]如图1至图2所示，本技术实施例提供的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种破真空装置，其特征在于，包括：缓存罐，设置为能够储存用于破真空的工作介质，所述缓存罐与气相沉积设备邻近设置，所述缓存罐设置有用于与工作介质源相连接的介质进口和供所述工作介质排出的介质出口；输送管路，所述输送管路的首端与所述介质出口相连接，所述输送管路的末端设置为能够与所述气相沉积设备的工作腔室相连接；第一控制阀，设置于所述输送管路，所述第一控制阀设置为能够控制所述输送管路的通断。2.根据权利要求1所述的破真空装置，其特征在于，还包括：单向阀，设置于所述输送管路，所述单向阀设置为仅允许所述输送管路内的所述工作介质向所述输送管路的末端流通。3.根据权利要求1所述的破真空装置，其特征在于，还包括：过滤装置，用于滤除所述工作介质中的颗粒杂质和/或水分，所述过滤装置设置于所述输送管路的首端。4.根据权利要求1所述的破真空装置，其特征在于，还包括：第二控制阀，所述缓存罐上设置有供水排出的排水口，所述第二控制阀设置于所述缓存罐的所述排水口，所述第二控制阀设置为...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖惠东，
申请(专利权)人：三一硅能株洲有限公司，
类型：新型
国别省市：