一种TFE遮罩结构及制作工艺方法技术

本发明专利技术公开了一种TFE遮罩结构及制作工艺方法，涉及TFE遮罩技术领域。所述TFE遮罩包括支撑框架和遮挡片，所述遮挡片包括镂空区域和非镂空区域，其特征在于：在所述支撑框架靠近玻璃基板的一面的指定位置形成设定厚度的第一支撑部；在所述非镂空区域靠近玻璃基板的一面与所述镂空区域邻接的位置形成设定厚度的第二支撑部。本发明专利技术实施例分别通过两种工艺方法制作上述的TFE遮罩结构，通过在TFE遮罩非镂空区域与镂空区域接触的边缘形成支撑柱，减少沉积薄膜扩散到基板的非成膜区，从而提高后段外围绑定区域绑定的良率。外围绑定区域绑定的良率。外围绑定区域绑定的良率。

【技术实现步骤摘要】
一种TFE遮罩结构及制作工艺方法


[0001]本专利技术涉及TFE遮罩
，特别涉及一种TFE遮罩结构及制作工艺方法。

技术介绍

[0002]在有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode)OLED显示器具备自发光特性、低功耗、宽视角、响应速度快、超轻超薄、抗震性好等特点，采用薄膜封装OLED器件可实现柔性、可折叠、可弯折等特点，该技术被广泛运用于柔性显示领域。
[0003]薄膜封装技术(Thin Film Encapsulastion，TFE)是在TFT基板上，将有机的EL蒸镀后，在上方通过沉积Barrierlayer(隔绝层)和Buffer layer(平坦层)，依次顺序制备3～5层交错覆盖来隔绝水氧，用来保护有机EL的技术。
[0004]TFE薄膜封装结构制备过程中，采用2～3层无机/有机的叠层结构，每沉积一层无机薄膜，需要一张金属遮罩，用于遮挡不需要沉积薄膜的区域(绑定区)。其中，每张金属遮罩均设置有镂空区域和非镂空区域，如图1所示。在PECVD制程中，金属遮罩覆盖在玻璃基板之上，如图2所示，玻璃基板与金属遮罩有时不能完全的紧密贴合，沉积的薄膜会沿着基板与金属遮罩之间的缝隙钻入非沉积区域，导致阴影区域(shadow effact)变大，影响外围绑定区域的绑定良率。

技术实现思路

[0005]本专利技术要解决的技术问题，在于提供一种TFE遮罩结构及制作工艺方法，通过在TFE遮罩非镂空区域与镂空区域接触的边缘形成支撑柱，减少沉积薄膜扩散到基板的非成膜区，从而提高后段外围绑定区域绑定的良率。
[0006]第一方面，本专利技术提供了一种TFE遮罩结构，所述TFE遮罩包括支撑框架和遮挡片，所述遮挡片包括镂空区域和非镂空区域，在所述支撑框架面向玻璃基板一面的指定位置形成设定厚度的第一支撑部；在所述非镂空区域面向玻璃基板一面与所述镂空区域邻接的位置形成设定厚度的第二支撑部。
[0007]进一步地，所述第一支撑部和第二支撑部的厚度范围为4～10um。
[0008]进一步地，所述第一支撑部和第二支撑部的宽度范围为2mm～6mm。
[0009]第二方面，本专利技术提供了一种TFE遮罩结构的制作工艺方法，所述TFE遮罩包括支撑框架和遮挡片，所述遮挡片包括镂空区域和非镂空区域，在所述支撑框架面向玻璃基板一面的指定位置形成设定厚度的第一支撑部；在所述非镂空区域面向玻璃基板一面与所述镂空区域邻接的位置形成设定厚度的第二支撑部；
[0010]所述方法包括如下步骤：
[0011]在所述支撑框架焊接遮挡片的边缘沉积一层设定厚度的薄膜作为第一支撑部；
[0012]在所述非镂空区域与非镂空区域邻接的位置同样沉积一层设定厚度的薄膜作为第二支撑部；
[0013]当TFE遮罩与玻璃基板重叠贴合时，通过所述第一支撑部和第二支撑部与玻璃基
板紧密接触，使得沉积的薄膜不会从TFE遮罩与玻璃基板贴合的缝隙处进入玻璃基板的非成膜区域。
[0014]进一步地，所述薄膜为ALN薄膜，通过在TFE遮罩上覆盖一层菲林光罩，然后通过PECVD沉积形成。
[0015]第三方面，本专利技术提供了一种TFE遮罩结构的制作工艺方法，所述TFE遮罩包括支撑框架和遮挡片，所述遮挡片包括镂空区域和非镂空区域，在所述支撑框架面向玻璃基板一面的指定位置形成设定厚度的第一支撑部；在所述非镂空区域面向玻璃基板一面与所述镂空区域邻接的位置形成设定厚度的第二支撑部；
[0016]所述方法包括如下步骤：
[0017]在所述遮挡片与支撑框架绑定前，通过在遮挡片上蚀刻出高低的不同的区域，从而在非镂空区域与所述镂空区域邻接的位置形成设定厚度的阶梯，作为第二支撑部；在支撑框架和遮挡片焊接的边缘位置，通过焊接预留同样厚度的阶梯，作为第一支撑部；
[0018]当TFE遮罩与玻璃基板重叠贴合时，通过所述第一支撑部和第二支撑部与玻璃基板紧密接触，使得沉积的薄膜不易从TFE遮罩与玻璃基板贴合的缝隙处进入玻璃基板的非成膜区域。
[0019]进一步地，所述在遮挡片上蚀刻出高低的不同的区域，具体包括：在遮挡片正反面均涂布上光阻，光阻固化后通过UV Mask遮罩保留非镂空区域与所述镂空区域邻接位置的光阻，其它区域经过曝光显影蚀刻后减薄，然后将光阻脱膜形成具有设定厚度的阶梯的遮挡片。
[0020]本专利技术具有如下优点：
[0021]通过在TFE遮罩非镂空区域与镂空区域接触的边缘设计支撑柱，同时在支撑框架上设计支撑住，支撑柱与玻璃基板由于重力贴合更加紧密，减少沉积薄膜扩散到基板的非成膜区，从而提高后段外围绑定区域绑定的良率。
附图说明
[0022]下面参照附图结合实施例对本专利技术作进一步的说明。
[0023]图1为现有技术中TFE遮罩正面结构示意图；
[0024]图2为现有技术中TFE遮罩侧面结构示意图；
[0025]图3为本专利技术实施例一TFE遮罩正面结构示意图；
[0026]图4为本专利技术实施例一TFE遮罩侧面结构示意图；
[0027]图5为本专利技术实施例三遮挡片减薄流程示意图。
具体实施方式
[0028]本专利技术实施例提供一种TFE遮罩结构及制作工艺方法，通过在TFE遮罩非镂空区域与镂空区域接触的边缘形成支撑柱，减少沉积薄膜扩散到基板的非成膜区，从而提高后段外围绑定区域绑定的良率。
[0029]本专利技术实施例中的技术方案，总体思路如下：
[0030]提出了一种TFE遮罩结构及制作工艺方法，通过在TFE遮罩非镂空区域与镂空区域接触的边缘设计支撑柱，减少由于TFE MASK热胀冷缩变形引起遮挡片(sheet)镂空边缘的
变化量，并且支撑柱与玻璃基板由于重力贴合更加紧密，减少沉积薄膜扩散到基板的非成膜区，从而提高后段外围绑定区域绑定的良率。
[0031]如图3所示，TFE遮罩的包含支撑框架(frame)，遮挡片(sheet)。其中遮挡是焊接在支撑框架之上，遮挡包含镂空区域和非镂空区域。在支撑框架焊接遮挡的边缘沉积一层一定厚度的薄膜，并在镂空区域与非镂空区域接触的地方同样沉积一定厚度的薄膜。如图4所示，当TFE遮罩与玻璃基板重叠贴合时，TFE遮罩垂直压合在玻璃基板上，由于TFE遮罩的重力向下，在镀有一定厚度薄膜的区域(镂空区域与非镂空区域接触的地方)会先和玻璃基板压合地更加紧密，因此向下沉积的薄膜不容易从TFE遮罩与玻璃基板贴合的缝隙处钻入到玻璃基板的非成膜区域。
[0032]实施例一
[0033]本实施例提供了一种TFE遮罩结构，如图3和图4所示，所述TFE遮罩包括支撑框架和遮挡片，所述遮挡片包括镂空区域和非镂空区域，在所述支撑框架面向玻璃基板一面的指定位置形成设定厚度的第一支撑部；在所述非镂空区域面向玻璃基板一面与所述镂空区域邻接的位置形成设定厚度的第二支撑部。
[0034]在一具体实施例中，所述第一支撑部和第二支撑部的厚度范围为4～10um。
[0035]在一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种TFE遮罩结构，所述TFE遮罩包括支撑框架和遮挡片，所述遮挡片包括镂空区域和非镂空区域，其特征在于：在所述支撑框架面向玻璃基板一面的指定位置形成设定厚度的第一支撑部；在所述非镂空区域面向玻璃基板一面与所述镂空区域邻接的位置形成设定厚度的第二支撑部。2.根据权利要求1所述的TFE遮罩结构，其特征在于：所述第一支撑部和第二支撑部的厚度范围为4～10um。3.根据权利要求1所述的TFE遮罩结构，其特征在于：所述第一支撑部和第二支撑部的宽度范围为2mm～6mm。4.一种TFE遮罩结构的制作工艺方法，其特征在于：所述TFE遮罩包括支撑框架和遮挡片，所述遮挡片包括镂空区域和非镂空区域，在所述支撑框架面向玻璃基板一面的指定位置形成设定厚度的第一支撑部；在所述非镂空区域面向玻璃基板一面与所述镂空区域邻接的位置形成设定厚度的第二支撑部；所述方法包括如下步骤：在所述支撑框架焊接遮挡片的边缘沉积一层设定厚度的薄膜作为第一支撑部；在所述非镂空区域与非镂空区域邻接的位置同样沉积一层设定厚度的薄膜作为第二支撑部；当TFE遮罩与玻璃基板重叠贴合时，通过所述第一支撑部和第二支撑部与玻璃基板紧密接触，使得沉积的薄膜不易从TFE遮罩与玻璃基板贴合的缝隙处进入玻璃基板的非成膜区域。5.根据权利要求4所述的TFE遮罩...

【专利技术属性】
技术研发人员：温质康，庄丹丹，乔小平，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：发明
国别省市：