一种磨面抛光装置制造方法及图纸

本申请涉及硅棒加工技术领域，具体而言，涉及一种磨面抛光装置，一定程度上可以解决驱动主轴旋转的驱动结构体积大、振动大且皮带有侧向压力影响硅棒磨削质量问题。所述磨面抛光装置包括底座，底座上设有：第一进给机构，包括第一支撑块和第一驱动组件；第二进给机构，包括第二支撑块和第二驱动组件；磨抛机构，包括电主轴和砂轮，电主轴与第二支撑块转动连接，电主轴带动砂轮转动；其中，第二支撑块开设有用于供电主轴穿过的通孔，电主轴的端部穿过通孔，砂轮连接于电主轴伸出第二支撑块的一端。砂轮连接于电主轴伸出第二支撑块的一端。砂轮连接于电主轴伸出第二支撑块的一端。

【技术实现步骤摘要】
一种磨面抛光装置


[0001]本申请涉及硅棒加工
，具体而言，涉及一种磨面抛光装置。

技术介绍

[0002]随着国家“碳达峰”、“碳中和”战略计划的实施，清洁能源的利用比重将快速增长，太阳能作为可再生的清洁能源，将占据举足轻重的地位。而硅太阳能技术正满足了将太阳能转化的需求。因此对单晶硅太阳能板和硅材料加工设备需求快速增长，促进了硅材料技术的快速发展，也对硅材料加工技术尤其是磨抛提出了更高的要求。硅棒是硅片加工的重要工序之一，硅棒磨抛通常采用金刚石砂轮对硅棒的面和棱进行磨削。
[0003]在一些对硅棒进行面和棱进行磨抛的实现中，通过联轴器或者皮带轮将电动机的动力传递给主轴，砂轮安装在主轴的另一端，从而带动砂轮高速旋转，对硅棒进行磨削。
[0004]然而，由于主轴通过联轴器或者皮带带动而旋转，驱动主轴旋转的驱动结构体积大、振动大且皮带有侧向压力，进而影响硅棒的磨削质量。

技术实现思路

[0005]为了解决驱动主轴旋转的驱动结构体积大、振动大且皮带有侧向压力影响硅棒磨削质量的问题，本申请提供了一种磨面抛光装置。
[0006]本申请的实施例是这样实现的：
[0007]本申请实施例提供一种磨面抛光装置：包括底座，所述底座上设有：
[0008]第一进给机构，包括第一支撑块和第一驱动组件；其中，所述第一支撑块滑动连接于所述底座上表面，所述第一驱动组件的输出端与所述第一支撑块连接以推动所述第一支撑块滑动；
[0009]第二进给机构，包括第二支撑块和第二驱动组件；其中，所述第二支撑块与所述第一支撑块滑动连接，所述第二支撑块的滑动方向垂直于所述第一支撑块的滑动方向，所述第二驱动组件的输出端与所述第二支撑块连接以推动所述第二支撑块运动；
[0010]磨抛机构，包括电主轴和砂轮，所述电主轴与所述第二支撑块转动连接，所述电主轴带动所述砂轮转动；
[0011]其中，所述第二支撑块开设有用于供所述电主轴穿过的通孔，所述电主轴的端部穿过通孔，所述砂轮连接于所述电主轴伸出所述第二支撑块的一端。
[0012]在一些实施例中，所述第一进给机构还包括：
[0013]第一导轨，固定连接于所述底座的上表面，其长度方向与所述第一驱动组件输出端的运动方向平行；
[0014]第一滑座，固定连接于所述第一支撑块靠近所述底座的一侧，其开设有用于容纳所述第一导轨的第一滑槽；
[0015]其中，所述第一导轨伸入至所述第一滑槽内，所述第一导轨与所述第一滑座滑动连接。
[0016]在一些实施例中，所述第一导轨和第一滑座均实施有两个；
[0017]其中，两个所述第一导轨相互平行且间隔分布在所述电主轴的两侧，两个所述第一滑座均匀分布于所述第一支撑块靠近所述底座的一侧。
[0018]在一些实施例中，所述第二进给机构还包括：
[0019]第二导轨，与所述第一支撑块固定连接，其长度方向与所述第二驱动组件输出端的运动方向平行；
[0020]第二滑座，与所述第二支撑块固定连接，其开设有用于容纳所述第二导轨的第二滑槽；
[0021]其中，所述第二导轨伸入至所述第二滑槽内，所述第二导轨与所述第二滑座滑动连接。
[0022]在一些实施例中，所述第二导轨和所述第二滑座均实施为两个；
[0023]其中，两个所述第二导轨相互平行且分布在所述电主轴的两侧，两个所述第二滑座也分布在所述第二支撑块靠近所述第一支撑块的一侧。
[0024]在一些实施例中，所述磨抛机构还包括：
[0025]多个第一冷却管，连接于所述第二支撑块靠近所述通孔的一侧，且沿所述电主轴的周向均匀分布，其与所述电主轴轴线之间的间距小于所述砂轮的半径；
[0026]多个第二冷却管，沿所述电主轴的周向分布与所述第二支撑块固定连接，且与所述电主轴轴线之间的间距大于所述砂轮的半径；
[0027]其中，所述砂轮表面开设有冷却孔，当所述第二冷却管朝向所述砂轮喷淋时，所述第二冷却管内的冷却液穿过冷却孔并对所述砂轮进行整体降温。
[0028]在一些实施例中，所述第一冷却管和第二冷却管均实施为12个。
[0029]在一些实施例中，所述磨抛机构还包括：
[0030]毛刷，沿所述电主轴的周向分布，其与电主轴轴线之间的间距大于所述第二冷却管与所述电主轴轴线之间的间距。
[0031]在一些实施例中，所述磨抛机构还包括：
[0032]外罩，与所述第二支撑块固定连接，且开设有用于容纳所述砂轮的内腔；
[0033]其中，所述砂轮的端部凸出于所述外罩远离所述第二支撑块一侧的外壁。
[0034]在一些实施例中，所述毛刷固定连接于所述外罩内腔，所述毛刷与所述外罩的连接方式具体实施为：
[0035]所述外罩内腔可拆卸连接有压环，所述毛刷分布在所述外罩与所述压环之间的空隙内。
[0036]本申请的有益效果；通过电主轴带动砂轮转动，进而使得砂轮对待加工的硅棒进行磨削，减少使用联轴器或者皮带等驱动结构带动转动导致振动大的问题，同时电主轴的精度高且结构紧凑，可实现对硅棒更好的磨削加工的效果；通过第一驱动组件带动第一支撑块沿底座滑动，第二驱动组件带动第二支撑块朝向靠近或远离底座的一侧运动，进而对砂轮的位置进行调节，以便于增大砂轮对于硅棒的磨削面积，以实现方便砂轮对硅棒棱进行磨削，提高磨削效率的效果。
附图说明
[0037]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0038]图1为本申请一实施例的磨面抛光装置的立体结构图；
[0039]图2为本申请另一实施例的磨面抛光装置的剖视图；
[0040]图3为本申请另一实施例的磨面抛光装置用于展示磨抛机构的剖视图。
[0041]附图标记说明：1、底座；2、第一进给机构；21、第一支撑块；22、第一驱动组件；221、电机；222、滚珠丝杆；223、移动螺母座；224、支撑台；23、第一导轨；24、第一滑座；241、第一滑槽；3、第二进给机构；31、第二支撑块；32、第二驱动组件；321、气缸；322、连接座；33、第二导轨；34、第二滑座；341、第二滑槽；4、磨抛机构；41、电主轴；42、砂轮；421、冷却孔；43、第一冷却管；44、第二冷却管；45、毛刷；46、外罩；47、压环。
具体实施方式
[0042]为使本申请的目的、实施方式和优点更加清楚，下面将结合本申请示例性实施例中的附图，对本申请示例性实施方式进行清楚、完整地描述，显然，所描述的示例性实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0043]需要说明的是，本申请中对于术语的简要说明，仅是为了方便理解接下来描述的实施方式，而不是意图限定本申请的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磨面抛光装置，包括底座，其特征在于，所述底座上设有：第一进给机构，包括第一支撑块和第一驱动组件；其中，所述第一支撑块滑动连接于所述底座上表面，所述第一驱动组件的输出端与所述第一支撑块连接以推动所述第一支撑块滑动；第二进给机构，包括第二支撑块和第二驱动组件；其中，所述第二支撑块与所述第一支撑块滑动连接，所述第二支撑块的滑动方向垂直于所述第一支撑块的滑动方向，所述第二驱动组件的输出端与所述第二支撑块连接以推动所述第二支撑块运动；磨抛机构，包括电主轴和砂轮，所述电主轴与所述第二支撑块转动连接，所述电主轴带动所述砂轮转动；其中，所述第二支撑块开设有用于供所述电主轴穿过的通孔，所述电主轴的端部穿过通孔，所述砂轮连接于所述电主轴伸出所述第二支撑块的一端。2.如权利要求1所述磨面抛光装置，其特征在于，所述第一进给机构还包括：第一导轨，固定连接于所述底座的上表面，其长度方向与所述第一驱动组件输出端的运动方向平行；第一滑座，固定连接于所述第一支撑块靠近所述底座的一侧，其开设有用于容纳所述第一导轨的第一滑槽；其中，所述第一导轨伸入至所述第一滑槽内，所述第一导轨与所述第一滑座滑动连接。3.如权利要求2所述磨面抛光装置，其特征在于，所述第一导轨和第一滑座均实施有两个；其中，两个所述第一导轨相互平行且间隔分布在所述电主轴的两侧，两个所述第一滑座均匀分布于所述第一支撑块靠近所述底座的一侧。4.如权利要求1所述磨面抛光装置，其特征在于，所述第二进给机构还包括：第二导轨，与所述第一支撑块固定连接，其长度方向与所述第二驱动组件输出端的运动方向平行；第二滑座，与所述第二支撑块固定连接，其开设有用于容纳所述第二导...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐永亮，王均涛，吴智洪，张红臣，刘晓鹏，朱明伦，
申请(专利权)人：浙江昀丰新材料科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：