用于版图处理的方法、设备和介质技术

根据本公开的示例实施例提供了用于版图处理的方法、设备和介质。在该方法中，针对版图中的多个测量点确定版图中的多个目标图形。每个目标图形与一个测量点相对应，并且在与该测量点相关联的范围内。通过对多个目标图形分别应用与第一对称性对应的第一操作，从多个测量点中确定具有第一对称性的第一组测量点。至少基于第一组测量点来优化版图，以使得第一组测量点在经优化的版图中保持第一对称性。以此方式，可以在优化版图过程中保持多个目标图形具有对称性，进而使得在晶圆上与多个目标图形对应的实际图形同样具有对称性。应的实际图形同样具有对称性。应的实际图形同样具有对称性。

【技术实现步骤摘要】
用于版图处理的方法、设备和介质


[0001]本公开的实施例主要涉及集成电路领域，并且更具体地，涉及用于版图处理的方法、设备和介质。

技术介绍

[0002]电路版图（又可以简称为版图，Layout）是从设计并模拟优化后的电路所转化成的一系列几何图形，其包含了集成电路尺寸、各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据。集成电路制造商根据这些数据来制造掩模。掩模上的版图图案决定着芯片上器件或连接物理层的尺寸。
[0003]随着集成电路制造工艺的技术节点的减小，集成电路中的目标图案之间的距离减小，并且掩模上与目标图案相对应的版图图案的密度增加。由于光波会在掩模的版图图案处发生衍射，导致实际形成的图案与版图图案相比产生失真。为此，已经提出光学邻近校正（OPC，Optical Proximity Correction）来调整掩模的版图图案，以便形成期望的目标图案。然而，在基于网格的仿真环境中，掩模上的版图图案相对于在晶圆上实际形成的图案常常具有偏差。这导致版图图案在网格中失去对称性，在晶圆上对应于版图图案所实际形成的图案失去对称性。

技术实现思路

[0004]在本公开的第一方面中，提供了一种用于版图处理的方法。在该方法中，针对版图中的多个测量点确定版图中的多个目标图形。每个目标图形与一个测量点相对应，并且在与该测量点相关联的范围内。该方法还包括通过对多个目标图形分别应用与第一对称性对应的第一操作，从多个测量点中确定具有第一对称性的第一组测量点。该方法还包括至少基于第一组测量点来优化版图，以使得第一组测量点在经优化的版图中保持第一对称性。以此方式，通过调整版图中的多个目标图形，使得在优化版图过程中多个目标图形保持对称性。
[0005]在本公开的第二方面中，提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器、以及与处理器耦合的存储器。该存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使电子设备执行根据本公开的第一方面的用于版图处理的方法。
[0006]在本公开的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质。该计算机可读存储介质上存储有计算机程序。计算机程序在被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的用于版图处理的方法。
[0007]根据本公开的实施例，确定与版图中的多个测量点分别相对应的多个目标图形。每个目标图形在与相应测量点相关联的范围内。通过对多个目标图形分别应用与给定对称性（例如，第一对称性）对应的操作，从多个测量点中确定具有该给定对称性的一组测量点。进一步地，至少基于该组测量点来优化版图，以使得该组测量点在经优化的版图中保持给定对称性。以此方式，通过从多个目标图形对应的多个测量点中确定具有给定对称性的一
组测量点，基于该组测量点优化目标图形，使得在优化版图过程中多个目标图形保持对称性。因此，本公开的实施例能够在优化版图过程中保持多个目标图形具有对称性，进而使得在晶圆上与多个目标图形对应的实际图形同样具有对称性。以此方式，能够提高版图的质量。
[0008]应当理解，本
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本公开的实施例的关键特征或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其他特征将通过以下的描述而变得容易理解。
附图说明
[0009]结合附图并参考以下详细说明，本公开各实施例的上述和其他特征、优点及方面将变得更加明显。在附图中，相同或相似的附图标注表示相同或相似的元素，其中：图1示出了本公开的各实施例能够在其中实现的示例环境的示意图；图2示出了根据本公开的一些实施例的用于版图处理的方法的流程图；图3示出根据本公开的一些实施例的通过测量点确定目标图形的示意图；图4示出根据本公开的一些实施例的从多个测量点中确定具有第一对称性的第一组测量点的示意图；图5示出根据本公开的一些实施例的确定多个测量点不属于第一组测量点的示意图；图6A
‑
图6I示出了根据本公开一些实施例的从多个测量点中确定具有第二对称性的第二组测量点的示意图；图7示出了根据本公开的一些实施例的对版图进行处理的结果的示意图；以及图8示出了其中可以实施本公开的一个或多个实施例的电子设备/服务器的框图。
具体实施方式
[0010]下面将参照附图更详细地描述本公开的实施例。虽然附图中显示了本公开的某些实施例，然而应当理解的是，本公开可以通过各种形式来实现，而且不应该被解释为限于这里阐述的实施例，相反提供这些实施例是为了更加透彻和完整地理解本公开。应当理解的是，本公开的附图及实施例仅用于示例性作用，并非用于限制本公开的保护范围。
[0011]在本公开的实施例的描述中，术语“包括”及其类似用语应当理解为开放性包含，即“包括但不限于”。术语“基于”应当理解为“至少部分地基于”。术语“一个实施例”或“该实施例”应当理解为“至少一个实施例”。术语“第一”、“第二”等等可以指代不同的或相同的对象。下文还可能包括其他明确的和隐含的定义。
[0012]如上文所述，在基于网格的仿真环境中，掩模上的版图图案相对于在晶圆上实际形成的图案常常具有偏差，例如移位方差。这些偏差会引起对称布局结构的版图图案的信号差异。例如，版图中分别对应于第一测量点和第二测量点的第一版图图案和第二版图图案呈对称布局。然而，由于第一测量点相对于网络的位置与第二测量点相对于网格的位置不同，第一测量点处的信号强度与第二测量点处的信号强度不同。这导致在晶圆上对应于第一版图图案和第二版图图案所实际形成的图案失去对称性。因此，需要提出一种有效的优化版图方法，以保持版图中图案的对称性。
[0013]为此，本公开的实施例提出了一种用于版图处理的方法。根据本公开的实施例，确定与版图中的多个测量点分别相对应的多个目标图形。每个目标图形在与相应测量点相关联的范围内。通过对多个目标图形分别应用与给定对称性（例如，第一对称性）对应的操作，从多个测量点中确定具有该给定对称性的一组测量点。进一步地，至少基于该组测量点来优化版图，以使得该组测量点在经优化的版图中保持给定对称性。以此方式，通过从多个目标图形对应的多个测量点中确定具有给定对称性的一组测量点，基于该组测量点优化目标图形，使得在优化版图过程中多个目标图形保持对称性。因此，本公开的实施例能够在优化版图过程中保持多个目标图形具有对称性，进而使得在晶圆上与多个目标图形对应的实际图形同样具有对称性。
[0014]以下将参考附图来详细描述该方案的各种示例实现。
[0015]首先参见图1，其示出了本公开的各实施例能够在其中实现的示例环境100的示意图。示例环境100总体上可以包括电子设备110。在一些实施例中，电子设备110可以是诸如个人计算机、工作站、服务器等具有计算功能的设备。本公开的范围在此方面不受限制。
[0016]电子设备110获取待处理的版图120作为输入。版图120中有版图图案或图形。作为示例，待处理的版图120中包括图形122和图形124。应理解，图1中示出的各个版图、图形的形状和大小仅仅是示例性的，而不是限制性的。本公开的范围在此方面不受限制。
[0017]电子设备110将待处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种版图处理方法，其特征在于，包括：针对版图中的多个测量点确定所述版图中的多个目标图形，其中每个目标图形与一个测量点相对应，并且在与所述测量点相关联的范围内；通过向所述多个目标图形分别应用与第一对称性对应的第一操作，从所述多个测量点中确定具有所述第一对称性的第一组测量点；以及至少基于所述第一组测量点来优化所述版图，以使得所述第一组测量点在经优化的所述版图中保持所述第一对称性。2.根据权利要求1所述的版图处理方法，其特征在于，针对版图中的多个测量点确定所述版图中的多个目标图形包括：确定从所述多个测量点中的测量点向外扩展的距离；针对所述多个测量点中的给定测量点，基于所述给定测量点的位置和所述距离，确定与所述给定测量点相关联的目标范围；以及将所述版图中在所述目标范围内的图形确定为与所述给定测量点相对应的目标图形。3.根据权利要求2所述的版图处理方法，其特征在于，确定从所述多个测量点中的测量点向外扩展的距离包括：获取指定所述距离的用户输入；以及从所述用户输入中读取所述距离。4.根据权利要求2所述的版图处理方法，其特征在于，所述距离小于模拟窗口的尺寸，其中所述模拟窗口指示所述优化所涉及的版图范围。5.根据权利要求2所述的版图处理方法，其特征在于，确定与所述给定测量点相关联的目标范围包括：确定以所述给定测量点的位置为中心、以两倍所述距离为边长的正方形区域，作为所述目标范围。6.根据权利要求1所述的版图处理方法，其特征在于，从所述多个测量点中确定具有所述第一对称性的第一组测量点包括：向所述多个目标图形中的第一目标图形应用所述第一操作，以获得经变换的第一目标图形，所述第一目标图形与所述多个测量点中的第一测量点对应；确定所述经变换的第一目标图形是否与所述多个目标图形中的第二目标图形匹配，所述第二目标图形与所述多个测量点中的第二测量点对应；以及响应于确定所述经...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：全芯智造技术有限公司，
类型：发明
国别省市：