用于版图处理的方法、设备和介质技术

根据本公开的示例实施例提供了用于版图处理的方法、设备和介质。在该方法中，获得待处理的版图。版图包括用于辅助成像的辅助图形。该方法还包括确定与辅助图形相关联的成本梯度信息。成本梯度信息指示沿着一个或多个方向改变辅助图形将引起的成像成本变化。该方法还包括基于成本梯度信息，确定目标方向。该方法还包括基于目标方向，在版图中移动辅助图形。以此方式，可以通过沿着目标方向移动辅助图形来改善版图的质量。来改善版图的质量。来改善版图的质量。

【技术实现步骤摘要】
用于版图处理的方法、设备和介质


[0001]本公开的实施例主要涉及集成电路领域，并且更具体地，涉及用于版图处理的方法、设备和介质。

技术介绍

[0002]电路版图（又可以简称为版图）是从设计并模拟优化后的电路所转化成的一系列几何图形，其包含了集成电路尺寸、各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据。集成电路制造商根据这些数据来制造掩模。掩模上的版图图案决定着芯片上器件或连接物理层的尺寸。
[0003]随着集成电路制造工艺的技术节点的减小，集成电路中的目标图案之间的距离减小，并且掩模上与目标图案相对应的版图图案的密度增加。由于光波会在掩模的版图图案处发生衍射，导致实际形成的图案与版图图案相比产生失真。为此，已经提出光学邻近校正（OPC）来调整掩模的版图图案，以便形成期望的目标图案。在先进半导体工艺制造中，亚分辨率辅助图形（SRAF）技术被应用于OPC中。然而，如何确定辅助图形在版图上的位置是值得关注的问题。目前所采用的辅助图形放置方法难以得到令人满意的结果。

技术实现思路

[0004]在本公开的第一方面中，提供了一种用于版图处理的方法。在该方法中，获得待处理的版图。版图包括用于辅助成像的辅助图形。该方法还包括确定与辅助图形相关联的成本梯度信息。成本梯度信息指示沿着一个或多个方向改变辅助图形将引起的成像成本变化。该方法还包括基于成本梯度信息，确定目标方向。该方法还包括基于目标方向，在版图中移动辅助图形。以此方式，可以通过移动辅助图形来改善版图的质量。
[0005]在本公开的第二方面中，提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器、以及与处理器耦合的存储器。该存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使电子设备执行根据本公开的第一方面的用于版图处理的方法。
[0006]在本公开的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质。该计算机可读存储介质上存储有计算机程序。计算机程序在被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的用于版图处理的方法。
[0007]根据本公开的实施例，根据与版图中用于辅助成像的辅助图形相关联的成本梯度信息，确定目标方向。成本梯度信息指示沿着一个或多个方向改变辅助图形将引起的成像成本变化。进一步地，基于目标方向，在版图中移动辅助图形。以此方式，可以按目标方向移动辅助图形，以减少版图的成像成本。因此，本公开的实施例能够通过确定目标方向并且按照目标方向移动辅助图形，从而在晶圆上形成令人满意的图形。
[0008]应当理解，本
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本公开的实施例的关键特征或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其他特征将通过以下的描述而变得容易理解。
附图说明
[0009]结合附图并参考以下详细说明，本公开各实施例的上述和其他特征、优点及方面将变得更加明显。在附图中，相同或相似的附图标注表示相同或相似的元素，其中：图1示出了本公开的各实施例能够在其中实现的示例环境的示意图；图2示出了根据本公开的一些实施例的用于版图处理的方法的流程图；图3示出了根据本公开的一些实施例的根据目标方向移动辅助图形的示意图；图4示出了根据本公开的一些实施例的根据目标方向移动辅助图形的另一示意图；图5示出了根据本公开的一些实施例的根据目标方向移动辅助图形的又一示意图；图6示出了根据本公开的一些实施例的对版图进行处理的结果的示意图；以及图7示出了其中可以实施本公开的一个或多个实施例的电子设备/服务器的框图。
具体实施方式
[0010]下面将参照附图更详细地描述本公开的实施例。虽然附图中显示了本公开的某些实施例，然而应当理解的是，本公开可以通过各种形式来实现，而且不应该被解释为限于这里阐述的实施例，相反提供这些实施例是为了更加透彻和完整地理解本公开。应当理解的是，本公开的附图及实施例仅用于示例性作用，并非用于限制本公开的保护范围。
[0011]在本公开的实施例的描述中，术语“包括”及其类似用语应当理解为开放性包含，即“包括但不限于”。术语“基于”应当理解为“至少部分地基于”。术语“一个实施例”或“该实施例”应当理解为“至少一个实施例”。术语“第一”、“第二”等等可以指代不同的或相同的对象。下文还可能包括其他明确的和隐含的定义。
[0012]如上文所述，随着集成电路制造工艺的技术节点的减小，已经提出将诸如SRAF等辅助图形技术应用于OPC中。然而，如何确定这种辅助图形的最佳位置是值得关注的问题。目前已经提出来一些基于规则或者模型确定的方法来确定辅助图形的放置。然而，这些方法仍然难以令人满意。
[0013]为此，本公开的实施例提出了一种用于版图处理的方法。根据本公开的实施例，根据与版图中用于辅助成像的辅助图形相关联的成本梯度信息，确定目标方向。成本梯度信息指示沿着一个或多个方向改变辅助图形将引起的成像成本变化。进一步地，基于目标方向，在版图中移动辅助图形。以此方式，可以按目标方向移动辅助图形，以减少成像成本。因此，本公开的实施例能够通过确定目标方向并且按照目标方向移动辅助图形，从而在晶圆上形成令人满意的图形。
[0014]以下将参考附图来详细描述该方案的各种示例实现。
[0015]首先参见图1，其示出了本公开的各实施例能够在其中实现的示例环境100的示意图。示例环境100总体上可以包括电子设备110。在一些实施例中，电子设备110可以是诸如个人计算机、工作站、服务器等具有计算功能的设备。本公开的范围在此方面不受限制。
[0016]电子设备110获取待处理的版图120作为输入。待处理的版图120中包括第一目标图形122和第一辅助图形124。第一辅助图形124用于辅助对版图中的第一目标图形122进行成像。作为示例，第一辅助图形124可以具有亚分辨率。换句话说，第一辅助图形124可以包
括亚分辨率辅助图形。通常期望这种亚分辨率辅助图形在曝光过程中不会在晶圆上形成对应图形。应理解，图1中示出的各个版图、掩模、辅助图形的形状和大小仅仅是示例性的，而不是限制性的。本公开的范围在此方面不受限制。
[0017]电子设备110将待处理的版图120进行处理，以得到处理后的版图130。处理后的版图130包括第一目标图形122和第二辅助图形134。相比待处理的版图120中的第一辅助图形124，处理后的版图130中的第二辅助图形134发生了位移。第二辅助图形134相比第一辅助图形124的上述位移可以由电子设备110来确定。这将在下文中结合图2至图5进一步详细描述。
[0018]图2示出了根据本公开的一些实施例的用于版图处理的方法200的流程图。在一些实施例中，方法200可以由如图1所示的电子设备110执行。应当理解的是，方法200还可以包括未示出的附加框和/或可以省略所示出的某个（或者某些）框，本公开的范围在此方面不受限制。
[0019]在框210，电子设备110获得待处理的版图，例如待处理的版图120。如前所述，待处理的版图120包括用于辅助成像的第一辅助图形124。
[0020]在框220，电子设备110确定与辅助图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种版图处理方法，其特征在于，包括：获得待处理的版图，所述版图包括用于辅助成像的辅助图形；确定与所述辅助图形相关联的成本梯度信息，所述成本梯度信息指示沿着一个或多个方向改变所述辅助图形将引起的成像成本变化；基于所述成本梯度信息，确定目标方向；以及基于所述目标方向，在所述版图中移动所述辅助图形。2.根据权利要求1所述的版图处理方法，其特征在于，确定与所述辅助图形相关联的成本梯度信息包括：确定所述辅助图形的多条边，所述多条边至少包括彼此相对的两条边；以及确定与所述多条边中每一条边对应的边成本梯度，其中所述边成本梯度指示沿着预设方向移动该条边将引起的成像成本变化，所述预设方向与该条边垂直并且朝向所述辅助图形外部。3.根据权利要求2所述的版图处理方法，其特征在于，所述多条边包括彼此相对的第一边和第二边以及彼此相对的第三边和第四边，其中基于所述成本梯度信息确定所述目标方向包括：基于所述第一边对应的第一边成本梯度和与所述第二边对应的第二边成本梯度，确定沿着第一方向的第一组合成本梯度，所述第一方向垂直于所述第一边和所述第二边；基于所述第三边对应的第三边成本梯度和与所述第四边对应的第四边成本梯度，确定沿着第二方向的第二组合成本梯度，所述第二方向垂直于所述第三边和所述第四边；以及至少基于所述第一组合成本梯度、所述第二组合成本梯度以及所述第一方向与所述第二方向之间的角度，确定针对所述辅助图形的整体目标方向。4.根据权利要求1所述的版图处理方法，其特征在于，确定与所述辅助图形相关联的成本梯度信息包括：根据所述辅助图形的形状，将所述辅助图形划分成多个子图形；以及针对所述多个子图形中的给定子图形，确定所述给定子图形的局部成本梯度信息，所述局部成本梯度信息指示分别移动所述给定子图形的多个边将引起的成像成本变化。5.根据权利要求4所述的版图处理方法，其特征在于，针对所述多个子图形中的给定子图形确定所述给定子图形的局部成本梯度信息包括：在所述给定子图形中，确定彼此相对的第五边和第六边；以及确定与所述第五边相对应的第五边成本梯度和与所述第六边相对应的第六边成本梯度，其中所述第五边成本梯度指示沿着第三方向移动所述第五边将引起的成像成本变化，...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：全芯智造技术有限公司，
类型：发明
国别省市：