用于压印微和/或纳米结构的设备和方法技术

就此提出一种用于压印微和/或纳米结构的设备和方法。设备和方法。设备和方法。

【技术实现步骤摘要】
用于压印微和/或纳米结构的设备和方法


[0001]本专利技术涉及一种用于压印微和/或纳米结构的设备和方法。

技术介绍

[0002]在现有技术中，微和/或纳米结构或以光刻的方式和/或借助于压印刻印(Imprintlithographie)来制造。压印刻印理解为如下方法，在该方法中，微米和/或纳米大小的结构通过印模(Stempel)压印到材料中。该材料为施加到基底上的压印材料。这类压印方法在过去数十年中越来越重要，因为所述压印方法可比许多光刻方法执行得更快，更高效且更成本适宜。此外，显示出，借助于压印刻印方法可实现的分辨率不次于借助于光刻(Photolithographie)可以得到的分辨率。
[0003]在现有技术中所使用的设备具有多个缺点。所述设备针对如下大小来设计，该大小不允许或仅困难地允许处理一定的直径之上、尤其超过300mm的基底。原则上在现有技术中总共可以有两种不同类型的压印设备(Imprintanlage)。
[0004]大多数的实施方式被装入到所谓的掩膜对准器(Maskenausrichter)(英语：Mask Al本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于将微结构或纳米结构或微
‑
纳米结构(31)压印到压印材料(6,6')中的设备(24,24')，所述设备具有结构印模(1)和可运动的压印元件(8)，其特征在于，可有针对性地控制所述结构印模(1)从所述压印材料(6,6')的压印面(6o)的脱模，并且所述设备(24,24')具有可跟随所述压印元件(8)的灯罩(18)。2.根据权利要求1所述的设备(24,24')，其中，夹紧板条(4,4')可沿着脱模曲线运动，其中，所述脱模曲线为如下函数中的一个：
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多项式
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根函数
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对数函数
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三角函数
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阶梯函数。3.根据权利要求1或2所述的设备(24,24')，其中，所述设备(24,24')构造成用于步进和重复运行。4.根据权利要求1或2所述的设备(24,24')，其中，所述设备(24,24')包括用于将所述结构印模(1)与所述压印材料(6,6')分离的脱模器件(19)。5.根据权利要求4所述的设备(24,24')，其中，所述脱模器件(19)适于促使所述结构印模(1)的一侧法向地朝着所述压印面(6o)进行线性运动。6.根据权利要求4所述的设备(24,24')，其中，所述脱模器件(19)包括棒或受支承的线性元件。7.根据权利要求4所述的设备(24,24')，其中，所述脱模器件(19)在夹紧板条(4,4')处连接至所述结构印模(1)，所述夹紧板条保持所述结构印模(1)和带有所述结构印模(1)的载体(17)中的至少一者。8.根据权利要求1或2所述的设备(24,24')，其中，所述设备(24,24')包括压印元件悬架系统(21,21',21'',21''')，所述压印元件悬架系统如此构造，使得作用到所述结构印模(1)和所述结构印模(1)的载体(17)中的至少一者上的力(F,F')可通过反力(F
A
,F
A
')来有针对性地调整。9.根据权利要求1或2所述的设备(24,24')，其中，所述压印元件悬架系统(21,21',21'',21''')构造为可转动地支承的摇杆(21)和载体(21')和螺旋件(21'')中的至少一者。10.根据权利要求1或2所述的设备(24,24')，其中，所述结构印模(1)侧向上由至少一个夹紧板条(4,4')固定，其中，至少一个所述夹紧板条(4,4')可经由抬升系统(32)以垂直于所述压印面(6o)和沿Z方向中的至少一种情况运动。11.根据权利要求10所述的设备(24,24')，其中，所述夹紧板条(4,4')可围绕如下旋转轴线旋转地支承，所述旋转轴线以平行于所述压印面(6o)、垂直于Z方向、垂直于所述压印元件(8...

【专利技术属性】
技术研发人员：FP林德纳，H扎格尔迈尔，C舍恩，T格林斯纳，E赖斯纳，P菲舍尔，O卢克施，
申请(专利权)人：EV集团E，
类型：发明
国别省市：