一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘，包括台盘，所述台盘固定于纳米压印设备上，所述台盘的上表面设有多组真空槽，用于吸附不同尺寸的基底，在所述台盘左右两侧设有基底定位结构，在所述台盘下方设有顶针机构；在每组真空槽槽内侧底部设有真空孔，所述真空孔通过气管连接真空泵；相邻真空槽组之间设有溢流槽；在所述真空槽外侧设有基底定位结构的隐藏槽。本实用新型专利技术的有益效果是：台盘、基底定位结构以及顶针机构配合工作，可实现准确定位基底位置，并将基底定位于台盘中心处。定位完成后，基底定位结构下降，不会影响下一步动作。响下一步动作。响下一步动作。

【技术实现步骤摘要】
一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘


[0001]本技术涉及纳米压印领域，具体涉及一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘。

技术介绍

[0002]纳米压印技术是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术，是在微纳尺寸结构上，获得复制结构的一种成本低且快速的方法。
[0003]纳米压印的基本步骤包括在基片上涂覆胶液，压印，固化，分离等。要想实现图形的精确复制和转移，光刻胶在基片上的均匀涂覆是非常重要的一步。压印胶的涂覆方式有旋涂、滴胶、滚涂等方式，无论是哪种涂覆方式都需要将基片准确固定在台盘中心。
[0004]旋涂开始之前，基片需放置在旋涂设备的真空吸盘中心处，基片中心与真空吸盘同轴。基片圆心位置的准确定位尤为重要，一旦基片圆心偏离真空吸盘的中心，基片会在旋转的过程中发生偏移，导致基片在高速旋转时呈时高时低的颠簸状态，旋涂效果较差，影响基片旋转的稳定性，进而影响胶层厚度的一致性和均匀性。在自动点胶的过程中，点胶装置自动把胶体滴加在真空吸盘中心的正上方，如果基片的圆心与真空吸盘的中心不同轴，滴加胶体偏离基片的圆心，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘，包括台盘，所述台盘固定于纳米压印设备上，其特征在于：所述台盘的上表面设有多组真空槽，用于吸附不同尺寸的基底，在所述台盘左右两侧设有基底定位结构，在所述台盘下方设有顶针机构；在每组真空槽槽内侧底部设有真空孔，所述真空孔通过气管连接真空泵；相邻真空槽组之间设有溢流槽；在所述真空槽外侧设有基底定位结构的隐藏槽。2.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘，其特征在于：所述基底定位结构为相互对称并且平行的两组。3.根据权利要求2所述的一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘，其特征在于：所述基底定位结构包括设于台盘左右两侧的支撑杆，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：