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本实用新型公开了一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘,包括台盘,所述台盘固定于纳米压印设备上,所述台盘的上表面设有多组真空槽,用于吸附不同尺寸的基底,在所述台盘左右两侧设有基底定位结构,在所述台盘下方设有顶针机构;在每组真空槽槽内侧底部设...该专利属于青岛天仁微纳科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过青岛天仁微纳科技有限责任公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘,包括台盘,所述台盘固定于纳米压印设备上,所述台盘的上表面设有多组真空槽,用于吸附不同尺寸的基底,在所述台盘左右两侧设有基底定位结构,在所述台盘下方设有顶针机构;在每组真空槽槽内侧底部设...