一种电解抛光设备制造技术

本实用新型专利技术公开一种电解抛光设备，涉及电解抛光技术领域，以解决电解酸液中难溶物会不断增多，进而会降低电解效率，降低管件的电解抛光质量的问题。所述电解抛光设备包括电解酸液分配器、电解酸液收集槽和沉淀槽；电解酸液分配器的第一端用于与待电解管件的第一端相连通；电解酸液收集槽的第一端用于与待电解管件的第二端相连通；沉淀槽的第一端与电解酸液收集槽的第二端相连通，沉淀槽的第二端与电解酸液分配器的第二端相连通，沉淀槽用于沉积电解酸液中的难溶物。本实用新型专利技术提供的电解抛光设备用于减少电解酸液的循环过程中的难溶物的积聚，提高电解效率，提高管件的电解抛光质量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
一种电解抛光设备


[0001]本技术涉及电解抛光
，尤其涉及一种电解抛光设备。

技术介绍

[0002]在一些高纯气体运输管路中，其内表面粗糙度须达到Ra0.1微米甚至更低，否则微小颗粒或者不纯物质会混入高纯气体中，使气体不纯。因此高纯气体运输管路的内壁通常需要经过高质量的电解抛光处理。
[0003]目前，为了节约成本、增加经济性，管件的电解抛光过程中，电解酸液会循环利用，但在电解抛光过程中，会产生少量的难溶物，随着电解酸液的流动而流动，随着循环的增多，电解酸液中难溶物会逐步增多，在后续的电解过程中，可能会附着在电极头或者管件内壁上，进而降低电解效率，影响管件电解抛光质量；而且当电极头上附着较多难溶物时，易拉伤管件内壁。
[0004]因此，传统的电解抛光设备在电解酸液的循环过程中，难溶物会不断增多，进而会降低电解效率，降低管件的电解抛光质量。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种电解抛光设备，用于减少电解酸液的循环过程中的难溶物的积聚，提高电解效率，提高管件的电解抛光质量。
[0006]为了实现上述目的，本技术提供一种电解抛光设备，其特征在于，包括：
[0007]电解酸液分配器，电解酸液分配器的第一端用于与待电解管件的第一端相连通；
[0008]电解酸液收集槽，电解酸液收集槽的第一端用于与待电解管件的第二端相连通；
[0009]沉淀槽，沉淀槽的第一端与电解酸液收集槽的第二端相连通，沉淀槽的第二端与电解酸液分配器的第二端相连通，沉淀槽用于沉积电解酸液中的难溶物。
[0010]相较与现有技术，在本技术提供的电解抛光设备中，电解酸液从电解酸液分配器的第一端流入待电解管件中，对待电解管件进行电解抛光后，流入电解酸液收集槽，然后在通过沉淀槽后流回电解酸液分配器，实现电解酸液的循环利用；在电解酸液流动过程中，电解抛光过程中产生的难溶物随着电解酸液流至沉淀槽中，而沉淀槽的横截面的面积大于待电解管件及电解酸液运输管路的横截面的面积，因此在沉淀槽中，电解酸液的流速减缓，电解抛光过程中产生的难溶物随着电解酸液流至沉淀槽后，因电解酸液的流速减缓，大多难溶物容易沉淀至沉淀槽底部，上层的电解酸液流出沉淀槽并流回电解酸液分配器。基于此，在电解酸液的循环过程中，混有难溶物的电解酸液流入沉淀槽后，流速变缓，难溶物发生沉淀后，上层清液流回电解酸液分配器，进而减少电解酸液的循环过程中的难溶物的积聚，防止难溶物附着在电极头或者管件内壁上，防止电极头上附着较多难溶物后拉伤管件内壁，进而提高电解效率，提高管件的电解抛光质量。
[0011]可选地，上述的电解抛光设备中，沉淀槽包括：
[0012]槽体，槽体的第一端与电解酸液收集槽的第二端相连通，槽体的第二端与电解酸
液分配器的第二端相连通；
[0013]挡板，挡板设置于槽体内，挡板的底边与槽体的底面固定连接，挡板的两个侧边分别与槽体的两个侧面固定连接，且挡板的高度小于槽体的高度。
[0014]可选地，上述的电解抛光设备中，挡板的数量为多个，且挡板沿槽体的第一端向槽体的第二端的方向均匀设置于槽体内。
[0015]可选地，上述的电解抛光设备中，挡板的底边与槽体的底面焊接，挡板的两个侧边分别与槽体的两个侧面焊接。
[0016]可选地，上述的电解抛光设备中，沉淀槽还包括：
[0017]保护盖板，保护盖板设置于槽体的上方，且槽体与保护盖板固定连接。
[0018]可选地，上述的电解抛光设备中，保护盖板上设置有排气口，排气口用于将沉淀槽中的气体排出。
[0019]可选地，上述的电解抛光设备中，排气口为多个，且排气口沿槽体的第一端向槽体的第二端的方向均匀设置于保护盖板上。
[0020]可选地，上述的电解抛光设备中，槽体和挡板的材料为不锈钢，且槽体的内侧和挡板的表面均设置有四氟喷涂层。
[0021]可选地，上述的电解抛光设备中，电解抛光设备还包括：
[0022]多个阳极接触点，阳极接触点沿待电解管件的延伸方向与均匀分布于待电解管件上。
[0023]可选地，上述的电解抛光设备中，电解抛光设备还包括：
[0024]第一电解酸液输送管，第一电解酸液输送管的第一端与电解酸液收集槽的第二端相连通；第一电解酸液输送管的第二端与沉淀槽的第一端相连通；
[0025]第二电解酸液输送管，第二电解酸液输送管的第一端与沉淀槽的第二端相连通；第二电解酸液输送管的第二端与电解酸液分配器的第二端相连通。
[0026]可选地，上述的电解抛光设备中，第一电解酸液输送管和/或第二电解酸液输送管的管路上设置有电解酸液流速调节阀，电解酸液流速调节阀用于调节电解酸液的流速。
[0027]可选地，上述的电解抛光设备中，第一电解酸液输送管和/或第二电解酸液输送管的管路上还设置有电动隔膜泵，电动隔膜泵用于为电解酸液的流动提供动力。
附图说明
[0028]此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本技术的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0029]图1为本技术实施例提供的一种电解抛光设备的示意图。
[0030]附图标记：
[0031]1‑
待电解管件；2
‑
电解酸液分配器；3
‑
电解酸液收集槽；4
‑
沉淀槽；41
‑
槽体；42
‑
挡板；43
‑
保护盖板；431
‑
排气口；44
‑
支架；5
‑
排气管；6
‑
第一电解酸液输送管；7
‑
第二电解酸液输送管；8
‑
电解酸液流速调节阀；9
‑
电动隔膜泵；10
‑
电加热管；11
‑
冷空气降温管；12
‑
温度监测器；13
‑
液位监测器。
具体实施方式
[0032]为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0033]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0034]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电解抛光设备，其特征在于，包括：电解酸液分配器，所述电解酸液分配器的第一端用于与待电解管件的第一端相连通；电解酸液收集槽，所述电解酸液收集槽的第一端用于与待电解管件的第二端相连通；沉淀槽，所述沉淀槽的第一端与所述电解酸液收集槽的第二端相连通，所述沉淀槽的第二端与所述电解酸液分配器的第二端相连通，所述沉淀槽用于沉积电解酸液中的难溶物。2.根据权利要求1所述的电解抛光设备，其特征在于，所述沉淀槽包括：槽体，所述槽体的第一端与所述电解酸液收集槽的第二端相连通，所述槽体的第二端与所述电解酸液分配器的第二端相连通；挡板，所述挡板设置于所述槽体内，所述挡板的底边与所述槽体的底面固定连接，所述挡板的两个侧边分别与所述槽体的两个侧面固定连接，且所述挡板的高度小于所述槽体的高度。3.根据权利要求2所述的电解抛光设备，其特征在于，所述挡板的数量为多个，且所述挡板沿所述槽体的第一端向所述槽体的第二端的方向均匀设置于所述槽体内。4.根据权利要求2所述的电解抛光设备，其特征在于，所述沉淀槽还包括：保护盖板，所述保护盖板设置于所述槽体的上方，且所述槽体与所述保护盖板固定连接。5.根据权利要求4所述的电解抛光设备，其特征在于，所述保护盖板上设置有排气口，所述排气...

【专利技术属性】
技术研发人员：耿德占，尚中华，王文浦，武建赟，
申请(专利权)人：中科艾尔北京科技有限公司，
类型：新型
国别省市：