【技术实现步骤摘要】
一种带自动清洁功能的匀胶设备
[0001]本技术涉及纳米压印
,尤其涉及一种带自动清洁功能的匀胶设备。
技术介绍
[0002]匀胶设备是在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备,因其操作简便,成膜均匀性好,是纳米压印设备最常用的配套设备。但是在实际使用过程中,由于胶液的粘度差异性大,一些粘度大的胶液会附着在废液管上,造成废液管堵塞,需要后期人工清理,或频繁更换废液管。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于克服以上技术缺陷,提出一种带自动清洁功能的匀胶设备,
[0004]本技术为实现其技术目的所采取的技术方案是:一种带自动清洁功能的匀胶设备,包括真空吸盘以及旋转电机,所述旋转电机位于所述真空吸盘的下方,用于驱动真空吸盘旋转,其特征在于:所述真空吸盘上方吸附纳米压印用基片,在所述真空吸盘与旋转电机之间,还套设有溢流罩,所述溢流罩用于引流匀胶过程中产生的废胶液;
[0005]在所述溢流罩外侧还设有可升降喷液器,所述可升降喷液器通过导管外接胶体溶剂,通过其自动升降,实现对溢流罩自上而下的喷涂;
[0006]在所述溢流罩外沿下方,还设有储液槽,所述储液槽用于承接所述溢流罩上流下的废胶液和胶体溶剂;在所述储液槽底部的外侧设有超声波发生器和重力感应器,内侧设有废液管封口和滑轨,所述废液管封口下方设有废液桶,所述废液管封口与所述废液桶之间还连接有废液管。
[0007]优选的,所述可升降喷液器至少包括两个,对称设置在所述溢流罩外侧。< ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种带自动清洁功能的匀胶设备,包括真空吸盘以及旋转电机,所述旋转电机位于所述真空吸盘的下方,用于驱动真空吸盘旋转,其特征在于:所述真空吸盘上方吸附纳米压印用基片,在所述真空吸盘与旋转电机之间,还套设有溢流罩,所述溢流罩用于引流匀胶过程中产生的废胶液;在所述溢流罩外侧还设有可升降喷液器,所述可升降喷液器通过导管外接胶体溶剂,通过其自动升降,实现对溢流罩自上而下的喷涂;在所述溢流罩外沿下方,还设有储液槽,所述储液槽用于承接所述溢流罩上流下的废胶液和胶体溶剂;在所述储液槽底部的外侧设有超声波发生器和重力感应器,内侧设有废液管...
【专利技术属性】
技术研发人员:冀然,
申请(专利权)人:青岛天仁微纳科技有限责任公司,
类型:新型
国别省市:
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