本实用新型专利技术提供一种用于MOCVD设备的过滤装置，包括滤筒、隔板、气体入口、屏蔽结构、滤芯以及气体出口，隔板位于滤筒内将滤筒的内部空间分为滤芯过滤区及位于滤芯过滤区下方的粉尘颗粒捕集区，隔板的中间区域开设有通气孔以使来自粉尘颗粒捕集区的气体通过通气孔进入滤芯过滤区；气体入口位于滤筒的侧壁以向粉尘颗粒捕集区输入含粉尘的气体；屏蔽结构位于粉尘颗粒捕集区；滤芯位于滤芯过滤区；气体出口位于滤筒顶部。本实用新型专利技术的过滤装置先通过屏蔽结构对气体中的粉尘颗粒进行捕集再通过滤芯对气体中的细小粉尘进行精细过滤，通过改善滤芯的过滤环境以提高滤芯的过滤效率及使用寿命，在降低生产成本的同时有效减少废弃滤芯对环境的污染。对环境的污染。对环境的污染。
【技术实现步骤摘要】
一种用于MOCVD设备的过滤装置
[0001]本技术属于集成电路生产设备领域，涉及一种用于MOCVD设备的过滤装置。
技术介绍
[0002]众所周知，金属有机化合物化学气相沉积(Metal
‑
organic Chemical Vapor Deposition，MOCVD)设备在反应腔室内高温真空状态进行气相外延，在外延制程过程中会产生大量细小的颗粒，这种颗粒大都属于易燃、易爆、高温、高腐蚀性的固体颗粒。反应腔工作时排放的气体都含带有这些反应气体的副产物，而这些粉尘颗粒物会严重损伤真空抽气设备，故排放气体进入真空抽气设备前必须对气体中含有的粉尘颗粒物进行预处理。
[0003]目前常用的处理方法多数是利用滤芯过滤器对气体粉尘完全隔离后再进入真空设备，在现实使用此类过滤器过滤含粉尘颗粒的气体的过程中，经常发生因粉尘物的堵塞而影响气体的流导通畅，进而影响生产效率的生产状况。此外，由于滤芯过滤器中使用的滤芯为精细滤芯，在过滤含粉尘颗粒的气体时，粉尘中包含的大颗粒粉尘会对滤芯造成不可逆的结构损坏，导致滤芯的过滤效率持续下降并且快速缩减滤芯的使用寿命，需要经常替换滤芯过滤器中的滤芯以提高过滤效率，这大大增加了生产成本，并且更换下来的精细滤芯基本不能二次使用，大量废弃的滤芯还会对环境造成较大的污染。
[0004]因此，如何提供一种用于MOCVD设备的过滤装置，以实现提高过滤装置中滤芯的过滤效率且延长滤芯使用寿命，提高生产率的同时减少生产成本并减少对环境的污染，成为本领域技术人员亟待解决的一个重要技术问题。
[0005]应该注意，上面对技术背景的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本申请的
技术介绍
部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。
技术实现思路
[0006]鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种用于MOCVD设备的过滤装置，用于解决现有技术中粉尘中包含的大颗粒粉尘会对滤芯造成不可逆的结构损坏，导致滤芯的过滤效率持续下降并且快速缩减滤芯的使用寿命，需要经常替换滤芯过滤器中的滤芯以提高过滤效率，明显提高了生产成本，并且更换下来的精细滤芯基本不能二次使用，大量废弃的滤芯会对环境造成较大的污染等问题。
[0007]为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种用于MOCVD设备的过滤装置，包括：
[0008]滤筒；
[0009]隔板，位于所述滤筒内，将所述滤筒的内部空间分为滤芯过滤区及位于所述滤芯过滤区下方的粉尘颗粒捕集区，所述隔板的中间区域开设有通气孔以使来自所述粉尘颗粒捕集区的气体通过所述通气孔进入所述滤芯过滤区；
[0010]气体入口，设置于所述滤筒的侧壁以向所述粉尘颗粒捕集区输入含粉尘的气体；
[0011]屏蔽结构，位于所述粉尘颗粒捕集区，所述屏蔽结构用以使所述气体入口输入的气体碰撞到所述屏蔽结构后进入所述滤芯过滤区；
[0012]滤芯，位于所述滤芯过滤区；
[0013]气体出口，设置于所述滤筒的顶部以排出经所述滤芯过滤后的气体。
[0014]可选地，所述屏蔽结构包括垂直屏蔽筒，所述垂直屏蔽筒与所述滤筒的底壁连接，所述垂直屏蔽筒的外侧壁与所述滤筒的内侧壁之间具有间隙，所述气体入口面向所述垂直屏蔽筒的外侧壁。
[0015]可选地，所述垂直屏蔽筒侧壁的靠下部分包括预设数量的粉尘通孔。
[0016]可选地，所述屏蔽结构还包括V型屏蔽筒，所述V型屏蔽筒与所述滤筒的内壁连接，所述V型屏蔽筒具有顶部开口及底部开口，所述V型屏蔽筒的顶部开口高于所述垂直屏蔽筒的顶部，所述V型屏蔽筒的底部开口伸入所述垂直屏蔽筒内，所述V型屏蔽筒的外侧壁与所述垂直屏蔽筒的顶部之间存在间隙以使气体进入所述垂直屏蔽筒内。
[0017]可选地，所述屏蔽结构还包括屏蔽板，所述屏蔽板固定于所述V型屏蔽筒上以使进入所述V型屏蔽筒内的气体与所述屏蔽板发生碰撞而使气体中的粉尘颗粒下落。
[0018]可选地，所述屏蔽板包括在水平方向上排列并间隔设置的多片屏蔽件，所述屏蔽件相对于水平面倾斜设置。
[0019]可选地，所述屏蔽板包括上屏蔽板及下屏蔽板，所述下屏蔽板固定于所述V型屏蔽筒上，所述上屏蔽板位于所述下屏蔽板的上方并固定于所述下屏蔽板或所述V型屏蔽筒。
[0020]可选地，所述滤芯呈筒状并具有顶部开口及底部开口，所述滤芯设置于所述隔板上；所述过滤装置还包括盖板，所述盖板遮盖所述滤芯的顶部开口以使从所述滤芯的底部开口进入所述滤芯内部的气体依次穿过所述滤芯的内侧壁与外侧壁后到达所述气体出口，其中，所述隔板与所述盖板之间通过连接件固定连接。
[0021]可选地，所述滤芯与所述隔板之间设有密封圈。
[0022]可选地，所述滤芯的外表面设有用以降低过滤过程中气流对滤芯表面冲击的加固件，所述加固件包括金属条或网框。
[0023]可选地，所述过滤装置还包括粉尘排放口，所述粉尘排放口设置于所述滤筒的底部用于排放经所述屏蔽结构收集的粉尘。
[0024]如上所述，本技术的用于MOCVD设备的过滤装置，包括滤筒、隔板、气体入口、屏蔽结构、滤芯以及气体出口，所述隔板位于所述滤筒内将所述滤筒的内部空间分为滤芯过滤区及位于所述滤芯过滤区下方的粉尘颗粒捕集区，所述隔板的中间区域开设有通气孔以使来自所述粉尘颗粒捕集区的气体通过所述通气孔进入所述滤芯过滤区；所述气体入口设置于所述滤筒的侧壁以向所述粉尘颗粒捕集区输入含粉尘的气体；所述屏蔽结构位于所述粉尘颗粒捕集区，所述屏蔽结构用以使所述气体入口输入的气体碰撞到所述屏蔽结构后进入所述滤芯过滤区；所述滤芯位于所述滤芯过滤区；所述气体出口设置于所述滤筒的顶部以排出经所述滤芯过滤后的气体。本技术的用于MOCVD设备的过滤装置先通过屏蔽结构对气体中的粉尘颗粒进行预捕集再通过滤芯进行气体的精细过滤，不仅改善了滤芯的过滤环境进而提高了滤芯的过滤效率及使用寿命，还在降低生产成本的同时有效减少了废弃滤芯对环境的污染。
附图说明
[0025]图1显示为本技术的用于MOCVD设备的过滤装置的剖面结构示意图。
[0026]图2显示为本技术的用于MOCVD设备的过滤装置中垂直屏蔽筒的结构示意图。
[0027]图3显示为本技术的用于MOCVD设备的过滤装置中屏蔽板的第一种俯视结构示意图。
[0028]图4显示为图3中屏蔽板沿Ⅰ方向的剖面结构示意图。
[0029]图5显示为第二种屏蔽板的剖面结构示意图。
[0030]图6显示为第三种屏蔽板的剖面结构示意图。
[0031]图7显示为第四种屏蔽板的剖面结构示意图。
[0032]元件标号说明
[0033]1ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
滤筒
[0034]2ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
隔板
[003本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于MOCVD设备的过滤装置，其特征在于，包括：滤筒；隔板，位于所述滤筒内，将所述滤筒的内部空间分为滤芯过滤区及位于所述滤芯过滤区下方的粉尘颗粒捕集区，所述隔板的中间区域开设有通气孔以使来自所述粉尘颗粒捕集区的气体通过所述通气孔进入所述滤芯过滤区；气体入口，设置于所述滤筒的侧壁以向所述粉尘颗粒捕集区输入含粉尘的气体；屏蔽结构，位于所述粉尘颗粒捕集区，所述屏蔽结构用以使所述气体入口输入的气体碰撞到所述屏蔽结构后进入所述滤芯过滤区；滤芯，位于所述滤芯过滤区；气体出口，设置于所述滤筒的顶部以排出经所述滤芯过滤后的气体。2.根据权利要求1所述的用于MOCVD设备的过滤装置，其特征在于：所述屏蔽结构包括垂直屏蔽筒，所述垂直屏蔽筒与所述滤筒的底壁连接，所述垂直屏蔽筒的外侧壁与所述滤筒的内侧壁之间具有间隙，所述气体入口面向所述垂直屏蔽筒的外侧壁。3.根据权利要求2所述的用于MOCVD设备的过滤装置，其特征在于：所述垂直屏蔽筒侧壁的靠下部分包括预设数量的粉尘通孔。4.根据权利要求2所述的用于MOCVD设备的过滤装置，其特征在于：所述屏蔽结构还包括V型屏蔽筒，所述V型屏蔽筒与所述滤筒的内壁连接，所述V型屏蔽筒具有顶部开口及底部开口，所述V型屏蔽筒的顶部开口高于所述垂直屏蔽筒的顶部，所述V型屏蔽筒的底部开口伸入所述垂直屏蔽筒内，所述V型屏蔽筒的外侧壁与所述垂直屏蔽筒的顶部之间存在间隙以使气体进入所述垂直屏蔽筒内。5.根据权利要求4所述的用于MOCVD设备的过滤装置，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙仁君，
申请(专利权)人：上海悠合悠合科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。