一种制备Cr7Se8单晶的方法技术

技术编号:36244300 阅读:64 留言:0更新日期:2023-01-07 09:34
本发明专利技术公开了一种制备Cr7Se8单晶的方法,其特征在于,采用助熔剂法,以Ga为助熔剂,按Ga:Cr:Se摩尔比为98:2:2进行配料,于1100℃下保温一段时间,再以一定的速率冷却至730℃,制得Cr7Se8单晶。本发明专利技术解决了制备Cr7Se8单晶困难的问题。难的问题。难的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种制备Cr7Se8单晶的方法


[0001]本专利技术涉及一种制备Cr7Se8单晶的合成方法,属于晶体材料制备领域。

技术介绍

[0002]Cr7Se8是一种具有微磁性的二元合金,其具有NiAs型晶体结构。Cr

Se化合物包括Cr2Se3,Cr3Se4,Cr5Se6,Cr7Se8以及CrSe。已有文献表明Cr

Se化合物磁性与电性的耦合能够诱导丰富的磁电阻效应。但由于多数材料的单晶样品难以制备,众多研究均基于多晶样品。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种制备Cr7Se8单晶的方法。
[0004]本专利技术的技术方案是:一种制备Cr7Se8单晶的方法,采用助熔剂法,以镓(Ga)为助熔剂,按镓(Ga):铬(Cr):硒(Se)摩尔比为98:2:2 进行配料,于1100 ℃下保温一段时间,再以一定的速率冷却至730 ℃,制得Cr7Se8单晶。
[0005]较佳的,以3℃/h的速率由1100 ℃冷却至730 ℃。
[0006]较佳的,于1100 ℃下保温一段本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制备Cr7Se8单晶的方法,其特征在于,采用助熔剂法,以Ga为助熔剂,按Ga:Cr:Se摩尔比为98:2:2 进行配料,于1100 ℃下保温一段时间,再以一定的速率冷却至730 ℃,制得Cr7Se8单晶。2. 如权利要求1所述的单晶的方法,其特征在于,采用助熔剂法,以Ga为助熔剂,按Ga:Cr:Se摩尔比为98:2:2 进行配...

【专利技术属性】
技术研发人员:鲁子骞龚元元白雨情徐桂舟徐锋
申请(专利权)人:南京理工大学
类型:发明
国别省市:

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