【技术实现步骤摘要】
一种空间用防静电复合原子氧防护涂层制备方法
[0001]本专利技术涉及航天器空间环境效应防护
,具体涉及一种空间用防静电复合原子氧防护涂层制备方法。
技术介绍
[0002]原子氧是低地球轨道残余大气的主要成分,对低轨道卫星表面材料产生严重的氧化剥蚀作用,导致材料性能出现衰退甚至完全失效,是卫星表面材料性能退化的主要因素之一。随着研制或正在运行的低轨道卫星越来越多,运行轨道低(180km~700km),在轨时间长(5~15年)。低轨道卫星上广泛使用的有机结构材料、热控薄膜材料、碳纤维板等极易受到原子氧剥蚀,原子氧防护技术是保证低轨道卫星在轨性能和寿命的必要措施。而现有的防护涂层已经无法经受高累积通量原子氧剥蚀,因此对高性能原子氧防护涂层提出迫切需求。此外,低轨道卫星在空间运动时会因多种起电机理在机体上累积大量的静电荷,对飞行安全带来多方面的威胁。
[0003]因此,制备高性能空间用防静电复合原子氧防护涂层,为低轨道、超低轨道卫星长期在轨运行至关重要。
技术实现思路
[0004]有鉴于此,本专利技术 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种空间用防静电复合原子氧防护涂层制备方法,其特征在于,所述空间用防静电复合原子氧防护涂层包括在有机基底材料(1)上由下至上设置的硅氧烷防护涂层(2)、氧化铝涂层(3)、SiO
x
原子氧防护涂层(4)和氧化铟锡防静电涂层(5);SiO
x
中x取值为[1,2]范围内的实数;所述原子氧防护涂层包括如下步骤:步骤(1)将所述有机基底材料(1)放置于等离子体增强化学气相沉积设备的反应室内,将反应室抽真空至1
×
10
‑3~10
×
10
‑3Pa;步骤(2)将硅源和氧气的混合气体通入镀膜真空腔室中,硅源流量5~50sccm标准毫升每分钟,氧气流量0~500sccm,沉积气压为5~40Pa,沉积功率为200~500W,当硅氧烷涂层厚度达到要求的50~600nm时,关闭设备,得到硅氧烷防护涂层(2)的试样;步骤(3)将步骤(2)中制得的试样放置于等离子体增强原子层沉积设备的反应室内,将反应室抽真空至1
×
10
‑3~10
×
10
‑3Pa;步骤(4)薄膜生长温度为60℃~150℃,铝源单体由氩气携带进入反应室,载气流量为5~30sccm,在步骤(2)中制得的试样表面完成化学吸附反应,时间为0.03~10s;然后用纯氩气吹洗多余单体,流量为20~80sccm,吹洗时间为5~30s;将单体氧源通入反应室,时间为0.03~10s,并与之前吸附的单体铝源进行化学反应,生成氧化铝薄膜;再次用氩气吹洗多余的反应副产物和氧气,流量为20~80sccm,吹洗时间为5~30s;上述过程为1个周期,重复上述多个周期,直到厚度满足要求即可停止设备,氧化铝厚度范围为1~200nm;制得附...
【专利技术属性】
技术研发人员:李中华,李毅,王志民,王艺,何延春,徐嶺茂,赵琳,熊玉卿,王虎,王洁冰,李林,汪科良,
申请(专利权)人:兰州空间技术物理研究所,
类型:发明
国别省市:
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