一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗设备制造技术

本发明专利技术涉及二极管生产技术领域，具体是涉及一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗设备，包括底座、清洗箱、固定组件、清洗辊、站脚、驱动组件、连接组件和直线移动组件，清洗箱中心固定设置有导向柱，驱动组件能够滑动的设置在底座中，驱动组件的数量为四个，所有的驱动组件围绕导向柱的轴线均匀设置，清洗辊与驱动组件的输出端传动连接，清洗辊的轴线与导向柱的轴线平行，连接组件与两个相邻的驱动组件传动连接，连接组件的数量为两个，直线移动组件固定设置在底座的中心处，直线移动组件同时控制所有的驱动组件向靠近底座中心处的方向移动。本发明专利技术实现了在放入和取出固定组件时可以避免清洗辊与其发生不必要的摩擦的功能。清洗辊与其发生不必要的摩擦的功能。清洗辊与其发生不必要的摩擦的功能。

【技术实现步骤摘要】
一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗设备


[0001]本专利技术涉及二极管生产
，具体是涉及一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗设备。

技术介绍

[0002]碳化硅二极管导通与关断状态的转换速度非常快，而且没有普通双极二极管技术开关时的反向恢复电流，在消除反向恢复电流效应后，碳化硅二极管的能耗降低70％，能够在宽温度范围内保持高能效，并提高设计人员优化系统工作频率的灵活性。在碳化硅二极管生产过程中，需要对芯片进行刻蚀，并在刻蚀完成后清洗刻蚀液，现有的清洗装置在清洗过程中，清洗效率低下，严重影响生产效率。
[0003]中国专利申请CN114664709A公开了一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗装置，通过固定工装固定刻蚀完成后的碳化硅二极管芯片，将固定工装置入清洗箱中通过清洗辊对刻蚀完成后的碳化硅二极管芯片进行清洗，通过吸水辊和风干装置进行水渍吸收，但是该方案在使用时无法控制清洗辊的位置，而为了良好的清洗效果清洗辊工作时需要充分贴合刻蚀完成后的碳化硅二极管芯片，这边导致在放置固定工装时清洗辊会先一步与刻蚀完成后的碳化硅二极管芯片发生摩擦，从而存在固定本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗设备，包括底座(1)、清洗箱(2)、固定组件(3)、清洗辊(4)和站脚(5)，其特征在于，清洗设备还包括驱动组件(6)、连接组件(7)和直线移动组件(8)；清洗箱(2)固定设置在底座(1)上，清洗箱(2)中心固定设置有导向柱(21)，导向柱(21)的轴线与清洗箱(2)的高度方向平行，固定组件(3)滑动设置在导向柱(21)上，固定组件(3)的滑动方向与导向柱(21)的轴线平行；驱动组件(6)能够滑动的设置在底座(1)中，驱动组件(6)的滑动方向与底座(1)的高度方向平行，驱动组件(6)的数量为四个，所有的驱动组件(6)围绕导向柱(21)的轴线均匀设置，清洗辊(4)与驱动组件(6)的输出端传动连接，清洗辊(4)的轴线与导向柱(21)的轴线平行；连接组件(7)与两个相邻的驱动组件(6)传动连接，连接组件(7)的数量为两个；直线移动组件(8)固定设置在底座(1)的中心处，直线移动组件(8)同时控制所有的驱动组件(6)向靠近底座(1)中心处的方向移动。2.根据权利要求1所述的一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗设备，其特征在于，驱动组件(6)包括中心板(61)、第一齿轮(62)、第二齿轮(63)、第一传动带(64)和第一驱动电机(65)；中心板(61)滑动设置在底座(1)上，中心板(61)的滑动方向与底座(1)的高度方向垂直，第一齿轮(62)能够旋转的设置在中心板(61)上，第二齿轮(63)能够旋转的设置在中心板(61)上，第二齿轮(63)的数量为两个，第二齿轮(63)上同轴固定连接清洗辊(4)，清洗箱(2)上开设有配合清洗辊(4)滑动的第一限位滑槽(22)，第一限位滑槽(22)的长度方向与中心板(61)的滑动方向平行，第一传动带(64)传动连接第一齿轮(62)和第二齿轮(63)，第一驱动电机(65)与第一齿轮(62)传动连接。3.根据权利要求2所述的一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗设备，其特征在于，驱动组件(6)还包括密封垫(66)；密封垫(66)呈圆盘状，密封垫(66)能够活动的与清洗辊(4)同轴连接，密封垫(66)的直径大于第一限位滑槽(22)的长度，密封垫(66)处于清洗辊(4)和清洗箱(2)的底部之间。4.根据权利要求3所述的一种碳化硅二极管生产的刻蚀清洗设备，其特征在于，中心板(61)上固定设置有限位凸起(611)，底座(1)上开设有配合限位凸起(611)工作的第二限位滑槽(11)，第二限位滑槽(11)...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄景扬，
申请(专利权)人：先之科半导体科技东莞有限公司，
类型：发明
国别省市：