激光退火设备、系统及方法技术方案

本公开提供一种激光退火设备、系统和方法，涉及半导体制造技术领域。激光退火设备包括激光发射装置和分光组件，分光组件用于将激光发射装置发射的激光分为多个光束，且各光束间隔分布；分光组件包括至少一个第一镜片和第二镜片，第一镜片位于第二镜片和激光发射装置之间；第一镜片用于对激光发射装置发出的激光进行透射和反射，第二镜片至少用于对激光发射装置发出的激光进行反射；每个第一镜片反射一束激光后，得到一个光束，每个第二镜片反射激光后，得到一个光束。本公开的激光退火设备、系统和方法可在不降低生产效率的前提下，提高显示效果的均一性。示效果的均一性。示效果的均一性。

【技术实现步骤摘要】
激光退火设备、系统及方法


[0001]本公开涉及半导体制造
，具体而言，涉及一种激光退火设备、激光退火系统及激光退火方法。

技术介绍

[0002]目前，采用多晶硅薄膜晶体管的显示面板应用较为广泛，在制造过程中，通常采用ELA(Excimer Laser Annealing，准分子激光退火)工艺，对基板上的非晶硅(A
‑
Si)进行照射，使其熔融后再结晶变成多晶硅(P
‑
Si)。但形成的多晶硅晶粒的均匀性较低，影响薄膜晶体管的迁移率等电学特性的均一性，从而导致显示不良。
[0003]需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

[0004]本公开的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种激光退火设备、激光退火系统及激光退火方法，可在不降低生产效率的前提下，提高显示效果的均一性。
[0005]根据本公开的一个方面，提供一种激光退火设备，包括：
[0006]激光发射装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光退火设备，其特征在于，包括：激光发射装置，用于发射激光；分光组件，用于将所述激光发射装置发射的激光分为多个光束，且各所述光束间隔分布；所述分光组件包括至少一个第一镜片和第二镜片，所述第一镜片位于所述第二镜片和所述激光发射装置之间；所述第一镜片用于对所述激光发射装置发出的激光进行透射和反射，所述第二镜片至少用于对所述激光发射装置发出的激光进行反射；每个所述第一镜片反射一束激光后，得到一个所述光束，每个所述第二镜片反射所述激光后，得到一个所述光束。2.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述第一镜片的数量和所述第二镜片的数量均为一个，且所述第二镜片贴合于所述第一镜片远离所述激光发射装置的表面。3.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述第一镜片的反射率大于透射率。4.根据权利要求3所述的激光退火设备，其特征在于，所述第一镜片的反射率与透射率之比为2:1。5.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述第二镜片为反射镜。6.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，相邻两所述光束之间的距离大于0.6mm。7.根据权利要6所述的激光退火设备，其特征在于，相邻两所述光束之间的距离为0.8mm
‑
1.2mm。8.一种激光退火系统，其特征在于，包括：权利要求1

【专利技术属性】
技术研发人员：江玲，路兆里，全祥皓，李若尧，陈科全，熊月，易靖洋，刘晓锋，王云飞，张苁，于泽，王丙海，
申请(专利权)人：重庆京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：