一种硅片清洗转送装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片清洗转送装置，包括清洗机构，所述清洗机构包括碱清洗池（2）、超声波清洗池（3）、清水池（4）和烘干箱（5），所述碱清洗池（2）、超声波清洗池（3）、清水池（4）和烘干箱（5）依次设置在底座（6）上，所述底座（6）上设置有可移动的转送机构，所述转送机构将硅片依次送入碱清洗池（2）、超声波清洗池（3）、清水池（4）和烘干箱（5）中，完成硅片的清洗与转送。本实用新型专利技术结构简单，操作方便，可极大程度上提升硅片清洗转送的效率。提升硅片清洗转送的效率。提升硅片清洗转送的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗转送装置


[0001]本技术涉及硅片处理
，尤其涉及一种硅片清洗转送装置。

技术介绍

[0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷，清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
[0003]本申请人发现现有技术至少存在以下技术问题：
[0004]在现有技术中硅片处理都只是将硅片进行清洗，有的加工厂甚至没有实现自动化，运送都是靠工人手动搬运，这就导致很多硅片破碎，导致良品率下降，另外也有很多厂家将硅片不烘干就进行使用，或者依靠自然晾干，这样在用水问题上就会出现问题，晾干时间过长会导致生产周期加长。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种硅片清洗转送装置，以解决现有技术中硅片不好搬运、良品率低和因晾干水分导致的生产周期过长的技术问题。
[0006]本技术的目的是采用以下技术方案实现的：一种硅片清洗转送装置，包括清洗机构，所述清洗机构包括碱清洗池、超声波清洗池、清水池和烘干箱，所述碱清洗池、超声波清洗池、清水池和烘干箱依次设置在底座上，所述底座上设置有可移动的转送机构，所述转送机构将硅片依次送入碱清洗池、超声波清洗池、清水池和烘干箱中，完成硅片的清洗与转送。
[0007]进一步的，所述转送机构包括滑轨和机械手，所述滑轨设置于底座上，所述机械手设置于滑轨上，并沿滑轨移动。
[0008]进一步的，所述碱清洗池上设置有密封盖，所述密封盖与碱清洗池的边缘设置有密封胶圈。
[0009]进一步的，所述密封盖上设置有提拉把手和贯穿密封盖的孔洞，所述孔洞中设置有导气管，所述导气管连接抽气泵，所述抽气泵与废气处理器相连接。
[0010]进一步的，所述碱清洗池的内壁由耐腐蚀材料制成。
[0011]进一步的，所述超声波清洗池中设置有超声波清洗装置。
[0012]进一步的，所述转送机构还包括用以转送硅片的分隔栏，所述分隔栏上设置有把手和挡片。
[0013]进一步的，所述分隔栏的侧壁和底部均设置有多个透水孔。
[0014]进一步的，所述烘干箱包括鼓风机和加热丝，所述鼓风机设置于烘干箱的外侧，鼓风机出风口正对加热丝，所述加热丝设置于烘干箱的侧壁上。
[0015]本技术的有益效果在于：本技术将处理好的硅片按照流程清洗烘干，机
械手可进行自动化操作，过重的硅片可以利用机械手平稳的运输减少破碎率；通过超声波将硅片表面的颗粒清洗下来，方便后续处理；本技术结构简单，操作方便，可极大程度上提升硅片清洗转送的效率。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0017]图1为本技术主视图；
[0018]图2为本技术侧视图；
[0019]图3为密封盖结构示意图；
[0020]图4为分隔栏结构示意图；
[0021]图中，1
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机械手，2
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碱清洗池，3
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超声波清洗池，4
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清水池，5
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烘干箱，6
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底座，7
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密封盖，8
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滑轨，9
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导气管，10
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提拉把手，11
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密封圈，12
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分隔栏，13
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挡片，14
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透水孔。
具体实施方式
[0022]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0023]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0024]下面结合附图，对本技术的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0025]实施例1：
[0026]参阅图1至图4，一种硅片清洗转送装置，包括清洗机构，所述清洗机构包括碱清洗池2、超声波清洗池3、清水池4和烘干箱5，所述碱清洗池2、超声波清洗池3、清水池4和烘干箱5依次设置在底座6上，所述底座6上设置有可移动的转送机构，所述转送机构将硅片依次送入碱清洗池2、超声波清洗池3、清水池4和烘干箱5中，完成硅片的清洗与转送，所述转送机构包括滑轨8和机械手1，所述滑轨8设置于底座6上，所述机械手1设置于滑轨8上，并沿滑轨8移动。在硅片加工过程中，由机械手1将硅片放置在不同的功能箱体中，完成硅片的清洗作业。
[0027]在本实施例当中，为了便于硅片的转送，所述转送机构还包括分隔栏12，所述分隔栏12用以放置硅片，所述分隔栏12上设置有把手和挡片13。进一步的，所述分隔栏12使用耐高温耐碱的材料制作，本技术采用pps材料制作，该材料可耐230摄氏度的高温并耐酸碱，可在酸碱环境和高温环境中长期使用，同时分隔栏12还设计有分割挡片13，该挡片13设置于分隔栏12内，一般根据实际需要设置对应实际需求数量的挡片13，使用时将硅片插入挡片13形成的空格处即可，避免硅片在运送清洗过程中破损。更进一步的，所述分隔栏12的
侧壁和底部均设置有多个透水孔14，方便在将分隔栏12提出清洗池时将分隔栏12中液体流出，同时在将分隔栏12放入烘干箱5时方便热风从中穿过，增加通风面积，加快水分蒸发。
[0028]进一步的，在本实施例当中，为了便于分隔栏12的转送，还可以设置转送盘，所述转送盘为带把手方形平盘，方形平盘设置有凸起边缘防止分隔栏12在移送中滑落，所述方形平盘长、宽都为所述分隔栏12的长、宽的倍数。
[0029]在本实施例当中，由于清洗溶液有一定的腐蚀性，所以，碱清洗池2的内壁由耐腐蚀材料制成，可采用玻璃制作所述碱清洗池2内胆（内壁），将所述移送盘通过机械手1放入碱清洗池2，进行清洗，所述碱清洗池2中的溶液浓度根据需要调配。进一步的，所述硅片表面由于H2O2氧化作用生成氧化膜，该氧化膜又被NH4OH腐蚀，腐蚀后立即又发生氧化，氧化和腐蚀反复进行，因此附着在硅片表面的颗粒和金属也随腐蚀层而落入清洗液内，因该反应会产生废气，废气的主要成分为氨气，故设置有对应的密封盖7和导气管9。进一步的，密封盖7与玻璃内胆开口形本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗转送装置，其特征在于，包括清洗机构，所述清洗机构包括碱清洗池（2）、超声波清洗池（3）、清水池（4）和烘干箱（5），所述碱清洗池（2）、超声波清洗池（3）、清水池（4）和烘干箱（5）依次设置在底座（6）上，所述底座（6）上设置有可移动的转送机构，所述转送机构将硅片依次送入碱清洗池（2）、超声波清洗池（3）、清水池（4）和烘干箱（5）中，完成硅片的清洗与转送。2.如权利要求1所述的一种硅片清洗转送装置，其特征在于，所述转送机构包括滑轨（8）和机械手（1），所述滑轨（8）设置于底座（6）上，所述机械手（1）设置于滑轨（8）上，并沿滑轨（8）移动。3.如权利要求1所述的一种硅片清洗转送装置，其特征在于，所述碱清洗池（2）上设置有密封盖（7），所述密封盖（7）与碱清洗池（2）的边缘设置有密封胶圈（11）。4.如权利要求3所述的一种硅片清洗转送装置，其特征在于，所述密封盖（7）上设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：代刚，贾涛，傅昭林，
申请(专利权)人：成都青洋电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：