用于对PCB铜蚀刻废液回收装置制造方法及图纸

本方案属于PCB处理废液回收技术领域，具体涉及用于PCB铜蚀刻废液的回收装置。包括机架、反应缸和废液回收缸，所述反应缸固定设在机架上，所述反应缸内设有第一PH传感器，还包括第一入料缸和第二入料缸，所述第一入料缸用于盛放酸性蚀刻废液；所述第二入料缸用于盛放碱性蚀刻废液；所述反应缸底部设有出料管道，所述出料管道处设有用于打开和关闭出料管道的电阀门，所述反应缸下方设有过滤网。本方案回收了废液中的铜，并且利用水合肼与废液反应还原铜，进而将从铜从废液中分离，废液用于配置新的蚀刻液。本方案回收利用率高，且操作方便成本低廉，是企业处理PCB铜蚀刻废液、回收铜的有效方法，具有市场应用价值。具有市场应用价值。具有市场应用价值。

【技术实现步骤摘要】
用于对PCB铜蚀刻废液回收装置


[0001]本方案属于PCB处理废液回收
，具体涉及用于PCB铜蚀刻废液的回收装置。

技术介绍

[0002]随着人类工业水平的进步，电子工业的高速发展，印制线路板的需求量越来越大，PCB的生产已成为电子行业的重要基础产业，然而国家对环境保护愈发重视，工业废水的排放标准也愈发严格。对于产生大量有毒有害工业废水及废弃物的PCB制造业，对其实施高效合理的治理十分必要。尤其将PCB酸性蚀刻液进行零排放处理，不仅可以将铜资源回收资利用，而且还实现了对水资源的在线回用。真正意义上实现PCB酸性蚀刻液零排放处理。
[0003]PCB蚀刻生产在业内一般分为两种工艺，即碱性蚀刻和酸性蚀刻，蚀刻后产生的废液一般通过中和后将铜以沉淀物或者络合物的形式分离出来，而对剩余组分废水没有进行实质性处理，容易造成二次污染，且造成水资源的浪费。
[0004]申请号为CN201521007340.3的专利公开了一种印制电路板重金属废水铜回收装置，包括交流电源、整流器、阳极、阴极、反应缸、钢丝过滤网、永磁体、废液回收缸、循环泵，交流电源连接整流器，整流器连接布置在反应缸内的阳极和阴极，阴极为架设在反应缸内的钢板，反应缸下部安装钢丝过滤网，钢丝过滤网上放置永磁体，反应缸底部安装通向废液回收缸的出水管，废液回收缸的废液通过循环泵和管道与反应缸循环。
[0005]该方案综合混凝沉淀法和电解法的优点，快速彻底地回收重金属废水中的Cu
2+
再排到污水站处理。该方案中的滤液中依然含有少量的Cu
2+
，直接排放至污水处理站，会造成浪费。

技术实现思路

[0006]本方案提供一种废液回收利用的用于PCB铜蚀刻废液的回收装置。
[0007]为了达到上述目的，本方案提供一种用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，包括机架、反应缸和废液回收缸，所述反应缸固定设在机架上，所述反应缸上端设有出气管道，所述反应缸内设有第一PH传感器，还包括第一入料缸和第二入料缸，所述第一入料缸用于盛放酸性蚀刻废液；所述第二入料缸用于盛放碱性蚀刻废液；所述第一入料缸和第二入料缸分别通过出料管与反应缸连通；第一入料缸和第二入料缸的出料管上均设有电阀门，所述第一入料缸和第二入料缸上均设有液位传感器，所述反应缸底部设有出料管道，所述出料管道上设有用于打开和关闭出料管道的电阀门，所述反应缸下方设有滤筒，所述滤筒上端与反应缸的出料管道连通，所述滤筒侧壁不透气，所述滤筒底部设有滤网，所述滤筒与出料管底部以可拆卸的方式连接，所述废液回收缸设在过滤网下方，还包括结晶缸、PVP分散剂入料缸和水合肼入料缸，所述PVP分散剂入料缸内盛放有PVP分散剂，所述水合肼入料缸内盛放水合肼；所述 PVP分散剂入料缸和水合肼入料缸上
设有出料管和用于打开关闭出料管的电阀门；所述 PVP分散剂入料缸和水合肼入料缸通过出料管与废液回收缸连通；所述废液回收缸内还设有第二PH传感器，还包括控制器、ccd相机和处理模块，当液位传感器检测到第一入料缸内的液体减少2L时，将信号反馈给控制器，使得控制器将第一入料缸的出料管的电阀门关闭，当液位传感器第二入料缸内的液体减少1.2L时，控制器控制第二入料缸的出料管的电阀门关闭；当第一PH传感器检测到此时缸体内的PH值为6.2时，控制器控制反应缸的电阀门打开，ccd相机设在废液回收缸内，用于拍摄废液回收缸内的液体反应情况，并将信号反馈给处理模块，处理模块，用于接收ccd相机拍摄的照片，当拍摄的照片中出现黑色晶体时，处理模块将信号反馈给控制器，控制器接收到该信息后控制PVP分散剂入料缸的电阀门打开，当黑色晶体析出量稳定时，控制器关闭PVP分散剂入料缸的电阀门，所述控制器与第一PH传感器、第二PH传感器、液位传感器和电阀门均电性连接。
[0008]本方案的原理：首先在第一入料缸内盛放酸性蚀刻废液，在第二入料缸内盛放碱性蚀刻废液，然后液位传感器测量第一入料缸和第二入料缸的初始液位，然后反馈给控制器，当液位传感器检测到第一入料缸内的液体减少2L时，控制器控制第一入料缸的出料管的电阀门关闭，当第二入料缸内的液体减少1.2L时，控制器控制第二入料缸的出料管的电阀门关闭，此时酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液在缸体内反应生成Cu(OH)Cl，当第一PH传感器检测到此时缸体内的PH值为6.2时，此时滤液中的Cu
2+
含量最低，然后控制器控制缸体的电阀门打开，缸体内的液体和Cu(OH)Cl固体经过过滤网过滤，过滤后的液体流入废液回收缸内，过滤完成后，将水合肼（N2H4·
H2O）加入废液回收缸内进行还原除铜，并且在铜还原过程中，启动ccd相机进行拍摄，当拍摄到有针絮状氧化亚铜出现时，控制器将水合肼入料缸的出料管的电阀门关闭，同时控制器将PVP分散剂入料缸的出料管的电阀门打开，将PVP分散剂加入到废液回收缸中，加快铜还原反应的过程，使得所有的针絮状氧化亚铜与氧化铜向规则光滑的立方型铜结构转化，且反应过程中的气体从液体中逐渐上升到表面的过程中起搅拌液体的作用，使得PVP分散剂与废液回收缸内的液体反应更加均匀和迅速，进而可使得针絮状氧化亚铜全部转化成立方型铜结构，而使得Cu
2+
被还原的程度更高。当第二PH传感器检测到废液回收缸内的PH值为11时，即可看到废液回收缸内有纯度很高的紫黑色铜粉析出，且紫黑色铜粉含量稳定不再有新的紫黑色铜粉出现时，表示还原过程完成，控制器控制PVP分散剂入料缸的出料管的电阀门关闭，然后进而进行纯铜回收，废液用于配置新的蚀刻液。过滤的滤渣倒入结晶缸中，并加入少量水化浆，然后在结晶缸中加入浓硫酸，浓硫酸与滤渣生成硫酸铜溶液，冷却后结晶，然后过滤洗涤，回收硫酸铜晶体。
[0009]本方案的有益效果：（1）将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液均倒入反应缸中，进行中和处理，得到Cu(OH)Cl。然后采用浓硫酸与Cu(OH)Cl反应得到硫酸铜晶体，进而回收了废液中的铜，并且利用水合肼与废液反应还原铜，进而将从铜从废液中分离，废液用于配置新的蚀刻液。本方案回收利用率高，且操作方便成本低廉，是企业处理PCB铜蚀刻废液、回收铜的有效方法，具有市场应用价值。
[0010]（2）通过设置液位传感器、电阀门和控制器，自动控制酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的下料量，使得酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的混合体积比为2：1.2时，此时滤液中残留
的Cu
2+
最低，滤液中的Cu2+去除率最高。
[0011]（3）通过在设置废液回收缸内设置第二PH传感器，当检测到废液回收缸内的PH值为11时，此时废液中的Cu
2+
去除率最高，进而铜离子回收更彻底，回收率更高。
[0012]（4）通过往废液回收缸内添加PVP分散剂，加快了Cu
2+
的氧化还原反应，使得针絮状氧化亚铜与氧化铜向规则光滑的立方型铜结构转化更彻底，避免了针絮状氧化亚铜的出现，还原效果更好。
[0013]进一步，所述机架上还设有气缸，所述废液回收缸放在气缸上，所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，料缸分别通过出料管与反应缸（2）连通；第一入料缸（4）和第二入料缸（5）的出料管上均设有电阀门（15），所述第一入料缸（4）和第二入料缸（5）上均设有液位传感器，所述反应缸（2）底部设有出料管道（6），所述出料管道（6）上设有用于打开和关闭出料管道（6）的电阀门（15），所述反应缸（2）下方设有滤筒（7），所述滤筒（7）上端与反应缸（2）的出料管道（6）连通，所述滤筒（7）侧壁不透气，所述滤筒（7）底部设有滤网（8），所述滤筒（7）与出料管底部以可拆卸的方式连接，所述废液回收缸（3）设在过滤网（8）下方，还包括结晶缸（9）、PVP分散剂入料缸（24）和水合肼入料缸（10），所述PVP分散剂入料缸（24）内盛放有PVP分散剂，所述水合肼入料缸（10）内盛放水合肼；所述 PVP分散剂入料缸（24）和水合肼入料缸（10）上设有出料管和用于打开关闭出料管的电阀门（15）；所述 PVP分散剂入料缸（21）和水合肼入料缸（10）通过出料管与废液回收缸（3）连通；所述废液回收缸（3）内还设有第二PH传感器，还包括控制器、ccd相机（25）和处理模块，当液位传感器检测到第一入料缸（4）内的液体减少2L时，将信号反馈给控制器，使得控制器将第一入料缸（4）的出料管的电阀门（15）关闭，当液位传感器第二入料缸（5）内的液体减少1.2L时，控制器控制第二入料缸（5）的出料管的电阀门（15）关闭；当第一PH传感器检测到此时缸体（16）内的PH值为6.2时，控制器控制反应缸（2）的电阀门（15）打开，ccd相机（25）设在废液回收缸（3）内，用于拍摄废液回收缸（3）内的液体反应情况，并将信号反馈给处理模块，处理模块，用于接收ccd相机（25）拍摄的照片，当拍摄的照片中出现黑色晶体时，处理模块将信号反馈给控制器，控制器接收到该信息后控制PVP分散剂入料缸（25）的电阀门（15）打开，当黑色晶体析出量稳定时，控制器关闭PVP...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾晓东，
申请(专利权)人：重庆锦瑜电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：