【技术实现步骤摘要】
一种可调节的气体温度控制装置
[0001]本技术涉及温度控制装置，尤其涉及一种可调节的气体温度控制装置。
技术介绍
[0002]在晶圆制造的工艺中，等离子体灰化设备是整个生产工艺中不可或缺的设备，随着制造工艺要求的不断提高，对等离子体灰化工艺过程的稳定性要求越来越高。工艺温度作为等离子工艺和设备的重要参数，工艺气体在射频电源产生高反应活性或高能量的离子，离子与晶圆表面光刻胶发生反应，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁活化等目的，在这一过程中，等离子放电会不断产生热量，同时因射频放电的功率和时间的不同，产生热量也有所不同，工艺环境温度会在生产过程中发生变化，光刻胶受环境温度的影响反应活性会发生变化，环境温度会会直接影响去胶速率。
[0003]传统的设备通过在工艺腔体外部增加风扇和通风口，通过风扇带动气体流动从而带走热量，因为风扇转速一定，设定工艺时间一定，则此时间内通过风扇调节降低的环境温度一定，但不同工艺条件下产生的热量不同，所以工艺环境温度无法保持稳定，会产生热累积或减少，从而在连续...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可调节的气体温度控制装置，其特征在于：包括工控机、PLC控制器和转速可调节风扇，所述工控机通过信号线连接PLC控制器，PLC控制器通过控制线和信号...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑长吉，刘奇，
申请(专利权)人：上海稷以科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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