一种跨平台的集成电路设计环境构建方法技术

本发明专利技术公开一种跨平台的集成电路设计环境构建方法，属于集成电路EDA设计领域。首先进行EDA工具镜像制作；其次制作运行EDA软件的系统镜像；然后进行镜像存储；接着设计环境部署；最后运行设计环境。本发明专利技术通过云计算架构下的容器技术，按照设计流程进行EDA工具分组，制作指定操作系统版本下的EDA工具设计镜像，推送至镜像仓库，在新的系统平台下，拉取工具镜像和配置文件快速生成新的EDA设计环境。实践表明，本发明专利技术实现跨平台的EDA设计环境构建，提高设计环境的迁移部署效率和管控的粒度。设计环境的迁移部署效率和管控的粒度。设计环境的迁移部署效率和管控的粒度。

【技术实现步骤摘要】
一种跨平台的集成电路设计环境构建方法


[0001]本专利技术涉及集成电路EDA设计
，特别涉及一种跨平台的集成电路设计环境构建方法。

技术介绍

[0002]集成电路产业链主要可以分为上中下游三大模块以及集成电路行业的支撑产业；上游是芯片设计行业，中游是制造以及封测，下游为芯片支撑终端应用。设计处于整个集成电路行业龙头地位，带动整个集成电路行业进步与发展。而在集成电路设计阶段，全流程依靠设计环境，设计环境是集成电路设计的基石。
[0003]以云计算为代表的新一代信息技术快速发展，推动了集成电路设计环境架构和服务模式产生巨大变革。从最早单机模式、分布式模式，发展到现在的云端设计，当前数字电路规模最大已达到百亿门级；从设计、仿真验证到制造环节，无不需要设计环境支撑。随着电路复杂程度增加，对设计环境的效率和安全要求也越来越高，设计环境运维困难，EDA(Electronic design automation，电子设计自动化)软件版本复杂众多，需要根据设计流程更加细粒度划分设计单元和跨平台设计支持。
[0004]EDA是利用计算机辅助设计软件，来完成超大规模集成电路芯片的功能设计、综合、验证、物理设计(布局、布线、版图、设计规则检查等)流程的设计方式。EDA软件需要计算机、数学、物理、电子电路、工艺等多学科的紧密配合，是典型的技术与知识密集型产业。EDA发展至今已经为整个集成电路行业生态链最上游、最高端的节点，芯片制造的全流程几乎都有EDA的参与。
[0005]容器技术是云计算时代中基础设施技术之一，其架构示意图如图1所示，能够有效将单个操作系统的资源划分到具体隔离组中，以便更好地在组中进行资源的平衡和快速分配，解决在虚拟化技术资源共享方式的性能和资源使用效率方面问题，提升资源使用率和业务部署效率。
[0006]集成电路设计环境涉及软件和系统环境复杂且配置流程多，且对系统和工具版本的适配条件要求苛刻，目前物理单机、虚拟机高耦合的部署模式配置过程繁杂、难以复用、无法进行跨平台的灵活迁移和快速部署。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种跨平台的集成电路设计环境构建方法，以达到细粒度管理设计环境，实现跨操作系统和快速构建复制设计环境能力。
[0008]为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种跨平台的集成电路设计环境构建方法，包括如下步骤：
[0009]第一步，EDA工具镜像制作，构建EDA工具镜像能够运行的系统镜像；
[0010]第二步，系统镜像制作，将配置完成后的操作系统进行镜像化构建，生成系统镜像；
[0011]第三步，镜像存储，将需要的镜像文件统一集中存储；
[0012]第四步，设计环境部署，在系统镜像中进行EDA工具环境变量和配置参数的预写入，生成可部署运行的系统镜像；
[0013]第五步，设计环境运行，利用交互客户端登入环境名称进入设计环境开展设计，使用exit退出环境。
[0014]在一种实施方式中，所述EDA工具镜像制作包括：由于设计环境需要跨操作系统平台部署和迁移，tar打包EDA工具压缩文件，定义镜像描述文件.def，利用singularity build构建EDA工具镜像。
[0015]在一种实施方式中，所述系统镜像制作包括：基于虚拟机安装配置纯净版设计环境操作系统，配置安装EDA工具所需依赖软件和参数并打包文件系统，基于定义的.def配置描述文件，利用singularity build对操作系统进行镜像构建，形成系统镜像。
[0016]在一种实施方式中，所述镜像存储包括：EDA工具镜像和系统镜像采用共享存储方式进行存储，在设计用户环境中挂载EDA工具镜像和系统镜像，镜像制作过程中的EDA工具镜像和系统镜像统一使用镜像仓库存储，并通过singularity push方式提交到镜像仓库，或通过singularity pull方式拉取镜像到本地。
[0017]在一种实施方式中，所述设计环境部署包括：以设计流程或项目为单元，通过描述配置文件方式构建EDA工具镜像和系统镜像逻辑关联，将EDA工具镜像通过mount方式挂载到用户端，拷贝自定义yaml配置文件到用户环境中，用户通过交互设计客户端登录环境。
[0018]在一种实施方式中，所述设计环境运行包括：基于yaml配置文件和环境登入系统客户端，选择所要进入的设计环境，输入enter env_name命令进入设计环境开展设计，完成后通过exit命令退出环境。
[0019]与现有技术相比，本专利技术的跨平台的集成电路设计环境构建方法具有以下有益效果：
[0020](1)对集成电路设计环境提出了一种新的构建模式，改变了以往的物理单机、虚拟机高耦合的部署模式，通过结合singularity技术，提供了一个细粒度单元化且跨平台灵活迁移部署的集成电路设计环境方法；
[0021](2)以singularity技术分别将EDA工具和系统进行镜像化构建，生成可以灵活拷贝迁移的镜像；
[0022](3)共享存储和镜像仓库方式，对生成的镜像文件进行统一存储和管理；
[0023](4)利用yaml文件形成可配置系统变量和环境参数，将EDA工具镜像和系统镜像进行逻辑关联，构建成不依赖底层操作系统的设计环境，通过交互客户端与设计环境进行交互。
附图说明
[0024]图1为容器技术的架构示意图。
[0025]图2为本专利技术提供的一种跨平台的集成电路设计环境构建方法示意图。
具体实施方式
[0026]以下结合附图和具体实施例对本专利技术提出的一种跨平台的集成电路设计环境构
建方法作进一步详细说明。根据下面说明，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。
[0027]为了实现EDA工具的跨平台运行和灵活迁移高效部署，本专利技术提供了一种跨平台的集成电路设计环境构建方法，包括如下步骤：
[0028]第一步，EDA工具镜像制作：
[0029]由于需要实现跨不同操作系统的EDA工具运行，根据设计流程和电路类型确定EDA工具单元组合，将每一个EDA设计工具安装后的工具包进行tar压缩打包，将打包后的EDA工具包放入集中目录下，利用singularity技术读取每一个工具包进行工具镜像构建，形成EDA工具单独的容器化镜像包，并分别推送到可NFS挂载路径进行存储。
[0030]第二步，系统镜像制作：
[0031]系统镜像是针对EDA工具运行环境需要，提供容器化设计环境运行系统。首先利用带有图形界面的iso镜像在空置的物理或虚拟机器上进行操作系统安装，安装后的操作系统进行EDA工具所需依赖软件安装和参数配置。将配置完成的操作系统进行tar压缩打包，将打包的操作系统放入集中目录下，利用singularity技术对操作系统进行镜像构建，形成系统镜像，推送到镜像仓库中进行存储。
[0032]第三步，镜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种跨平台的集成电路设计环境构建方法，其特征在于，包括如下步骤：第一步，EDA工具镜像制作，构建EDA工具镜像能够运行的系统镜像；第二步，系统镜像制作，将配置完成后的操作系统进行镜像化构建，生成系统镜像；第三步，镜像存储，将需要的镜像文件统一集中存储；第四步，设计环境部署，在系统镜像中进行EDA工具环境变量和配置参数的预写入，生成可部署运行的系统镜像；第五步，设计环境运行，利用交互客户端登入环境名称进入设计环境开展设计，使用exit退出环境。2.如权利要求1所述的跨平台的集成电路设计环境构建方法，其特征在于，所述EDA工具镜像制作包括：由于设计环境需要跨操作系统平台部署和迁移，tar打包EDA工具压缩文件，定义镜像描述文件.def，利用singularity build构建EDA工具镜像。3.如权利要求2所述的跨平台的集成电路设计环境构建方法，其特征在于，所述系统镜像制作包括：基于虚拟机安装配置纯净版设计环境操作系统，配置安装EDA工具所需依赖软件和参数并打包文件系统，基于定义的.def配置描述文件，利用singularity bui...

【专利技术属性】
技术研发人员：王勇，张鹏，奚相恺，胡少波，吴迪，朱玲媛，邢嘉林，王君，
申请(专利权)人：中科芯集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：