本申请实施例涉及光学对位技术领域，提供一种光学对位方法及光学对位装置。其中，光学对位方法包括将第一工件和第二工件间隔设置，其中所述第一工件包括第一偏光元件，所述第二工件包括第二偏光元件；获取激光依次经过所述第一工件和所述第二工件后的出射光束的图像；以及判断所述出射光束的图像中是否存在与待检测光斑重叠的鬼影，若所述出射光束的图像中存在鬼影，则调整所述第一工件和所述第二工件的距离，使所述鬼影在所述出射光束的图像中消失；若所述出射光束的图像中不存在鬼影，则检测所述待检测光斑的强度，以判断所述第一工件和所述第二工件是否对位成功。和所述第二工件是否对位成功。和所述第二工件是否对位成功。
【技术实现步骤摘要】
光学对位方法及光学对位装置
[0001]本申请涉及光学对位
，具体而言，涉及一种光学对位方法及光学对位装置。
技术介绍
[0002]偏光元件能够使特定偏振方向的光透过或改变光之偏振态，将两个偏光元件进行贴合时，需要先将两个偏光元件进行对位，以使二者的偏光轴呈预设夹角。通常通过检测激光依次经两个偏光元件后出射光的强度，来判断两个偏光元件是否对位成功。
[0003]然而，现有的光学对位方法中，激光依次经两个偏光元件后的出射光中，既包含形成待检测的光斑的一次穿透光，还包含形成鬼影的多次折返光。因此，现有的光学对位方法中出射光的强度无法真正反应两个偏光元件的偏光轴对位的准确性，导致两个偏光元件的贴合异常。
技术实现思路
[0004]本申请第一方面提供一种光学对位方法。该光学对位方法包括：
[0005]将第一工件和第二工件间隔设置，其中所述第一工件包括第一偏光元件，所述第二工件包括第二偏光元件；
[0006]获取激光依次经过所述第一工件和所述第二工件后的出射光束的图像；以及
[0007]判断所述出射光束的图像中是否存在与待检测光斑重叠的鬼影，若所述出射光束的图像中存在鬼影，则调整所述第一工件和所述第二工件的距离，使所述鬼影在所述出射光束的图像中消失；若所述出射光束的图像中不存在鬼影，则检测所述待检测光斑的强度，以判断所述第一工件和所述第二工件是否对位成功。
[0008]该光学对位方法通过调整第一工件和第二工件的距离，使鬼影在出射光束的图像中消失，可避免鬼影对第一工件和第二工件是否对位成功的影响，提升第一工件和第二工件对位的准确度，避免第一工件和第二工件的贴合异常。
[0009]本申请第二方面提供一种光学对位装置。该光学对位装置包括：
[0010]光源，用于出射激光；
[0011]第一治具，用于固定第一工件，所述第一工件包括第一偏光元件；
[0012]第二治具，用于固定第二工件，所述第二工件包括第二偏光元件，所述激光依次经过所述第一工件和所述第二工件后得到出射光束；
[0013]光学感测器，用于获取所述出射光束的图像，并用于检测所述出射光束的图像中待检测光斑的强度，以判断所述第一工件和所述第二工件是否对位成功；以及
[0014]调整平台，用于在所述出射光束的图像中存在与所述待检测光斑重叠的鬼影时，调整所述第一工件和所述第二工件之间的距离，以使鬼影在所述出射光束的图像中消失。
[0015]该光学对位装置中，调整平台能够在出射光束的图像中存在与所述待检测光斑重叠的鬼影时，调整所述第一工件和所述第二工件之间的距离，以使鬼影在所述出射光束的
图像中消失，可避免鬼影对第一工件和第二工件是否对位成功的影响，提升第一工件和第二工件对位的准确度，避免第一工件和第二工件的贴合异常。
附图说明
[0016]图1为本申请一实施例的光学对位方法的流程示意图。
[0017]图2A和图2B分别为第一工件和第二工件在特定距离时的光路示意图和出射光束的图像示意图。
[0018]图3为光线的入射角度、入射高度及出射角度的示意图。
[0019]图4A至图4G分别为第一工件和第二工件在不同距离下的光路示意图和出射光束的图像示意图。
[0020]主要元件符号说明：
[0021]光学对位装置
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100
[0022]光源
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110
[0023]聚焦透镜
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120
[0024]光学检测器
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130
[0025]第一工件
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210
[0026]第一偏光元件
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211
[0027]透镜
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212
[0028]部分穿透部分反射元件
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213
[0029]第二工件
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220
[0030]第二偏光元件
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222
[0031]光轴
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X
[0032]第一表面
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S1
[0033]第二表面
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S2
[0034]预设角度
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α
[0035]待检测光斑
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P1
[0036]鬼影
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G1、G2
[0037]一次穿透光
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L1
[0038]一次折反射光
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L2
[0039]二次折反射光
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L3
[0040]距离
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D
[0041]如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本申请。
具体实施方式
[0042]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0043]图1为本申请一实施例的光学对位方法的流程示意图。如图1所示，该光学对位方法包括以下步骤S1至S5。
[0044]步骤S1：将第一工件和第二工件间隔设置。
[0045]步骤S2：获取激光依次经过第一工件和第二工件后的出射光束的图像。
[0046]步骤S3：判断出射光束的图像中是否存在与待检测光斑重叠的鬼影。若出射光束的图像中存在鬼影，则执行步骤S4，否则执行步骤S5。
[0047]步骤S4：调整第一工件和第二工件的距离，使鬼影在出射光束的图像中消失。
[0048]步骤S5：检测待检测光斑的强度，以判断第一工件和第二工件是否对位成功。
[0049]以下结合图2A至图4G具体说明。
[0050]具体地，步骤S1中，将第一工件2本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学对位方法，其特征在于，包括：将第一工件和第二工件间隔设置，其中所述第一工件包括第一偏光元件，所述第二工件包括第二偏光元件；获取激光依次经过所述第一工件和所述第二工件后的出射光束的图像；以及判断所述出射光束的图像中是否存在与待检测光斑重叠的鬼影，若所述出射光束的图像中存在鬼影，则调整所述第一工件和所述第二工件的距离，使所述鬼影在所述出射光束的图像中消失；若所述出射光束的图像中不存在鬼影，则检测所述待检测光斑的强度，以判断所述第一工件和所述第二工件是否对位成功。2.根据权利要求1所述的光学对位方法，其特征在于，所述第一工件还包括透镜及部分穿透部分反射元件；所述透镜包括相对的第一表面和第二表面，所述第一偏光元件设置于所述第一表面上，所述部分穿透部分反射元件设置于所述第二表面上。3.根据权利要求2所述的光学对位方法，其特征在于，所述第一偏光元件为相位延迟片，所述第二偏光元件为反射式偏振元件。4.根据权利要求3所述的光学对位方法，其特征在于，调整所述第一工件和所述第二工件的距离的步骤中，调整的为所述部分穿透部分反射元件和所述反射式偏振元件的距离。5.根据权利要求2所述的光学对位方法，其特征在于，所述第一表面为凹面，所述第二表面为凸面；或者，所述第一表面为凸面，所述第二表面为凹面。6...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪凌桂，周蒋云，麦宏全，
申请(专利权)人：业成光电深圳有限公司业成光电无锡有限公司英特盛科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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