一种光掩膜板高精抛光机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光掩膜板高精抛光机，包括底座和滑动模组，底座的两侧均设置有支撑座，其中一个支撑座上设置有直线模组，滑动模组横跨于底座的正上方，并且一端与直线模组滑动连接，一端与另一个支撑座转动连接；滑动模组上设置有X轴移栽板，X轴移栽板上设置有X轴传动模组，X轴传动模组上滑动连接有抛光装置，X轴移栽板的两端均设置有调整装置，并且两个调整装置的旁边分别设置有定位机构和旋转定位装置，大理石底盘上放置有限位环，两个调整装置配合定位机构和旋转定位装置将限位环限位固定。本实用新型专利技术提高了光掩膜板的抛光精度和抛光效率，可以保证光掩膜板表面的平整度一致，提高了光掩膜板生产的良品率。提高了光掩膜板生产的良品率。提高了光掩膜板生产的良品率。

【技术实现步骤摘要】
一种光掩膜板高精抛光机


[0001]本技术涉及抛光机
，特别是一种光掩膜板高精抛光机。

技术介绍

[0002]半导体的生产过程中需要用到一种耗材，即光掩膜板，光掩膜板是一种硬面光掩膜材料，即光掩膜基板，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料(相当于照相用的感光胶卷)。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬
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氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。它主要通过曝光显影将光掩膜板的图形精确复制到产品上。光掩膜板的表面如果不平整，则光掩膜板投影的图案会发生变化，制造出来的产品会有严重的缺陷，从而导致报废，造成损失，因此光掩膜板在加工过程中需要对其表面进行抛光。
[0003]光掩膜板抛光后要求表面粗糙度要一致，如果基板表面的某一部分抛光不充分或者有划痕等缺陷，就会影响光掩膜板的使用效果。目前的抛光方式在抛光时存在死角，抛光精度不够高，而且在抛光的过程中需要人工不停的对抛光液进行补偿，如果抛光液没有及时补偿会导致抛光不充分，并且本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光掩膜板高精抛光机，包括底座(1)和滑动模组(3)，所述底座(1)的两侧均设置有支撑座(2)，其特征在于，其中一个支撑座(2)上设置有直线模组(7)，所述滑动模组(3)横跨于底座(1)的正上方，并且一端与所述直线模组(7)滑动连接，一端与另一个支撑座(2)转动连接；所述底座(1)上设置有大理石底盘(5)，所述底座(1)的底部设置有用于驱动大理石底盘(5)转动的转动装置(4)；所述滑动模组(3)上设置有X轴移栽板(6)，所述X轴移栽板(6)上设置有X轴传动模组(17)，所述X轴传动模组(17)上滑动连接有抛光装置(10)，所述X轴移栽板(6)的两端均设置有调整装置(13)，并且两个调整装置(13)的旁边分别设置有定位机构(14)和旋转定位装置(15)，所述大理石底盘(5)上放置有限位环(9)，两个调整装置(13)配合定位机构(14)和旋转定位装置(15)将限位环(9)限位固定。2.根据权利要求1所述的一种光掩膜板高精抛光机，其特征在于，所述X轴传动模组(17)包括丝杆传动组件(171)、以及设置于X轴移栽板(6)上下侧的滑轨(172)，所述抛光装置(10)通过滑块与两个滑轨(172)滑动连接，并且通过丝杆与所述丝杆传动组件(171)传动连接。3.根据权利要求1所述的一种光掩膜板高精抛光机，其特征在于，所述直线模组(...

【专利技术属性】
技术研发人员：王炫铭，
申请(专利权)人：苏州安田丰科技有限公司，
类型：新型
国别省市：