一种用于薄膜基材的水电镀设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种用于薄膜基材的水电镀设备，其包括：串联设置的若干电镀槽，电镀槽的内部设置有电镀阳极、以及分别设置在电镀阳极两侧的第一过辊和第二过辊，电镀阳极横向设置；一个或多个导电辊，设置在每两个相邻的电镀槽之间，薄膜基材从所述导电辊的左侧接触绕过，并从所述导电辊的右侧接触绕出；放卷装置和收卷装置，分别用于对待电镀的薄膜基材进行放卷以及对电镀后的薄膜基材进行收卷。本实用新型专利技术实施例能够增加薄膜基材与导电辊的接触面积，提高电镀的效率与电镀质量。提高电镀的效率与电镀质量。提高电镀的效率与电镀质量。

【技术实现步骤摘要】
一种用于薄膜基材的水电镀设备


[0001]本技术涉及电镀
，具体涉及一种用于薄膜基材的水电镀设备。

技术介绍

[0002]水电镀是一种电离子沉积过程，是利用电极通过电流，使金属附着在物体表面上，其目的为改变物体表面的特性或尺寸。但是，在现有的电镀设备中，薄膜基材在整个电镀设备中的行进路径为直线，例如专利号为CN212451694U的技术专利中，薄膜在走膜路径上为直线，这样就导致了薄膜基材与导电辊的接触面积很小，例如宽度只有10mm左右，接触面较小会导致导电能力较差，直接影响电镀效率和电镀质量。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本技术实施例的目的在于提供一种用于薄膜基材的水电镀设备，以解现薄膜基材与导电辊的接触面积很小导致的导电能力差的技术问题。
[0004]为达上述目的，本技术实施例提供了一种用于薄膜基材的水电镀设备，所述水电镀设备包括：
[0005]串联设置的若干电镀槽，所述电镀槽的内部设置有电镀阳极、以及分别设置在所述电镀阳极前后两侧的第一过辊和第二过辊，所述电镀阳极横向设置；
[0006]一个或多个导电辊，设置在每两个相邻的所述电镀槽之间，薄膜基材从所述导电辊的左侧接触绕过，并从所述导电辊的右侧接触绕出；
[0007]放卷装置和收卷装置，分别用于对待电镀的薄膜基材进行放卷以及对电镀后的薄膜基材进行收卷。
[0008]在一些可能的实施方式中，所述水电镀设备还包括：
[0009]一个或多个第三过辊，设置在每两个相邻的所述电镀槽之间，所述第三过辊的个数与所述导电辊的个数之和为奇数。
[0010]在一些可能的实施方式中，所述第三过辊、所述导电辊、所述第一过辊和所述第二过辊均在同一水平线上。
[0011]在一些可能的实施方式中，所述第三过辊设置于所述导电辊的两侧，所述第三过辊和所述导电辊均高于所述第一过辊和所述第二过辊。
[0012]在一些可能的实施方式中，所述第三过辊设置于所述导电辊的任意一侧，所述第三过辊和所述导电辊均高于所述第一过辊和所述第二过辊。
[0013]在一些可能的实施方式中，所述第三过辊与所述导电辊交替设置，所述第三过辊和所述导电辊均高于所述第一过辊和所述第二过辊。
[0014]在一些可能的实施方式中，在所述第三过辊上设置有张力传感器，所述张力传感器与所述第三过辊的驱动电机控制器电连接，用于检测所述薄膜基材的张力。
[0015]在一些可能的实施方式中，所述电镀阳极为钛蓝，所述钛蓝的个数为两个，且两个所述钛蓝上下对称设置。
[0016]在一些可能的实施方式中，所述第一过辊的个数为两个，且两个所述第一过辊上下滚动接触；
[0017]所述第二过辊的个数为两个，且两个所述第二过辊上下滚动接触。
[0018]在一些可能的实施方式中，所述导电辊、所述第一过辊、所述第二过辊和所述第三过辊均为主动辊或从动辊。
[0019]上述技术方案的有益技术效果在于：
[0020]本技术实施例提供的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其包括：串联设置的若干电镀槽，电镀槽的内部设置有电镀阳极、以及分别设置在电镀阳极两侧的第一过辊和第二过辊，电镀阳极横向设置；一个或多个导电辊，设置在每两个相邻的电镀槽之间，薄膜基材从所述导电辊的左侧接触绕过，并从所述导电辊的右侧接触绕出；放卷装置和收卷装置，分别用于对待电镀的薄膜基材进行放卷以及对电镀后的薄膜基材进行收卷。本技术实施例能够增加薄膜基材与导电辊的接触面积，提高电镀的效率与电镀质量。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1是本技术实施例的第一种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；
[0023]图2是本技术实施例的第二种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；
[0024]图3是本技术实施例的第三种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；
[0025]图4是本技术实施例的第四种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；
[0026]图5是本技术实施例的第五种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；
[0027]图6是本技术实施例的第六种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图；
[0028]图7是本技术实施例的第七种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图。
[0029]附图标号说明：
[0030]1、电镀槽；11、电镀阳极；12、第一过辊；13、第二过辊；
[0031]2、导电辊；
[0032]3、放卷装置；
[0033]4、收卷装置；
[0034]5、薄膜基材；
[0035]6、第三过辊。
具体实施方式
[0036]下面将详细描述本技术的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本技术的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本技术可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本技术的示例来提供对本技术的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本实
用新型造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。
[0037]图1是本技术实施例的第一种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图，如图1所示，该第一种水电镀设备包括：串联设置的若干电镀槽1，电镀槽1的内部设置有电镀阳极11、在每个电镀槽1内还设置有第一过辊12和第二过辊13，分别位于电镀阳极11的两侧并且隔开一定距离，电镀阳极11横向设置在电镀槽1中，在电镀过程中提供阳极电，第一过辊12和第二过辊13用于对薄膜基材5进行导向；一个或多个导电辊2，设置在每两个相邻的电镀槽1之间，薄膜基材5从导电辊2的左侧绕过，又从导电辊2的右侧绕出，这样在走膜过程中，薄膜基材5在第二过辊13和导电辊2之间成一定的角度走带，增加了薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积；导电辊2作为电镀阴极，薄膜基材5绕过导电辊2时，包角增大，与导电辊2的接出面积会增大，宽度可达到50mm左右，提升接触面的导电能力，相应的，可以在导电辊2上增加更大的电流，提高电镀效率。另外，该水电镀设备还包括放卷装置3和收卷装置4，分别用于对待电镀的薄膜基材5进行放卷以及对电镀后的薄膜基材5进行收卷。
[0038]本技术实施例能够增加薄膜基材5与导电辊2之间的接触面积，不仅可以提高电镀的效率，还可以提高电镀质量。
[0039]图2是本技术实施例的第二种用于薄膜基材的水电镀设备的示意图，如图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，所述水电镀设备包括：若干电镀槽(1)，所述电镀槽(1)的内部设置有电镀阳极(11)以及分别设置在所述电镀阳极(11)前后两侧的第一过辊(12)和第二过辊(13)，所述电镀阳极(11)横向设置；一个或多个导电辊(2)，设置在每两个相邻的所述电镀槽(1)之间，薄膜基材(5)从所述导电辊(2)的左侧接触绕过，并从所述导电辊(2)的右侧接触绕出；放卷装置(3)和收卷装置(4)，分别用于对待电镀的薄膜基材(5)进行放卷以及对电镀后的薄膜基材(5)进行收卷。2.根据权利要求1所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，所述水电镀设备还包括：一个或多个第三过辊(6)，设置在每两个相邻的所述电镀槽(1)之间，所述第三过辊(6)的个数与所述导电辊(2)的个数之和为奇数。3.根据权利要求2所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，所述第三过辊(6)、所述导电辊(2)、所述第一过辊(12)和所述第二过辊(13)均在同一水平线上。4.根据权利要求2所述的一种用于薄膜基材的水电镀设备，其特征在于，所述第三过辊(6)设置于所述导电辊(2)的两侧，所述第三过辊(6)和所述导电辊(2)均高于所述第一过辊(12)和所述第二过辊(13)。5.根据权利要求2所述的一种用于薄膜基...

【专利技术属性】
技术研发人员：臧世伟，
申请(专利权)人：重庆金美新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：